CN205420540U - 多辊多室卷绕镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种多辊多室卷绕镀膜装置，包括多个相互独立的真空室，多个真空室包括放卷室、收卷室和至少一个镀膜室，放卷室和收卷室分别设于镀膜室的两侧，任意两个相邻的真空室之间设有真空锁；镀膜室内设有呈上下分布的多个水冷鼓，每个水冷鼓的一侧至少分布有两个溅射靶，每个溅射靶外周设有靶罩，靶罩底部与水冷鼓表面之间设有供卷绕基材通过用的间隙，每个靶罩内形成独立的溅射室。本实用新型实现相邻镀膜室内的镀膜工艺完全隔离，可根据膜层数量和膜层种类的不同而对镀膜室进行设置，在一个工作周期内完成多层复合膜的镀制，也实现了溅射区域间的气氛隔离，避免串气现象，从而提高产品质量。

Description

多辊多室卷绕镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及卷材表面镀膜技术领域，特别涉及一种多辊多室卷绕镀膜装置。

背景技术

柔性智能电致变色膜是一种的新型电致变色材料，它在电场作用下具有光吸收透过的可调节性，可选择地吸收或反射外界的热辐射和内部的热扩散，减少夏季保持凉爽和冬季保持温暖而必须消耗的大量能源，同时起到改善自然光照程度、防窥的目的。目前常用于智能窗、防炫目后视镜、高档轿车和飞机上的调光玻璃等变色用途，是一种市场需求量较大的产品。

对于柔性智能电致、光致、热致变色膜的加工，传统的方式是采用单面镀膜，需双面镀膜时，将工件镀完一面后再取出复卷后放入真空室再镀另一面，该方式的生产周期长，生产效率低，成本高。目前也有在同一真空环境中，采用卧式水平安装双水冷鼓的方式来加工的方法，但由于同一真空环境中，不同的镀膜区域之间会出现溅射绕射，因此会出现污染相邻靶材的现象，导致膜层质量不高，且双水冷鼓水平摆放，溅射靶位于水冷鼓下方，镀膜过程中会有膜层掉落靶材表面，导致二次污染，产品质量无法提高，产品市场竞争力不强。

在现有的挠性线路板镀膜设备中，都是采用将水冷鼓、收卷辊、放卷辊等机构置于同一真空室内的形式。这就使得在加工过程中，每镀一炉就需要破真空一次，收卷辊、放卷辊与镀膜区域都处于大气状态下，这样镀膜区域会吸附水蒸气及空气中的粉尘而造成污染，因此难以得到高品质膜层。另外，镀膜室每炉都需重新抽真空，镀膜周期加长，生产效率低。同时，因破真空后，每镀一炉都需重新充入反应气体或保护气体，加工成本高。

在现有的挠性线路板镀膜设备中，都是采用溅射靶围绕水冷鼓来进行膜层镀制，各溅射靶处于同一真空环境中，容易出现绕射污染靶材，无法得到高品质膜层，尤其是当卷绕基材表面需要多种不同性质的镀膜层时，该现象更加明显。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种镀膜质量高、加工成本低的多辊多室卷绕镀膜装置。

本实用新型的技术方案为：一种多辊多室卷绕镀膜装置，包括多个相互独立的真空室，多个真空室包括放卷室、收卷室和至少一个镀膜室，放卷室和收卷室分别设于镀膜室的两侧，任意两个相邻的真空室之间设有真空锁；镀膜室内设有呈上下分布的多个水冷鼓，每个水冷鼓的一侧至少分布有两个溅射靶，每个溅射靶外周设有靶罩，靶罩底部与水冷鼓表面之间设有供卷绕基材通过用的间隙，且各靶罩分别外接抽真空机组，每个靶罩内形成独立的溅射室。其中，每个真空室也分别外接抽真空机组，靶罩和真空室外接的抽真空机组均采用市面通用的抽真空机组即可。将放卷室、收卷室和各个镀膜室均设置为独立的真空室，一方面可实现在不同镀膜室中进行不同的镀膜工艺，防止不同工艺之间产生串气现象，另一方面，根据镀膜工艺的实际需要，可灵活的配置镀膜室的数量，也方便对某一真空室进行维护或更换卷材、靶材等。将两个水冷鼓设置为上下分布的形式，结合溅射靶设于水冷鼓侧面，可有效防止溅射过程中膜层掉落而对靶材造成二次污染；用靶罩将各个溅射靶隔离，可实现对各个溅射区域进行气氛隔离，防止产生串气现象而影响镀膜质量，另外，也方便根据镀膜工艺的实际需要对溅射靶的数量进行设置。

