CN205364712U - 高分子无泄露自粘铝箔 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种既具有良好的耐折性、耐疲劳性,又具有强度高、屏蔽好、无回波损耗,同时具有高可靠性自粘强度的高分子无泄露自粘铝箔,PET膜采用胶粘剂与铝箔一面复合,铝箔的另一面涂有一层改性PE胶层。优点:一是耐折、耐疲劳、强度高,是背景技术的数倍;二是包裹自粘接性能好,其粘接后所形成的剥离强度是背景技术的数倍;三是铝箔面气隙采用同属性纳米铝填充,不仅大大地提高了铝箔的密实度,而且实现了用低档次铝箔制作精品高分子无泄露自粘铝箔的目的,从而极大地降低了对铝箔轧制精度的要求,降低了铝箔制造成本;四是不仅绝缘强度高、屏蔽效果好、避免了回波损耗现象的发生,而且具有优秀的拉伸强度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种既具有良好的耐折性、耐疲劳性,又具有强度高、屏蔽好、无回波损耗,同时具有高可靠性自粘强度的高分子无泄露自粘铝箔,属通信辅助材料制造领域。
背景技术
本申请人所有在先专利CN201489850U、名称“高强度双面自粘铝箔”,它包括铝箔,其特征是:铝箔两面与PET膜之间分别置有一层粘接胶层,PET膜(1)面上置有自粘膜。其需要提高的是:一般的铝箔在生产过程中,由于铝锭的纯度不足或含有杂质,轧辊的表面光泽度等因素而造成所轧铝箔含有微孔等缺陷,这些缺陷直接导致所包裹电缆通信信号衰减、回波损耗增大。
实用新型内容
设计目的:避免背景技术中的不足,设计一种既具有良好的耐折性、耐疲劳性,又具有强度高、屏蔽好、无回波损耗,同时具有高可靠性自粘强度的高分子无泄露自粘铝箔。
设计方案:为实现上述设计目的。1、铝箔一面采用粘胶剂与PET膜复合的设计,是本实用新型的技术特征之一。这样设计的目的在于:PET是乳白色或浅黄色、高度结晶的聚合物,表面平滑有光泽。在较宽的温度范围内具有优良的物理机械性能,长期使用温度可达120℃,电绝缘性优良,甚至既使在高温高频下,其电性能仍较好,并且抗蠕变性,耐疲劳性,耐摩擦性、尺寸稳定性都很好,冲击强度是其他薄膜的3~5倍,耐折性好。本实用新型将其置于铝箔一面,从根本上改善了铝箔的耐折性和强度。2、铝箔的一面或双面气隙采用纳米铝填充的设计,是本实用新型的技术特征之二。这样设计的目的在于:纳米铝的平均粒径为55nm,而铝箔轧制过程中所产生的孔隙及缝隙往往大于55nm,因而它能将铝箔轧制过程中所产生的通透或不通透的孔隙、缝隙彻底填充且不增加铝箔本身的厚度,使铝箔的屏蔽性得到了根本性的提高,避免了回波损耗现象的发生。3、采用改性PE的目的在于:它可以强力粘合线缆外护套,在外部高空作业或狭小空间作业的施工环境下,剥线钳剪断外护套PE或PVC塑料的同时,由于改性PE在电缆最后一道工序(成缆),铝箔对外护套塑料的强力附着力粘合,故铝箔同时脱落,加快施工进度和提高施工人员安全性。
技术方案:一种高分子无泄露自粘铝箔,PET膜采用胶粘剂与铝箔一面复合,铝箔的另一面涂有一层改性PE胶层。
本实用新型与背景技术相比,一是耐折、耐疲劳、强度高,是背景技术的数倍;二是包裹自粘接性能好,其粘接后所形成的剥离强度是背景技术的数倍;三是铝箔面气隙采用同属性纳米铝填充,不仅大大地提高了铝箔的密实度,而且实现了用低档次铝箔制作精品高分子无泄露自粘铝箔的目的,从而极大地降低了对铝箔轧制精度的要求,降低了铝箔制造成本;四是不仅绝缘强度高、屏蔽效果好、避免了回波损耗现象的发生,而且具有优秀的拉伸强度。
附图说明
图1是高分子无泄露自粘铝箔的结构示意图。
图2是铝箔孔隙、缝隙填充生产线的示意图。
