CN205387591U - 用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其包括：外罩支撑体、导流环、导流腔和导流通道，外罩支撑体与坩埚接触且受坩埚的顶端边缘支撑；所述导流环设置在所述外罩支撑体的内圆上，导流环顶部端面为斜面，在所述斜面上设有若干导流气孔；所述导流腔为漏斗形结构，融化状态的蒸镀材料流入导流腔；导流通道顶部端面设有第一圆孔，第一圆孔与导流腔贯通，导流通道的侧壁上设有五个斜方向圆孔，融化的蒸镀材料液滴由第一圆孔滴入，顺着斜方向圆孔滴入至所述坩埚中，最终滴落至所述坩埚底部。本实用新型的防溅射外罩，结构简单，设计合理，能够有效的防止液滴溅射，避免溅射的颗粒对镀膜造成损坏，提高了镀膜品质。

Description

用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩

技术领域

本实用新型涉及电子束热蒸发设备领域，具体涉及用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩。

背景技术

目前，在通过电子束加热坩埚底部来蒸发物质的电子束热蒸发系统中，由于坩埚底部过热，融化的蒸镀材料液滴落到底部后运动趋于缓慢，容易过热出现液滴溅射的情况，为了防止液滴溅射，若降低温度，蒸发效率则会受很大影响。例如，电子束加热钨坩埚底部蒸发银，在用于卷对卷带材镀银系统时，液滴溅射会对所镀的膜造成严重的破坏，另外液滴飞溅冷却为固态落在带材背面，则会随带材运动至导轮下对带材造成周期性的尖刺状压痕破坏。因此，在不影响蒸发效率的情况下，怎样防止溅射是电子束热蒸发系统函待解决的问题。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，本实用新型的外罩套设在坩埚顶部，蒸镀材料在外罩上融化，沿着外罩往下滑落，在滑落的过程中发生溅射的概率很低。其原因有两个，一是由于外罩及坩埚侧壁温度低于被电子束直接加热的坩埚底部；二是由于滑落过程中液滴一直处于运动而非静止状态，从热传递的角度讲难以过热，最终液滴落到坩埚底部，运动逐渐缓慢，温度逐步上升直至过热发生溅射，因此发生溅射的最大概率位置为坩埚底部，在外罩的阻挡下，溅射的液滴无法飞出，从而起到阻断液滴溅射的作用

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其包括：

外罩支撑体，所述外罩支撑体与坩埚接触且受所述坩埚的顶端边缘支撑，所述外罩支撑体为圆环形结构；

导流环，所述导流环设置在所述外罩支撑体的内圆上，所述导流环顶部端面为斜面，在所述斜面上设有若干导流气孔，所述坩埚内部的蒸汽通过所述导流气孔；

导流腔，所述导流腔为漏斗形结构，所述导流腔的上部边缘连接至所述导流环的下部边缘，融化状态的蒸镀材料流入所述导流腔；

导流通道，所述导流通道为圆柱体，所述导流通道的上端连接至所述导流腔的底部，所述导流通道深入至所述坩埚中，所述导流通道顶部端面设有第一圆孔，所述第一圆孔与所述导流腔贯通，所述导流通道的侧壁上设有五个斜方向圆孔，融化的蒸镀材料液滴由所述第一圆孔滴入，顺着所述斜方向圆孔滴入至所述坩埚中，最终滴落至所述坩埚底部。

在本实用新型的一个较佳实施例中，进一步包括，所述导流通道的底部端面为平面。

在本实用新型的一个较佳实施例中，进一步包括，所述导流通道底部端面阻挡来自所述坩埚底部飞溅的液滴。

在本实用新型的一个较佳实施例中，进一步包括，所述导流腔的外部漏斗面阻挡来自所述坩埚底部飞溅的液滴。

在本实用新型的一个较佳实施例中，进一步包括，所述导流气孔等间距的设置在所述导流环上。

在本实用新型的一个较佳实施例中，进一步包括，所述外罩支撑体、导流环、导流腔一体成型。

本实用新型的有益效果是:

其一、本实用新型的防溅射外罩，其罩在坩埚的顶端的开口处，蒸镀材料在防溅射外罩上融化，沿着外罩向坩埚滴落，由于外罩和坩埚侧壁的温度低于由电子束直接加热的坩埚底部，并且在滴落过程中，液滴一直运动，难以过热，最终液滴滴落到坩埚底部，在温度最高的坩埚底部，即使液滴发生溅射，在上述防溅射外罩的阻挡下，溅射的液滴无法飞出去，从而起到阻断液滴溅射的作用。

其二、本实用新型的防溅射外罩，结构简单，设计合理，能够有效的防止液滴溅射，避免溅射的颗粒对镀膜造成损坏，提高了镀膜品质。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例技术中的技术方案，下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型仰视的结构示意图；

图3是本实用新型的剖视图；

图4是将本实用新型的结构应用于坩埚加热系统的结构示意图；

其中，1-外罩支撑体，2-导流环，3-导流腔，4-导流通道，5-坩埚，6-蒸镀材料，201-斜面，202-导流气孔，401-第一圆孔，402-斜方向圆孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例

