CN205556765U - 一种真空离子蒸发镀膜装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种真空离子蒸发镀膜装置,该真空离子蒸发镀膜装置的壳体包括三层密封壳体,并在不同密封壳体之间设置有夹层空腔,在不同的夹层空腔内和在壳体外分别设置了真空泵,通过逐层抽真空的方式对中央真空室进行抽真空,大大提高了抽真空的效果,从而使本真空离子蒸发镀膜装置能够制得连续薄膜,提高薄膜在基板上的附着力,以及工艺重复性。

Description

一种真空离子蒸发镀膜装置
技术领域
本实用新型涉及光学镀膜领域,特别是涉及一种真空离子蒸发镀膜装置。
背景技术
真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。其被广泛应用于生产光学镜片,如航海望远镜镜片等;后延伸到其他功能薄膜,唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。真空蒸发镀膜是在真空室中,加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到待镀膜固体上,即衬底或基片表面,从而凝结形成固态薄膜的方法。现有的真空蒸发镀膜装置具有结构简单,操作容易,制成的薄膜纯度高等优点。但在蒸发镀膜过程都必须在空气非常稀薄的环境中进行,而现有的真空离子蒸发镀膜装置是在真空室内的底部(坩埚旁)设置通向泵来抽真空,不仅抽真空效果不佳,还会影响蒸发容器中逸出的蒸气流的流动方向,从而使蒸发物原子或分子将与大量空气分子碰撞,使膜层受到严重污染,甚至形成氧化物,并由于空气分子的碰撞阻挡,难以获得连续薄膜,所形成的薄膜在基板上的附着力较小,工艺重复性不佳。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题,一种真空离子蒸发镀膜装置,用于解决现有真空离子蒸发镀膜过程中真空条件不佳,难于得到连续薄膜以及薄膜在基板上的附着力较小,工艺重复性不佳的问题。
本实用新型是这样实现的:
一种真空离子蒸发镀膜装置,包括壳体、抽真空装置和坩埚,所述壳体由外至内依次包括外层壳体、中层壳体和内层壳体,所述外层壳体、中层壳体和内层壳体为密封壳体,内层壳体围成中央真空室,内层壳体与中层壳体围成第一夹层空腔,中层壳体与外层壳体围成第二夹层空腔;
所述抽真空装置包括第一真空泵、第二真空泵、第三真空泵和多个用于检测真空值的真空压力传感器,所述中央真空室、第一夹层空腔和第二夹层空腔内分别设置有所述真空压力传感器;
第一真空泵设置于第一夹层空腔内,并通过密封管道与中央真空室连通;
第二真空泵设置于第二夹层空腔内,并通过密封管道与第一夹层空腔连通;
第三真空泵设置于外层壳体外,并通过密封管道与第二夹层空腔连通;
所述坩埚设置于中央真空室的底部,坩埚的底部设置有加热装置,坩埚的上方设置有用于夹装镀膜基材的固定装置。
进一步的,中央真空室的顶部设置有两个以上抽气口,第一真空泵的密封管道连接于各抽气口。
进一步的,所述加热装置为钨丝。
进一步的,所述密封管道中分别串联有单向阀。
进一步的,所述固定装置的基材固定面设置有半导体制冷片,半导体制冷片的制冷面朝向基材夹装方向。
本实用新型具有如下优点:区别于现有的离子蒸发镀膜装置采用单一真空泵抽真空,真空效果不佳,难以获得连续薄膜,所形成的薄膜在基板上的附着力较小,工艺重复性不佳。本实用新型真空离子蒸发镀膜装置的壳体采用三层密封壳体,并在壳体之间设置有夹层空腔,并且在不同的夹层空腔内和在壳体外分别设置了真空泵,通过逐层抽真空的方式对中央真空室进行抽真空,大大提高了抽真空的效果,从而使本真空离子蒸发镀膜装置能够制得连续薄膜,提高薄膜在基板上的附着力,以及工艺重复性。
附图说明
图1为本实用新型实施方式真空离子蒸发镀膜装置的结构示意图;
标号说明:
1、壳体;2、坩埚;3、抽真空装置;4、基材;5、固定装置;11、外层壳体;12、中层壳体;13、内层壳体;14、进料通道;15、舱门31、第一真空泵;32、第二真空泵;33、第三真空泵;34、真空压力传感器;111、中央真空室;121、第一夹层空腔;131、第二夹层空腔。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图详予说明。
请参阅图1,本实用新型提供了一种真空离子蒸发镀膜装置,包括壳体1、抽真空装置3和坩埚2,所述壳体1由外至内依次包括外层壳体11、中层壳体12和内层壳体13,所述外层壳体11、中层壳体12和内层壳体13为密封壳体,内层壳体13围成中央真空室111,内层壳体13的内侧面设置有内衬,内层壳体13与中层壳体12围成第一夹层空腔121,中层壳体12与外层壳体11围成第二夹层空腔131。为了便于进出料,在壳体1的侧面设置有贯穿外层壳体11、中层壳体12和内层壳体13的进料通道14,在进料通道14上设置有舱门15,舱门15上设置有密封橡胶。
所述抽真空装置3包括第一真空泵31、第二真空泵32、第三真空泵33和多个用于检测真空值的真空压力传感器34,所述中央真空室111、第一夹层空腔121和第二夹层空腔131内分别设置有所述真空压力传感器34。真空压力传感器34用于检测所在空间的真空值。
所述第一真空泵31设置于第一夹层空腔121内,并通过密封管道与中央真空室111连通,用于对中央真空室111抽真空;第二真空泵32设置于第二夹层空腔131内,并通过密封管道与第一夹层空腔121连通,用于对第一夹层空腔121抽真空;第三真空泵33设置于外层壳体11外,并通过密封管道与第二夹层空腔131连通,用于对第二夹层空腔131抽真空。
所述坩埚2设置于中央真空室111的底部,坩埚2的底部设置有加热装置,坩埚2的上方设置有用于夹装镀膜基材的固定装置5,镀膜基材4夹装于固定装置5上。优选的,所述加热装置为耐高温的钨丝,钨丝通过导线连接于电源。
待形成薄膜的原材料放置于坩埚2上,在加热装置的作用下,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到待镀膜基材表面,凝结形成固态薄膜。
本实用新型真空离子蒸发镀膜装置的壳体采用三层密封壳体,并在壳体之间设置有夹层空腔,并且在不同的夹层空腔内和在壳体外分别设置了真空泵,使每个夹层空腔维持在不同的真空值(中央真空室>第一夹层空腔>第二夹层空腔),降低了各级真空泵的抽真空压力差,通过逐层抽真空的方式对中央真空室进行抽真空,大大提高了抽真空的效果,从而使本真空离子蒸发镀膜装置能够制得连续薄膜,提高薄膜在基板上的附着力,以及工艺重复性。
为了防止抽真空装置对蒸气流的干扰,在本实施方式中,所述中央真空室111的顶部设置有两个以上抽气口,第一真空泵31的密封管道连接于各抽气口。
进一步的,为了提高真空泵停止工作时密封管道的气密性,所述密封管道中分别串联有单向阀。
由于薄膜的原材料的蒸气流带有较高的温度,从而使基材4的温度也逐渐变高,不利于蒸气流凝结成膜。因此,在一实施方式中,在所述固定装置的基材固定面设置有半导体制冷片,半导体制冷片的制冷面朝向基材夹装方向。从而通过半导体制冷片的作用降低基材4的温度,提高蒸气流凝结成膜的效果。为了提高半导体制冷片的制冷效果,在半导体制冷片的发热面还设置了导热材料(如铜),通过导热材料连接于内层壳体,从而使半导体制冷片发热面的温度传递至内层壳体上。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效形状或结构变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (5)

