CN205388088U - 一种新型真空吸盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型真空吸盘，包括吸盘底板，所述吸盘底板上分别安装有吸盘上环、密封环、多孔陶瓷板，所述多孔陶瓷板包括上多孔陶瓷层、下多孔陶瓷层，所述上多孔陶瓷层与下多孔陶瓷层相连，所述下多孔陶瓷层顶面开设有下凹槽，所述上多孔陶瓷层侧面开设有上凹槽，所述下凹槽与上凹槽之间安装有直角定位柱。本实用新型所述的一种新型真空吸盘，其结构简单，更换方便，只需更换磨损的多孔陶瓷板，降低生产成本的同时保证吸盘的平整度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种新型真空吸盘。
背景技术
随着IC制造技术的飞速发展，其主要衬底材料—单晶硅片的直径不断增大，使得传统的硅片加工方法面临许多新问题。其中比较突出的问题是硅片尺寸增大后，其强度变差，容易产生翘曲变形，加工精度不易保证。同时由于多孔陶瓷板磨损需要更换，更换时存在生产成本高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种新型真空吸盘，其结构简单，更换方便，只需更换磨损的多孔陶瓷板，降低生产成本的同时保证吸盘的平整度。
为了达到上述目的，本实用新型的技术方案是：
一种新型真空吸盘，包括吸盘底板，所述吸盘底板上分别安装有吸盘上环、密封环、多孔陶瓷板，所述多孔陶瓷板包括上多孔陶瓷层、下多孔陶瓷层，所述上多孔陶瓷层与下多孔陶瓷层相连，所述下多孔陶瓷层顶面开设有下凹槽，所述上多孔陶瓷层侧面开设有上凹槽，所述下凹槽与上凹槽之间安装有直角定位柱。
所述吸盘底板上开设有环状凹槽。
所述下多孔陶瓷层的长度大于上多孔陶瓷层的长度。
所述下凹槽内安装有第一防磨垫。
所述上凹槽内安装有第二防磨垫。
本实用新型的有益效果是：一种新型真空吸盘，其结构简单，更换方便，只需更换磨损的多孔陶瓷板，降低生产成本的同时保证吸盘的平整度。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
实施例1
如图1所示一种新型真空吸盘，包括吸盘底板1，所述吸盘底板1上分别安装有吸盘上环2、密封环3、多孔陶瓷板4，所述多孔陶瓷板4包括上多孔陶瓷层5、下多孔陶瓷层6，所述上多孔陶瓷层5与下多孔陶瓷层6相连，所述下多孔陶瓷层6顶面开设有下凹槽7，所述上多孔陶瓷层5侧面开设有上凹槽8，所述下凹槽7与上凹槽8之间安装有直角定位柱10。所述下多孔陶瓷层6的长度大于上多孔陶瓷层5的长度。直角定位柱10的设置能够保证上多孔陶瓷层5与下多孔陶瓷层6之间的稳定性。当上多孔陶瓷层5或下多孔陶瓷层6有磨损时，只需更换磨损的陶瓷层，降低了生产成本。
所述吸盘底板1上开设有环状凹槽9。环状凹槽9的设置保证吸盘的平整度。
所述下凹槽7内安装有第一防磨垫11。所述上凹槽8内安装有第二防磨垫12。第一防磨垫11和第二防磨垫12的设置避免陶瓷层与直角定位柱10之间磨损损伤，有效提高吸盘的使用寿命。
本实施例的一种新型真空吸盘，其结构简单，更换方便，只需更换磨损的多孔陶瓷板，降低生产成本的同时保证吸盘的平整度。
Claims (5)
1.一种新型真空吸盘，其特征在于：包括吸盘底板（1），所述吸盘底板（1）上分别安装有吸盘上环（2）、密封环（3）、多孔陶瓷板（4），所述多孔陶瓷板（4）包括上多孔陶瓷层（5）、下多孔陶瓷层（6），所述上多孔陶瓷层（5）与下多孔陶瓷层（6）相连，所述下多孔陶瓷层（6）顶面开设有下凹槽（7），所述上多孔陶瓷层（5）侧面开设有上凹槽（8），所述下凹槽（7）与上凹槽（8）之间安装有直角定位柱（10）。
2.根据权利要求1所述的一种新型真空吸盘，其特征在于：所述吸盘底板（1）上开设有环状凹槽（9）。
3.根据权利要求1所述的一种新型真空吸盘，其特征在于：所述下多孔陶瓷层（6）的长度大于上多孔陶瓷层（5）的长度。
4.根据权利要求1所述的一种新型真空吸盘，其特征在于：所述下凹槽（7）内安装有第一防磨垫（11）。
5.根据权利要求1所述的一种新型真空吸盘，其特征在于：所述上凹槽（8）内安装有第二防磨垫（12）。
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2016
- 2016-03-21 CN CN201620215121.2U patent/CN205388088U/zh not_active Expired - Fee Related
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