CN205413020U

CN205413020U - 一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置

Info

Publication number: CN205413020U
Application number: CN201620211426.6U
Authority: CN
Inventors: 冯晓娟; 石彦龙
Original assignee: Hexi University
Current assignee: Hexi University
Priority date: 2016-03-17
Filing date: 2016-03-17
Publication date: 2016-08-03
Anticipated expiration: 2026-03-17

Abstract

本实用新型公开了一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置，包括填料装置、反应装置本体、排料装置和搅拌装置；所述反应装置本体下部设有底座；所述底座上部的反应装置本体上设有排料装置，排料装置上设有排料孔；所述反应装置本体上部设有填料装置，填料装置包括填料仓、输料管、漏料仓和滤料板；所述填料仓设置在反应装置本体上部，填料仓下部设有输料管，输料管下部设有漏料仓；所述漏料板下部设有滤料板，滤料板上设有滤料孔；所述反应装置本体上部设有搅拌装置，搅拌装置包括搅拌电机、电机支架、联轴器、搅拌轴、第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶；本实用新型结构简单，使用方便；能均匀的将物料播撒在反应装置本体内。

Description

一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置

技术领域

本实用新型涉及一种搅拌反应装置，具体是一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置。

背景技术

搅拌装置，一般是采用竖放的圆筒，中间穿插搅笼，采用搅笼将中间物料搅拌上抛来达到混合均匀的效果。在化工产品生产中需要将多种原料组合，化工工艺过程的种种化学变化，是以参加反应物质的充分混合为前提，一般反应设备分为有搅笼和无搅笼结构，目前化工原料搅拌设备不具有原料反应的保温操作功能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置，包括填料装置、反应装置本体、排料装置和搅拌装置；所述反应装置本体为圆柱体形，反应装置本体下部设有底座，底座共有四个，均匀分布在反应装置本体的底部；所述底座的横截面为半环形结构，半环形的圆心角为45°；所述底座上部的反应装置本体上设有排料装置，排料装置上设有排料孔，排料孔设置在反应装置本体的外部；所述反应装置本体的内壁上设有加热块，加热块共有十个，均匀分布在内壁上；所述加热块内设有电加热管；所述反应装置本体上部设有填料装置，填料装置包括填料仓、输料管、漏料仓和滤料板；所述填料仓设置在反应装置本体上部，填料仓下部设有输料管，输料管下部设有漏料仓，漏料仓底部设有漏料板，漏料板上设有漏料孔，漏料孔均匀分布在漏料板上；所述漏料板下部设有滤料板，滤料板上设有滤料孔，滤料孔均匀分布在滤料板的正下方；所述滤料板通过轴孔安装在搅拌轴上，滤料板与轴孔之间为固定连接；所述反应装置本体上部设有搅拌装置，搅拌装置包括搅拌电机、电机支架、联轴器、搅拌轴、第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶；所述搅拌电机通过电机支架固定安装在反应装置本体上部，电机支架为可拆卸的三角形支架；所述搅拌电机的主轴上设有联轴器，联轴器下部连接有搅拌轴，搅拌轴深入到反应装置本体内部；所述搅拌轴上设有第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶；所述第一搅拌叶设置在滤料板的下部，第一搅拌叶下部设有第二搅拌叶，第二搅拌叶的下部设有第三搅拌叶，第三搅拌叶的下部设有第四搅拌叶。

作为本实用新型再进一步的方案：所述排料装置为单螺旋输料装置，排料装置设置在反应装置本体内部。

作为本实用新型再进一步的方案：所述第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶的尺寸大小各不相同，具有不同的旋转搅拌半径。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型结构简单，功能齐全，设计合理，使用方便；该搅拌反应装置内设有漏料仓和滤料板，能均匀的将物料播撒在反应装置本体内；使物料更易搅拌；反应装置本体内的第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶的尺寸大小各不相同，具有不同的旋转搅拌半径，能将反应装置本体的物料均匀的搅拌，加速了反应速率。

附图说明

图1为能均匀撒料的化工搅拌反应装置的结构示意图。

图2为能均匀撒料的化工搅拌反应装置中撒料装置的结构示意图。

图3为能均匀撒料的化工搅拌反应装置中滤料板的结构示意图。

图4为能均匀撒料的化工搅拌反应装置中漏料板的结构示意图。

图5为能均匀撒料的化工搅拌反应装置中底座的结构示意图。

图中：1-底座，2-排料孔，3-排料装置，4-内壁，5-加热块，6-搅拌轴，7-滤料板，8-填料装置，9-电机支架，10-搅拌电机，11-联轴器，12-第一搅拌叶，13-第二搅拌叶，14-第三搅拌叶，15-第四搅拌叶，16-漏料仓，17-输料管，18-填料仓，19-滤料孔，20-轴孔，21-漏料板，22-漏料孔，23-反应装置本体。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。