1.一种真空离子蒸发镀膜装置,包括壳体、抽真空装置和坩埚,其特征在于,所述壳体由外至内依次包括外层壳体、中层壳体和内层壳体,所述外层壳体、中层壳体和内层壳体为密封壳体,内层壳体围成中央真空室,内层壳体与中层壳体围成第一夹层空腔,中层壳体与外层壳体围成第二夹层空腔;
所述抽真空装置包括第一真空泵、第二真空泵、第三真空泵和多个用于检测真空值的真空压力传感器,所述中央真空室、第一夹层空腔和第二夹层空腔内分别设置有所述真空压力传感器;
第一真空泵设置于第一夹层空腔内,并通过密封管道与中央真空室连通;
第二真空泵设置于第二夹层空腔内,并通过密封管道与第一夹层空腔连通;
第三真空泵设置于外层壳体外,并通过密封管道与第二夹层空腔连通;
所述坩埚设置于中央真空室的底部,坩埚的底部设置有加热装置,坩埚的上方设置有用于夹装镀膜基材的固定装置。
2.根据权利要求1所述的真空离子蒸发镀膜装置,其特征在于,中央真空室的顶部设置有两个以上抽气口,第一真空泵的密封管道连接于各抽气口。
3.根据权利要求1所述的真空离子蒸发镀膜装置,其特征在于,所述加热装置为钨丝。
4.根据权利要求1所述的真空离子蒸发镀膜装置,其特征在于,所述密封管道中分别串联有单向阀。
5.根据权利要求1所述的真空离子蒸发镀膜装置,其特征在于,所述固定装置的基材固定面设置有半导体制冷片,半导体制冷片的制冷面朝向基材夹装方向。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109958838A (zh) * 2019-04-19 2019-07-02 张家港保税区蓝山装备科技有限公司 提高容器保温性能的方法及新型双层绝热保温结构
CN112695278A (zh) * 2020-12-31 2021-04-23 福建省将乐县长兴电子有限公司 一种真空镀膜加工装置
CN113061846A (zh) * 2021-03-16 2021-07-02 重庆大学 真空镀膜器

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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