作为一种优选方案，所述镀膜室内设有两个水冷鼓，两个水冷鼓外侧的溅射靶分布于两个水冷鼓中线的两侧，且位于同一水冷鼓外侧的溅射靶分布于两个水冷鼓中线的同一侧，卷绕基材在两个水冷鼓上进行双面镀膜，即在卷绕基材的输送过程中，先在一个水冷鼓上进行一面的镀膜，再在另一个水冷鼓上进行另一面的镀膜。

作为一种优选方案，所述镀膜室有一个，镀膜室内的两个水冷鼓为上水冷鼓和下水冷鼓，上水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶，下水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶。

作为另一种优选方案，所述镀膜室有两个，分别为第一镀膜室和第二镀膜室；第一镀膜室内的两个水冷鼓为第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶，第一下水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶；第二镀膜室内的两个水冷鼓为第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶，第二下水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶。

所述靶罩为底部开口的中空壳体结构，溅射靶设于靶罩中部，靶罩一侧设有抽气口，且抽气口外接抽真空机组。

作为一种新的真空锁结构，所述真空锁包括阀座、阀盖和阀盖驱动机构，阀盖设于阀座上方，阀盖顶部与阀盖驱动机构连接；阀座上设有供卷绕基材通过用的倾斜通孔，倾斜通孔与真空室侧壁上的进料孔连通。该真空锁结构简单而小巧，可根据需要直接在各真空室上加装即可，不影响真空室的现有结构，其制造成本也低。

所述阀座上，倾斜通孔的进口端位于阀座的顶面上，倾斜通孔的出口端位于阀座的侧壁上，出口端与真空室侧壁上的进料孔相连接；阀盖的底面为平面，阀座的顶面也为平面，阀座的侧壁与真空室侧壁固定连接；真空锁处于关闭状态时，阀盖的底面与阀座的顶面紧密相接，且阀盖底面覆盖于倾斜通孔的进口端上。

所述阀盖驱动机构包括气缸和密封座，阀盖和阀座设于相邻两个真空室中的一个真空室内，气缸通过密封座固定于该真空室的外壁上，气缸的末端伸入真空室内，并与阀盖的顶面固定连接；阀盖驱动机构带动阀盖上升或下降。

在镀膜装置正常进行镀膜工艺时，真空锁处于开启状态；当需要进行换卷或对某个真空室进行维护时，关闭真空锁，开启相应的真空室即可。关闭真空锁时，启动气缸，气缸推动阀盖下降，直至阀盖底面贴紧于阀座顶面上，使阀盖底面覆盖于倾斜通孔的进口端，从而将相邻的两个真空室隔离，各自形成独立的腔体，以保证不需要开启的真空室内的洁净度和真空度。

所述镀膜室中，与收卷室相接的镀膜室内还设有前离子处理机构，且前离子处理机构设于多个水冷鼓的进口端；与放卷室相接的镀膜室内还设有后离子处理机构，且后离子处理机构设于多个水冷鼓的出口端。前离子处理机构和后离子处理机构均采用目前通用的离子处理机构即可。

所述镀膜室外侧还设有靶车，靶车底部设置导轨，两个水冷鼓设于靶车上，靶车沿着导轨移动将两个水冷鼓送入或送出镀膜室。当需要对某一镀膜室进行水冷鼓的更换或维护时，只要关闭其两侧的真空锁，通过靶车将水冷鼓带出镀膜室进行维护或更换即可，维护方便快捷，也不影响其它真空室的洁净度和真空度。