具体实施方式
实施例1:参照附图1和图2。一种高分子无泄露自粘铝箔,PET膜1采用胶粘剂2与铝箔3一面复合,铝箔3的另一面涂有一层改性PE胶层4。铝箔3的面为无通透气隙面。铝箔3的一面或双面的气隙被纳米铝填充。气隙是指微小孔和缝隙,即铝箔轧制过程中其本身由于杂质及轧辊本身所导致的微小透孔、缝隙被纳米铝填充,从而使得铝箔的密实度得到了进上步提高。
其铝箔面气隙填充生产线,包括PLC控制器06,放卷辊08和收卷辊01间依据设有铝箔气隙检测装置07、纳米铝喷涂装置05及纳米铝碾压成型装置03;铝箔气隙检测装置07光电信号输出端接PLC控制器06的信号输入端,PLC控制器06的信号输出端一路接纳米铝喷涂装置05的信号输入端,一路接伺服电机的信号输入端,伺服电机驱动收卷辊01传动。铝箔气隙检测装置07由暗箱、发光源及光敏传感器06构成;暗箱开有铝箔进出口,发光源位于暗箱内下部且位于铝箔下方,光敏传感器06位于暗箱内上部且光敏传感器06信号输出端接PLC控制器的信号输入端。纳米铝喷涂装置05由纳米铝存储箱、纳米铝喷涂喷嘴及纳米喷涂封闭箱构成;纳米喷涂封闭箱开有铝箔进出口,纳米铝喷涂喷嘴直对铝箔面且纳米铝喷涂喷嘴的工作与否受控于PLC控制器。纳米铝碾压成型装置03由封闭箱、对辊碾压辊04和净面刷02构成;对辊碾压辊04分布在封闭箱内铝箔进口部且对辊碾压辊04由伺服电机驱动转动,伺服电机的工作与否受控于PLC控制器,净面刷02分布在封闭箱内对辊碾压辊04出口一侧。对辊碾压辊04中两辊之间的间隙可调,即通过调节对辊碾压辊04中的上辊的升或降即可达到调节对辊之间间隙大小的目的。纳米铝碾压成型装置03中封闭箱底部开有排泄口且排泄口采用螺盖09旋接密封。
其铝箔面气隙填充生产线的填充方法,工作时PLC控制器06指令伺服电机驱动收卷辊01和纳米铝碾压成型装置03中的对辊碾压辊04转动,被检测铝箔在收卷辊01的牵引下由放卷辊08进入铝箔气隙检测装置07的暗箱内,当被检测的铝箔面透光时,位于暗箱内的光敏传感器06被触发将检测到的铝箔气隙的位置信号传递到PLC控制器,当有气隙的铝箔在通过纳米铝喷涂装置05中的纳米铝喷涂喷嘴瞬间,PLC控制器指令纳米铝喷涂装置05纳米铝喷涂喷嘴将纳米铝喷向铝箔面的气隙部,被喷涂纳米铝的铝箔在通过纳米铝碾压成型装置03中的对辊碾压辊04时,其纳米铝被对辊碾压辊压实后,经过净面刷02将铝箔面多余的纳米铝清除(净面刷02的刷头为毛刷头,或绒刷头,或布刷头),最后被收卷辊01收卷。
其高分子无泄露自粘铝箔制备方法,1)将铝箔3的一面或二面分别采用同属性的纳米铝进行填充处理,使铝箔面无通透气隙;2)然后将PET膜1采用粘胶剂2复合在铝箔3一面;3)将改性PE胶涂履在铝箔3的非复合面、烘干得改性PE膜。
需要理解到的是:上述实施例虽然对本实用新型的设计思路作了比较详细的文字描述,但是这些文字描述,只是对本实用新型设计思路的简单文字描述,而不是对本实用新型设计思路的限制,任何不超出本实用新型设计思路的组合、增加或修改,均落入本实用新型的保护范围内。
Claims (4)
1.一种高分子无泄露自粘铝箔,其特征是:PET膜(1)采用胶粘剂(2)与铝箔(3)一面复合,铝箔(3)的另一面涂有一层改性PE胶层(4)。
2.根据权利要求1所述的高分子无泄露自粘铝箔,其特征是:铝箔(3)的面为无通透气隙面。
3.根据权利要求1所述的高分子无泄露自粘铝箔,其特征是:铝箔(3)的一面或双面的气隙被纳米铝填充。
4.根据权利要求2或3所述的高分子无泄露自粘铝箔,其特征是:气隙是指微小孔和缝隙。
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