参照图1-2所示，本实施例中公开了一种用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其主要包括：外罩支撑体1、导流环2、导流腔3以及导流通道4，上述外罩支撑体1、导流环2、导流腔3以及导流通道4之间依次固定连接，在本实施例中，上述外罩支撑体1、导流环2、导流腔3可以一体成型结构。

如图3-4所示，上述外罩支撑体1为圆环形结构，实际上，上述外罩支撑体1与坩埚5接触且受上述坩埚5的顶端边缘支撑，为了配合上述坩埚5顶部的结构，上述外罩支撑体1与坩埚5顶端接触的部分相配合。

上述导流环2设置在上述外罩支撑体1的内圆上，上述导流环2顶部端面为斜面201，在上述斜面201上设有若干导流气孔202，上述导流气孔202为通孔，且上述导流气孔202等间距的设置在上述导流环2上，上述坩埚5内部的蒸汽通过上述导流气孔202上流。

上述导流腔3为漏斗形结构，即上述导流腔3具有一定角度的漏斗面，使融化的蒸镀材料顺畅的下滑，上述导流腔3的上部边缘连接至上述导流环2的下部边缘，融化状态的蒸镀材料流入上述导流腔3，上述导流腔3漏斗状的结构，一方面方便液滴下滑，另一方面使液滴具有聚拢下落。

导流通道4设置在上述导流腔3的底部，上述导流通道4为圆柱体，实际上在未开孔前上述导流通道4为实体圆柱结构，上述导流通道4的上端连接至上述导流腔3的底部，上述导流通道4深入至上述坩埚5中。

在本实施例中，为了使蒸镀材料6液滴顺利滴入到坩埚5中，又阻碍液滴溅射，在上述导流通道4顶部端面设有第一圆孔401，上述第一圆孔401与上述导流腔3贯通，由上述导流腔3落入的液滴能够顺利落入至上述第一圆孔401中，然后再在上述导流通道4的侧壁上设有五个斜方向圆孔402，上述斜方向圆孔402实际是由上述导流通道4底部斜向上打孔，融化的蒸镀材料液滴由上述第一圆孔401滴入，然后顺着上述斜方向圆孔402滴入至上述坩埚5中，最终滴落至上述坩埚5底部，由上述第一圆孔401滴入到斜方向圆孔402时，是从五个斜方向圆孔402随机流入只坩埚5中。

上述融化的液滴由上述导流通道4流入至坩埚5中，为了防止液滴从坩埚5底部溅射，因此，在本实施例中，将上述导流通道4的底部端面设计成为平面，上述导流通道4底部端面能够有效地阻挡来自上述坩埚5底部飞溅的液滴。

同样地，上述导流腔3的外部漏斗面也能够阻挡来自上述坩埚5底部飞溅的液滴。

本实施例的工作原理如下：

防溅射外罩，其罩在坩埚的顶端的开口处，蒸镀材料在防溅射外罩上融化，沿着外罩向坩埚滴落，由于外罩和坩埚侧壁的温度低于由电子束直接加热的坩埚底部，并且在滴落过程中，液滴一直运动，难以过热，最终液滴滴落到坩埚底部，在温度最高的坩埚底部，即使液滴发生溅射，在上述防溅射外罩的阻挡下，溅射的液滴无法飞出去，从而起到阻断液滴溅射的作用。

本实施例中防溅射外罩，结构简单，设计合理，能够有效的防止液滴溅射，避免溅射的颗粒对镀膜造成损坏，提高了镀膜品质。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (6)

1.用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其特征在于，其包括：

外罩支撑体，所述外罩支撑体与坩埚接触且受所述坩埚的顶端边缘支撑，所述外罩支撑体为圆环形结构；

导流环，所述导流环设置在所述外罩支撑体的内圆上，所述导流环顶部端面为斜面，在所述斜面上设有若干导流气孔，所述坩埚内部的蒸汽通过所述导流气孔；

导流腔，所述导流腔为漏斗形结构，所述导流腔的上部边缘连接至所述导流环的下部边缘，融化状态的蒸镀材料流入所述导流腔；

导流通道，所述导流通道为圆柱体，所述导流通道的上端连接至所述导流腔的底部，所述导流通道深入至所述坩埚中，所述导流通道顶部端面设有第一圆孔，所述第一圆孔与所述导流腔贯通，所述导流通道的侧壁上设有五个斜方向圆孔，融化的蒸镀材料液滴由所述第一圆孔滴入，顺着所述斜方向圆孔滴入至所述坩埚中，最终滴落至所述坩埚底部。

2.根据权利要求1所述的用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其特征在于，所述导流通道的底部端面为平面。

3.根据权利要求2所述的用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其特征在于，所述导流通道底部端面阻挡来自所述坩埚底部飞溅的液滴。

4.根据权利要求1所述的用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其特征在于，所述导流腔的外部漏斗面阻挡来自所述坩埚底部飞溅的液滴。

5.根据权利要求1所述的用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其特征在于，所述导流气孔等间距的设置在所述导流环上。

6.根据权利要求1所述的用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩，其特征在于，所述外罩支撑体、导流环、导流腔一体成型。