CN205462125U - 药物合成装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种药物合成装置，包括正压室和负压室，其中正压室内具有高于大气压的第一气压，负压室具有低于第一气压的第二气压，负压室不仅起到阻止药物合成装置外部的杂质进入药物合成环境中，负压室中的第二气压和正压室中的第一气压的压力差使药物合成环境中及附近的杂质向远离药物合成环境的方向移动，进一步净化了正压室构成的药物合成环境；正压室和负压室上的过滤器能够过滤排出所述药物合成装置的气体，不仅抑制了药物扩散至药物合成装置外部对环境造成危害，过滤的药物还可以二次回收利用。

Description

药物合成装置

技术领域

本实用新型涉及一种药物合成装置，尤其是一种具有清洁功能的药物合成装置。

背景技术

药物合成过程中如果混入杂质将会严重影响药物质量而达不到药物质量标准，药物还包括放射性药物，在放射性药物合成过程中，放射性射线将会危害环境或操作人员的健康，为解决药物合成过程中被污染的问题和防止放射性药物的危害，目前常用的方法是在密闭的具有一定清洁度的环境中完成药物的合成过程。

一般情况下，提供该密闭环境的密闭装置具有放入原料或取出药物的开口部，在药物合成过程中外部的杂质会通过开口部和密闭装置的间隙进入该密闭环境中，从而会污染合成的药物；同样的，药物/放射性物质/杂质会通过开口部和密闭装置的间隙渗出该密闭环境，一方面会造成药物的损失，另一方面渗出的药物/放射性物质可能会危害环境或操作人员的健康，渗出的异物可能会影响环境的清洁度，目前尚未发现有针对提高药物合成清洁度并防止药物泄露至药物合成室以外的技术。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种药物合成装置，所述药物合成装置一方面通过抑制药物合成装置外部的杂质进入所述药物合成装置内从而有效提高合成药物的清洁度；另一方面有效抑制药物从药物合成装置扩散出去，不仅能够降低药物的损失，还可以防止扩散出去的药物/放射性物质对环境和操作人员造成危害。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种药物合成装置，所述药物合成装置包括正压室和负压室，其中正压室是由相互连接的壁构成的箱体，所述正压室的正面壁上设置有第一开口部，所述正压室的内部设置有用于合成和容纳药物的药物合成组件，所述正压室的内部具有高于大气压的第一气压；负压室位于正压室的外部，并且至少覆盖第一开口部，所述负压室内具有低于第一气压的第二气压，正压室内的气体通过压力差进入负压室。

其中，药物合成过程发生在所述正压室内，正压室具有高于大气压的第一气压，因此可以抑制所述药物合成装置外部的杂质进入正压室内，从而避免了杂质对药物的污染；所述负压室至少覆盖第一开口部，相对于外部环境中的杂质可以直接接触第一开口部与正面壁之间的缝隙而有可能直接进入正压室内，负压室一方面起到阻挡杂质的第一屏障的作用，另一方面，可以通过控制负压室内的第二气压以增加第一气压和第二气压之间的压力差，以增加缝隙中存在的杂质进入负压室的压力，从而更进一步地避免了药物合成过程中受到污染。负压室除了可以仅覆盖第一开口部而阻止杂质从第一开口部与正面壁之间的缝隙进入正压室外，本领域技术人员熟知地，负压室被这样的设置：一方面能够避免将正压室内的杂质扩散到外部环境；另一方面避免将外部环境的杂质渗入到正压室。因此，负压室还可以作为一个连通的结构覆盖正压室其他有缝隙的地方，甚至可以根据实际应用的需要，负压室全包围整个正压室。

进一步地，所述正压室和负压室之间设置有一个邻接于所述正面壁的独立空间，正压室内的气体通过所述独立空间进入负压室内。

所述独立空间有继负压室作为第一屏障后更进一步地阻挡药物合成装置外部杂质进入所述正压室的第二屏障的作用，所述独立空间内的气压可以为第一气压，也可以为高于第二气压但低于第一气压的第三气压，由此可以抑制外界的杂质通过压力差进入正压室内，从而避免了药物合成过程中受到污染。所述独立空间靠近负压室并和所述正面壁平行的壁上设置第二开口部，所述第二开口部不仅可以用来向正压室放入原料或从正压室取出药物，也可以使正压室流入所述独立空间的气体根据独立空间和负压室的压力差通过第二开口部和与其邻接的壁之间的缝隙流入负压室。

更进一步地，所述药物合成装置中，所述正压室具有排气口，用于排出正压室内的气体，以避免正压室内压力过大而降低设备使用期限，需要说明的是，虽然正压室具有排气口，但是正压室内仍需要维持高于大气压的第一气压。

优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室具有：

升压机构，用于增加正压室内部的压力；和

第一过滤器，用于净化升压机构注入正压室的气体。

其中升压机构具有使所述正压室维持高于大气压的第一气压的作用，为了避免药物合成过程中药物被由升压机构注入正压室的气体污染，在气体被注入正压室之前需要通过第一过滤器除去杂质达到一定的洁净级别后再注入正压室。