上述多辊多室卷绕镀膜装置使用时，其原理是：放卷室放出卷绕基材后，由真空锁处进入镀膜室，先经过前离子处理机构进行离子处理，然后在镀膜室内的一个水冷鼓处进行一面镀膜，再进入另一个水冷鼓处进行另一面的镀膜，当镀膜装置中设有多个镀膜室时，卷绕基材依次通过各个镀膜室内进行镀膜，最后由后离子处理机构进行离子处理后，送入收卷室进行收卷。

本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果：

本多辊多室卷绕镀膜装置通过将各个功能机构设置在独立的真空室中，使相邻镀膜室内的镀膜工艺完全隔离，可根据膜层数量和膜层种类的不同而对镀膜室进行设置，实现在一个工作周期内完成多层复合膜的镀制，从而得到高品质膜层。

本多辊多室卷绕镀膜装置通过在任意相邻的两个真空室之间设置真空锁，实现在关闭真空锁后，镀膜室内保持真空状态，从而缩短后续的抽真空时间，提高生产效率。另外，在破真空后，装拆工件时，大气中粉尘或水份也无法进入镀膜室，使镀膜室内保持洁净无污染，从而实现工艺的重复性与稳定性。

本多辊多室卷绕镀膜装置通过将各个溅射靶隔离，形成各自独立的溅射区域，实现了溅射区域间的气氛隔离，避免串气现象，从而提高产品质量，也方便了溅射靶数量的灵活调节。

本多辊多室卷绕镀膜装置通过将镀膜室的两个水冷鼓设置为上下分布的结构形式，一方面可使镀膜室结构紧凑，节省空间，缩短抽真空时间，从而提高效率，降低生产成本，另一方面也可有效防止镀膜过程中膜层滴落，提高产品质量。

附图说明

图1为本多辊多室卷绕镀膜装置实施例1的结构示意图(图中未示出真空锁的阀盖驱动机构)。

图2为图1中单个水冷鼓外侧溅射靶的分布结构示意图。

图3为图1中真空锁的结构示意图。

图4为图3中A方向上本真空锁装置的结构示意图。

图5为本多辊多室卷绕镀膜装置实施例2的结构示意图。

图6为本多辊多室卷绕镀膜装置实施例3的结构示意图。

图7为本多辊多室卷绕镀膜装置实施例4的结构示意图。

图8为本多辊多室卷绕镀膜装置实施例5的结构示意图。

图9为本多辊多室卷绕镀膜装置实施例6的结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例1

本实施例一种多辊多室卷绕镀膜装置，如图1所示，包括多个相互独立的真空室，多个真空室包括放卷室1、收卷室2和一个镀膜室3，放卷室和收卷室分别设于镀膜室的两侧，任意两个相邻的真空室之间设有真空锁4；镀膜室内设有呈上下分布的两个水冷鼓5，每个水冷鼓的一侧至少分布有两个溅射靶6，每个溅射靶外周设有靶罩7，靶罩底部与水冷鼓表面之间设有供卷绕基材通过用的间隙，且各靶罩分别外接抽真空机组，每个靶罩内形成独立的溅射室。其中，每个真空室也分别外接抽真空机组，靶罩和真空室外接的抽真空机组均采用市面通用的抽真空机组即可。将放卷室、收卷室和各个镀膜室均设置为独立的真空室，一方面可实现在不同镀膜室中进行不同的镀膜工艺，防止不同工艺之间产生串气现象，另一方面，根据镀膜工艺的实际需要，可灵活的配置镀膜室的数量，也方便对某一真空室进行维护或更换卷材、靶材等。将两个水冷鼓设置为上下分布的形式，结构溅射靶设于水冷鼓侧面，可有效防止溅射过程中膜层掉落而对靶材造成二次污染；用靶罩将各个溅射靶隔离，可实现对各个溅射区域进行气氛隔离，防止产生串气现象而影响镀膜质量，另外，也方便根据镀膜工艺的实际需要对溅射靶的数量进行设置。