请参阅图1-5，一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置，包括填料装置8、反应装置本体23、排料装置3和搅拌装置；所述反应装置本体23为圆柱体形，反应装置本体23下部设有底座1，底座1共有四个，均匀分布在反应装置本体23的底部；所述底座1的横截面为半环形结构，半环形的圆心角为45°；所述底座1上部的反应装置本体23上设有排料装置3，排料装置3上设有排料孔2，排料孔2设置在反应装置本体23的外部；所述排料装置3为单螺旋输料装置，排料装置3设置在反应装置本体23内部；所述反应装置本体23的内壁4上设有加热块5，加热块5共有十个，均匀分布在内壁4上；所述加热块5内设有电加热管，能对反应装置本体23内的物料进行加热；所述反应装置本体23上部设有填料装置8，填料装置8包括填料仓18、输料管17、漏料仓16和滤料板7；所述填料仓18设置在反应装置本体23上部，用于暂时存放物料，填料仓18下部设有输料管17，输料管17下部设有漏料仓16，漏料仓16底部设有漏料板21，漏料板21上设有漏料孔22，漏料孔22共有多个，均匀分布在漏料板21上；所述漏料板21下部设有滤料板7，滤料板7上设有滤料孔19，滤料孔19共有多个，均匀分布在滤料板7的正下方；所述滤料板7通过轴孔20安装在搅拌轴6上，滤料板7与轴孔20之间为固定连接；所述反应装置本体23上部设有搅拌装置，搅拌装置包括搅拌电机10、电机支架9、联轴器11、搅拌轴6、第一搅拌叶12、第二搅拌叶13、第三搅拌叶14和第四搅拌叶15；所述搅拌电机10通过电机支架9固定安装在反应装置本体23上部，电机支架9为可拆卸的三角形支架；所述搅拌电机10的主轴上设有联轴器11，联轴器11下部连接有搅拌轴6，搅拌轴6深入到反应装置本体23内部；所述搅拌轴6上设有第一搅拌叶12、第二搅拌叶13、第三搅拌叶14和第四搅拌叶15；所述第一搅拌叶12设置在滤料板7的下部，第一搅拌叶12下部设有第二搅拌叶13，第二搅拌叶13的下部设有第三搅拌叶14，第三搅拌叶14的下部设有第四搅拌叶15；所述第一搅拌叶12、第二搅拌叶13、第三搅拌叶14和第四搅拌叶15的尺寸大小各不相同，具有不同的旋转搅拌半径。

上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。

Claims

1.一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置，包括填料装置、反应装置本体、排料装置和搅拌装置；其特征在于，所述反应装置本体为圆柱体形，反应装置本体下部设有底座，底座共有四个，均匀分布在反应装置本体的底部；所述底座的横截面为半环形结构，半环形的圆心角为45°；所述底座上部的反应装置本体上设有排料装置，排料装置上设有排料孔，排料孔设置在反应装置本体的外部；所述反应装置本体的内壁上设有加热块，加热块共有十个，均匀分布在内壁上；所述加热块内设有电加热管；所述反应装置本体上部设有填料装置，填料装置包括填料仓、输料管、漏料仓和滤料板；所述填料仓设置在反应装置本体上部，填料仓下部设有输料管，输料管下部设有漏料仓，漏料仓底部设有漏料板，漏料板上设有漏料孔，漏料孔均匀分布在漏料板上；所述漏料板下部设有滤料板，滤料板上设有滤料孔，滤料孔均匀分布在滤料板的正下方；所述滤料板通过轴孔安装在搅拌轴上，滤料板与轴孔之间为固定连接；所述反应装置本体上部设有搅拌装置，搅拌装置包括搅拌电机、电机支架、联轴器、搅拌轴、第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶；所述搅拌电机通过电机支架固定安装在反应装置本体上部，电机支架为可拆卸的三角形支架；所述搅拌电机的主轴上设有联轴器，联轴器下部连接有搅拌轴，搅拌轴深入到反应装置本体内部；所述搅拌轴上设有第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶；所述第一搅拌叶设置在滤料板的下部，第一搅拌叶下部设有第二搅拌叶，第二搅拌叶的下部设有第三搅拌叶，第三搅拌叶的下部设有第四搅拌叶。

2.根据权利要求1所述的能均匀撒料的化工搅拌反应装置，其特征在于，所述排料装置为单螺旋输料装置，排料装置设置在反应装置本体内部。

3.根据权利要求1所述的能均匀撒料的化工搅拌反应装置，其特征在于，所述第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶的尺寸大小各不相同，具有不同的旋转搅拌半径。