优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室的排气口上连接有限压阀和第二过滤器，限压阀用于控制正压室内的压力，在维持正压室内的第一气压高于大气压的同时，降低第一气压对正压室结构的损害；而第二过滤器用于过滤通过限压阀排出的气体，避免药物颗粒从所述排气口排出药物合成装置而污染环境或对操作人员造成危害，并且第二过滤器过滤下来的药物可以通过物理或化学的处理继续利用，降低药物的流失。

优选的是，所述药物合成装置中，所述负压室具有减压机构和与减压机构连接的第三过滤器，所述减压机构包括气体减压阀、抽气泵或排气用的鼓风机，用以使负压室的第二气压低于正压室内的第一气压，第三过滤器用于过滤通过减压机构排出的气体。

负压室上与减压机构连接的第三过滤器可以过滤渗入负压室内的药物，防止药物泄露至药物合成装置外部，并且所述第三过滤器过滤下的药物颗粒可以通过二次回收而降低药物的流失，减少浪费。

其中优选的是，所述药物合成装置中，所述第二气压低于大气压，当第二气压高于第一气压时可以使负压室内的气体向药物合成装置外部流动，避免杂质通过负压室进入正压室；当第二气压低于第一气压时，正压室和负压室的压力差变大，能更好的抑制杂质从负压室进入正压室污染药物。

优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室的排气口与负压室连通，使正压室与负压室共用一个减压机构，用以将正压室内的气体排放到负压室内。正压室内的气体分别经过位于正压室排气口处的第一过滤器第一次过滤和经过位于负压室第二过滤器的第二次过滤使排出药物合成装置的气体更纯净，提高药物的二次回收程度。

优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室的排气口位于负压室外部，使正压室与负压室设置有相互独立的减压机构，用以分别将正压室和负压室内的气体排放出去。独立的排气途径和减压机构可以使所述药物合成装置的维修更加方便。

优选的是，所述药物合成装置中，构成所述正压室的相互连接壁包括正面壁、背面壁、左侧壁、右侧壁、顶壁和底壁，其中正面壁和背面壁分别与顶壁、右侧壁、底壁和左侧壁相连；所述负压室覆盖所有构成所述正压室的相互连接的壁。本领域技术人员熟知地，负压室也可以只覆盖上述六壁中的至少两个壁。

当负压室覆盖所有构成所述正压室的相互连接的壁时，能够避免在正压室内的压力小于或等于大气压时，药物合成装置外部的杂质从所述相互连接的壁之间的缝隙进入正压室而污染正压室内的药物，起到进一步净化的作用。

优选的是，所述药物合成装置中，构成所述正压室或所述负压室的壁由能够抑制放射性射线穿透的放射线屏蔽材料组成。合成放射性药物时除了需要通过过滤器抑制放射性药物颗粒渗出药物合成装置外，还需要抑制正压室内的放射性药物的射线穿透药物合成装置的壁而对周围环境造成危害，而用放射线屏蔽材料做正压室或负压室的壁可以有效的解决放射性射线泄露的问题。

本实用新型通过正压室和负压室室内的压力差来实现净化药物合成环境的效果，并且通过分别在正压室的排气口和负压室的减压阀处设置过滤器来实现药物颗粒的二次回收，在防止药物或放射性物质泄露造成环境污染的同时还能降低药物的流失。本实用新型提供的技术方案可以有效的解决现有技术中药物合成过程中容易出现药物泄露以及药物污染的问题。

附图说明

图1为药物合成装置的侧面剖视示意图。

图2为药物合成装置的正面剖视示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进一步描述，应当理解，下文中的描述仅为说明性的，而非限制性的。

如图1和图2所示，所述药物合成装置包括有正压室100、负压室200和位于正压室和负压室中间的独立空间300，正压室100是由相互连接的壁120构成的箱体，用以作为药物合成的空间，这些相互连接的壁120分别为正面壁155、背面壁157、左侧壁154、右侧壁152、顶壁151和底壁153，其中正面壁155上有第一开口部156。所述箱体内部可以根据需要由透气的材料隔断成不同的空间以充分利用该箱体合成药物，每个空间里可以根据需要设置有药物合成组件130用以提供药物合成的环境。正压室100内具有高于大气压的第一气压，为了维持正压室100内的气压，在本实施例的技术方案中，正压室具有升压机构111和第一过滤器112，其中升压机构111用以对所述正压室100进行加压以维持正压室100内高于大气压的第一气压，第一过滤器112用于过滤升压机构111注入正压室100内的气体，以维持正压室100内的洁净级别。与升压机构111相对应，正压室还具有排气口140，排气口140上有限压阀141和第二过滤器142，其中，限压阀141和第二过滤器142的位置可以根据实际应用进行调换。排气口140的作用是通过限压阀141使正压室内维持一定压力，当正压室100内压力过大时，排气口140上的限压阀141可以排放部分气体，以提高药物合成装置的使用期限，排气口140上的第二过滤器142具有收集限压阀141排出的气体里的药物的作用，一方面防止药物130泄露至药物合成装置外部的环境中对环境的污染，另一方面，第二过滤器142过滤下来的药物通过二次回收可以防止药物的流失。另外，通过正压室正面壁155上的第一开口部156可以向正压室100内放入合成药物的原料或从正压室内取出已经合成的药物。正压室100外部的杂质可能通过正压室正面壁155与第一开口部156之间的缝隙以及构成正压室的相互连接的壁120之间的缝隙进入正压室，但是正压室具有高于外部气压的第一气压，因此，即便正压室存在如上所述的缝隙，正压室外部的杂质也不会通过所述缝隙进入正压室内污染药物合成环境。