其中，如图2所示，靶罩为底部开口的中空壳体结构，溅射靶设于靶罩中部，靶罩一侧设有抽气口7-1，且抽气口外接抽真空机组。

镀膜室内，两个水冷鼓外侧的溅射靶分布于两个水冷鼓中线5-1的两侧，且位于同一水冷鼓外侧的溅射靶分布于两个水冷鼓中线的同一侧，卷绕基材在两个水冷鼓上进行双面镀膜，即在卷绕基材的输送过程中，先在一个水冷鼓上进行一面的镀膜，再在另一个水冷鼓上进行另一面的镀膜。镀膜室内的两个水冷鼓为上水冷鼓和下水冷鼓，上水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶，下水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶。

如图3或图4所示，真空锁包括阀座4-1、阀盖4-2和阀盖驱动机构，阀盖设于阀座上方，阀盖顶部与阀盖驱动机构连接；阀座上设有供卷绕基材通过用的倾斜通孔4-3，倾斜通孔与真空室侧壁上的进料孔4-4连通。该真空锁结构简单而小巧，可根据需要直接在各真空室上加装即可，不影响真空室的现有结构，其制造成本也低。阀座上，倾斜通孔的进口端位于阀座的顶面上，倾斜通孔的出口端位于阀座的侧壁上，出口端与真空室侧壁上的进料孔相连接；阀盖的底面为平面，阀座的顶面也为平面，阀座的侧壁与真空室侧壁固定连接；真空锁处于关闭状态时，阀盖的底面与阀座的顶面紧密相接，且阀盖底面覆盖于倾斜通孔的进口端上。阀座的截面形状为三角形，倾斜通孔的进口端位于阀座的顶面中部，倾斜通孔的出口端位于阀座的侧壁中部。阀盖的截面形状为倒置的T形，便于利用气缸的动力，使阀盖底面贴紧于阀座顶面上，从而实现密封的目的。倾斜通孔的截面形状为长条状的矩形或跑道形，其形状主要是配合卷绕基材的截面形状即可。阀盖驱动机构包括气缸4-5和密封座4-6，阀盖和阀座设于相邻两个真空室中的一个真空室内，气缸通过密封座固定于该真空室的外壁上，气缸的末端伸入真空室内，并与阀盖的顶面固定连接；阀盖驱动机构带动阀盖上升或下降。在镀膜装置正常进行镀膜工艺时，真空锁处于开启状态；当需要进行换卷或对某个真空室进行维护时，关闭真空锁，开启相应的真空室即可。关闭真空锁时，启动气缸，气缸推动阀盖下降，直至阀盖底面贴紧于阀座顶面上，使阀盖底面覆盖于倾斜通孔的进口端，从而将相邻的两个真空室隔离，各自形成独立的腔体，以保证不需要开启的真空室内的洁净度和真空度。

如图1所示，镀膜室中，与收卷室相接的镀膜室内还设有前离子处理机构8，且前离子处理机构设于多个水冷鼓的进口端；与放卷室相接的镀膜室内还设有后离子处理机构9，且后离子处理机构设于多个水冷鼓的出口端。前离子处理机构和后离子处理机构均采用目前通用的离子处理机构即可。

镀膜室外侧还设有靶车，靶车底部设置导轨，两个水冷鼓设于靶车上，靶车沿着导轨移动将两个水冷鼓送入或送出镀膜室。当需要对某一镀膜室进行水冷鼓的更换或维护时，只要关闭其两侧的真空锁，通过靶车将水冷鼓带出镀膜室进行维护或更换即可，维护方便快捷，也不影响其它真空室的洁净度和真空度。其中，靶车及导轨可采用现有通用的靶车及导轨。

上述多辊多室卷绕镀膜装置使用时，其原理是：放卷室放出卷绕基材后，由真空锁处进入镀膜室，先经过前离子处理机构进行离子处理，然后在镀膜室内的一个水冷鼓处进行一面镀膜，再进入另一个水冷鼓处进行另一面的镀膜，最后由后离子处理机构进行离子处理后，送入收卷室进行收卷。