为了防止杂质通过正压室的相互连接的壁120之间的缝隙进入正压室100，本实施例中负压室200不仅覆盖了第一开口部156，而且包围了整个正压室100，也就是说负压室200覆盖了构成正压室100的六个壁120；在负压室200作为正压室100的屏障使用之前可以先对负压室200进行净化，除去其中杂质，当负压室200内的杂质浓度低于外部环境杂质的浓度时，负压室200首先起到了净化正压室100内部环境的屏障的作用；负压室200具有减压机构211和第三过滤器212，减压机构211和第三过滤器212的位置可以根据实际应用的需要进行更换，其中减压机构211用于使负压室内的第二气压低于正压室内的第一气压，优选地，减压机构211使第二气压低于大气压以增加正压室100和负压室200之间的压力差，从而更好的避免了杂质通过上述缝隙进入正压室100内。构成负压室200连通空间的壁可以是独立于正压室和独立空间以外的壁，也可以直接利用正压室和独立空间的壁作为负压室壁的一部分。另外，位于正压室和负压室中间的独立空间300起到类似于负压室的屏障的作用。

本实施例的技术方案中正压室的排气口140和负压室200连通，从正压室排气口140排出的气体可以经过负压室中与减压机构211连接的第三过滤器212再次过滤，进一步避免了正压室内的药物随着气流排出药物合成装置。正压室的排气口140也可以根据实际应用的需要设置在负压室200外部(省略图示)。

药物合成装置合成放射性药物时，除了需要通过三个过滤器过滤放射性药物颗粒以避免放射性药物扩散到空气中对环境造成危害外，还需要用放射线屏蔽材料作为正压室、独立空间或负压室的壁，以避免放射性射线透过药物合成装置对环境或操作人员造成危害。

本实用新型通过提供一个具有第一气压的正压室以及可以操控其内部气压以使其内部气压低于第一气压的负压室来为药物合成提供一个更加洁净的环境，并通过分别位于正压室和负压室上的三个过滤器过滤排出的气体中的药物，以免药物污染药物合成装置外部的环境。

本实用新型揭示的药物合成装置并不局限于以上实施例所述的内容以及附图所表示的结构。在本实用新型的基础上对其中构件的材料、形状及位置所做的显而易见地改变、替代或者修改，都在本实用新型要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种药物合成装置，其特征在于：所述药物合成装置包括正压室和负压室，其中正压室是由相互连接的壁构成的箱体，所述正压室的正面壁上设置有第一开口部，所述正压室的内部设置有用于合成和容纳药物的药物合成组件，所述正压室的内部具有高于大气压的第一气压；负压室位于正压室的外部，并且至少覆盖第一开口部，所述负压室内具有低于第一气压的第二气压，正压室内的气体通过压力差进入负压室。

2.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室和负压室之间设置有一个邻接于所述正面壁的独立空间，正压室内的气体通过所述独立空间进入负压室内。

3.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室具有排气口，用于排出正压室内的气体。

4.如权利要求1～3任一项所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室具有：升压机构，用于增加正压室内部的压力；和第一过滤器，用于净化升压机构注入正压室的气体。

5.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口上连接有限压阀和第二过滤器，限压阀用于控制正压室内的压力，第二过滤器用于过滤通过限压阀排出的气体。

6.如权利要求1～3任一项所述的药物合成装置，其特征在于，所述负压室具有减压机构和与减压机构连接的第三过滤器，所述减压机构包括气体减压阀、抽气泵或排气用的鼓风机，用以使负压室的第二气压低于正压室内的第一气压，第三过滤器用于过滤通过减压机构排出的气体。

7.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口与负压室连通，使正压室与负压室共用一个减压机构，用以将正压室内的气体排放到负压室内。

8.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口位于负压室外部，使正压室与负压室设置有相互独立的减压机构，用以分别将正压室和负压室内的气体排放出去。

9.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，构成所述正压室的相互连接壁包括正面壁、背面壁、左侧壁、右侧壁、顶壁和底壁，其中正面壁和背面壁分别与顶壁、右侧壁、底壁和左侧壁相连；所述负压室覆盖所有构成所述正压室的相互连接的壁。

10.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，构成所述正压室或所述负压室的壁由能够抑制放射性射线穿透的放射线屏蔽材料组成。