实施例2

本实施例一种多辊多室卷绕镀膜装置，其结构如图5所示，与实施例1相比较，其不同之处在于：镀膜室有两个，分别为第一镀膜室和第二镀膜室；第一镀膜室内的两个水冷鼓为第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶，第一下水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶；第二镀膜室内的两个水冷鼓为第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶，第二下水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶。

该多辊多室卷绕镀膜装置使用时，其原理是：放卷室放出卷绕基材后，由真空锁处进入镀膜室，先经过前离子处理机构进行离子处理，然后在镀膜室内的一个水冷鼓处进行一面镀膜，再进入另一个水冷鼓处进行另一面的镀膜，卷绕基材依次通过各个镀膜室内进行镀膜，最后由后离子处理机构进行离子处理后，送入收卷室进行收卷。

实施例3

本实施例一种多辊多室卷绕镀膜装置，其结构如图6所示，与实施例1相比较，其不同之处在于：镀膜室有两个，分别为第一镀膜室和第二镀膜室；第一镀膜室内的两个水冷鼓为第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶，第一下水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶；第二镀膜室内的两个水冷鼓为第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶，第二下水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶。

该多辊多室卷绕镀膜装置使用时，其原理是：放卷室放出卷绕基材后，由真空锁处进入镀膜室，先经过前离子处理机构进行离子处理，然后在镀膜室内的一个水冷鼓处进行一面镀膜，再进入另一个水冷鼓处进行另一面的镀膜，卷绕基材依次通过各个镀膜室内进行镀膜，最后由后离子处理机构进行离子处理后，送入收卷室进行收卷。

实施例4

本实施例一种多辊多室卷绕镀膜装置，其结构如图7所示，与实施例1相比较，其不同之处在于：镀膜室有四个，分别为第一镀膜室、第二镀膜室、第三镀膜室和第四镀膜室；第一镀膜室内的两个水冷鼓为第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶，第一下水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶；第二镀膜室内的两个水冷鼓为第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶，第二下水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶；第三镀膜室内的两个水冷鼓为第三上水冷鼓和第三下水冷鼓，第三上水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶，第三下水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶；第四镀膜室内的两个水冷鼓为第四上水冷鼓和第四下水冷鼓，第四上水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶，第四下水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶。

该多辊多室卷绕镀膜装置使用时，其原理是：放卷室放出卷绕基材后，由真空锁处进入镀膜室，先经过前离子处理机构进行离子处理，然后在镀膜室内的一个水冷鼓处进行一面镀膜，再进入另一个水冷鼓处进行另一面的镀膜，卷绕基材依次通过各个镀膜室内进行镀膜，最后由后离子处理机构进行离子处理后，送入收卷室进行收卷。

实施例5

本实施例一种多辊多室卷绕镀膜装置，其结构如图8所示，与实施例1相比较，其不同之处在于：镀膜室有四个，分别为第一镀膜室、第二镀膜室、第三镀膜室和第四镀膜室；第一镀膜室内的两个水冷鼓为第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶，第一下水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶；第二镀膜室内的两个水冷鼓为第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶，第二下水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶；第三镀膜室内的两个水冷鼓为第三上水冷鼓和第三下水冷鼓，第三上水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶，第三下水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶；第四镀膜室内的两个水冷鼓为第四上水冷鼓和第四下水冷鼓，第四上水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶，第四下水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶。

该多辊多室卷绕镀膜装置使用时，其原理是：放卷室放出卷绕基材后，由真空锁处进入镀膜室，先经过前离子处理机构进行离子处理，然后在镀膜室内的一个水冷鼓处进行一面镀膜，再进入另一个水冷鼓处进行另一面的镀膜，卷绕基材依次通过各个镀膜室内进行镀膜，最后由后离子处理机构进行离子处理后，送入收卷室进行收卷。

实施例6

本实施例一种多辊多室卷绕镀膜装置，其结构如图9所示，与实施例1相比较，其不同之处在于：镀膜室有两个，分别为第一镀膜室和第二镀膜室；每个镀膜室内有四个水冷鼓；第一镀膜室内的四个水冷鼓由上至下依次为第一上水冷鼓、第一下水冷鼓、第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第一上水冷鼓、第二上水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶，第一下水冷鼓、第二下水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶；第二镀膜室内的四个水冷鼓由上至下依次为第三上水冷鼓、第二下水冷鼓、第四上水冷鼓和第四下水冷鼓，第三上水冷鼓、第四上水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶，第三下水冷鼓、第四下水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶。

如上所述，便可较好地实现本实用新型，上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例，并非用来限定本实用新型的实施范围；即凡依本实用新型内容所作的均等变化与修饰，都为本实用新型权利要求所要求保护的范围所涵盖。

Claims (10)

1.多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，包括多个相互独立的真空室，多个真空室包括放卷室、收卷室和至少一个镀膜室，放卷室和收卷室分别设于镀膜室的两侧，任意两个相邻的真空室之间设有真空锁；镀膜室内设有呈上下分布的多个水冷鼓，每个水冷鼓的一侧至少分布有两个溅射靶，每个溅射靶外周设有靶罩，靶罩底部与水冷鼓表面之间设有供卷绕基材通过用的间隙，每个靶罩内形成独立的溅射室。

2.根据权利要求1所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内设有两个水冷鼓，两个水冷鼓外侧的溅射靶分布于两个水冷鼓中线的两侧，且位于同一水冷鼓外侧的溅射靶分布于两个水冷鼓中线的同一侧，卷绕基材在两个水冷鼓上进行双面镀膜。

3.根据权利要求2所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室有一个，镀膜室内的两个水冷鼓为上水冷鼓和下水冷鼓，上水冷鼓的左侧分布有三个溅射靶，下水冷鼓的右侧分布有三个溅射靶。

4.根据权利要求2所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室有两个，分别为第一镀膜室和第二镀膜室；第一镀膜室内的两个水冷鼓为第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶，第一下水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶；第二镀膜室内的两个水冷鼓为第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右侧分布有两个溅射靶，第二下水冷鼓的左侧分布有两个溅射靶。

5.根据权利要求1所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述靶罩为底部开口的中空壳体结构，溅射靶设于靶罩中部，靶罩一侧设有抽气口。

6.根据权利要求1所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述真空锁包括阀座、阀盖和阀盖驱动机构，阀盖设于阀座上方，阀盖顶部与阀盖驱动机构连接；阀座上设有供卷绕基材通过用的倾斜通孔，倾斜通孔与真空室侧壁上的进料孔连通。

7.根据权利要求6所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述阀座上，倾斜通孔的进口端位于阀座的顶面上，倾斜通孔的出口端位于阀座的侧壁上，出口端与真空室侧壁上的进料孔相连接；阀盖的底面为平面，阀座的顶面也为平面，阀座的侧壁与真空室侧壁固定连接；真空锁处于关闭状态时，阀盖的底面与阀座的顶面紧密相接，且阀盖底面覆盖于倾斜通孔的进口端上。

8.根据权利要求6所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述阀盖驱动机构包括气缸和密封座，阀盖和阀座设于相邻两个真空室中的一个真空室内，气缸通过密封座固定于该真空室的外壁上，气缸的末端伸入真空室内，并与阀盖的顶面固定连接；阀盖驱动机构带动阀盖上升或下降。

9.根据权利要求1所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室中，与收卷室相接的镀膜室内还设有前离子处理机构，且前离子处理机构设于多个水冷鼓的进口端；与放卷室相接的镀膜室内还设有后离子处理机构，且后离子处理机构设于多个水冷鼓的出口端。

10.根据权利要求1所述的多辊多室卷绕镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室外侧还设有靶车，靶车底部设置导轨，两个水冷鼓设于靶车上，靶车沿着导轨移动将两个水冷鼓送入或送出镀膜室。