CN205122531U - 用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述遮蔽装置包含多个遮蔽单元，用于遮蔽所述等离子反应室元件的至少一个非处理区域，以暴露所述等离子反应室元件的至少一个目标处理区域。所述遮蔽装置还包含至少一固定机构，用于将所述遮蔽装置与所述等离子反应室元件结合，进而使所述遮蔽装置能快速地与所述遮蔽所述等离子反应室元件组合或拆除。

Description

用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置

技术领域

本实用新型涉及一种遮蔽装置，特别是涉及一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置。

背景技术

现今，等离子反应技术已被广泛的应用在例如半导体制造工业、显示面板制造工业、太阳能电池制造工业等各种产业中。等离子反应装置系由多个等离子反应室元件(材料包含铝合金或不锈钢)所组成，并且通过许多方法生成及/或控制等离子密度、形状以及反应腔体中的电气特征，使得等离子与反应气体反应以沉积期望的材料层于基板上。

一般而言，等离子反应装置在运转一段时间后必须进行定期的维修与保养，并且将等离子反应室元件的表面进行处理。表面处理的方法包含使用化学蚀刻、喷砂、抛磨或车铣等方式将在等离子反应室元件表面上的镀层进行彻底的退除。然而，为避免在表面处理时伤害等离子反应室元件的局部部件，必须耗费工时将部分特殊购件拆除或者是将非处理区域进行适当的遮蔽。

举例来说，当所述等离子反应室元件包含外露的铜管时，必须将所述铜管拆除，以避免在使用化学性的方式进行表面处理时铜管与化学液体产生反应。又例如，当所述等离子反应室元件为一静电吸盘(chuck)时，亦必须先将所述静电吸盘上的陶瓷盘拆除。然而，此拆除的步骤需耗费一定的工时。

再者，等离子反应室元件通常包含用于与另一等离子反应室元件对接或组装的组合基准面、气密圈结合面…等，为避免减损组合基准面的尺寸或者是破坏结合面的表面，必须在表面处理前采用遮护胶带或涂料的方式遮蔽等离子反应室元件的所述非处理区域。然而，若采用遮护胶带的方式进行遮蔽，在表面处理完的后势必会产生大量的废弃物，造成环境的污染。以及，若采用涂料的方式进行遮蔽，必须耗费大量工时在所述非处理区域重复地涂覆多层的涂料，才得以形成具有足够保护力的遮蔽膜。此外，当去除所述遮蔽膜后同样会产生大量的废弃物，造成环境的污染。

有鉴于此，有必要提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，其可有效地保护等离子反应室元件上的部分特殊部件(例如铜管或陶瓷盘)，使得在表面处理前不需将所述特殊部件拆除，以及所述遮蔽装置能快速地将所述与所述等离子反应室元件结合，并且有效地遮蔽所述等离子反应室元件的非处理区域。

实用新型内容

为解决上述现有技术的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述遮蔽装置包含多个遮蔽单元，用于分别遮蔽所述等离子反应室元件的多个非处理区域，并且还包含至少一固定机构，用于将所述遮蔽装置与所述等离子反应室元件结合，进而使所述遮蔽装置能快速且有效地遮蔽所述等离子反应室元件的非处理区域。

为达上述的目的，本实用新型提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述等离子反应室元件的表面具有一目标处理区域和至少一非处理区域，所述遮蔽装置设置在所述等离子反应室元件的周围，用于遮蔽所述等离子反应室元件的所述至少一非处理区域并且暴露所述目标处理区域。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置至少包含：一第一遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的一第一面，用于遮蔽一位于所述第一面的第一非处理区域；一第二遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的相对于所述第一面的一第二面，用于遮蔽一位于所述第二面的第二非处理区域；以及一第一固定机构，用于将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别与所述等离子反应室元件结合。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述第一固定机构包含多个所述螺丝，以及所述等离子反应室元件、所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别锁固于所述等离子反应室元件的相对应的所述第一面或所述第二面。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元以及一第二固定机构，所述第三遮蔽单元设置在所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元之间，用于遮蔽一位于所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域，所述第二固定机构用于使所述遮蔽单元互相结合。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述第三遮蔽单元为从一垂直于所述第一遮蔽单元或所述第二遮蔽单元的方向延伸形成。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述第二固定机构包含多个所述螺丝，所述遮蔽装置的所述遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述遮蔽单元互相锁固。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽单元与所述等离子反应室元件互相结合的位置和所述遮蔽单元互相结合的位置分别包含一气密元件。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置进一步包含一第四遮蔽单元套设在所述等离子反应室元件的一突出部，用于遮蔽一位于所述突出部的第四非处理区域。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元设置于所述等离子反应室元件的所述第一面，用于遮蔽位于所述等离子反应室元件的一突出部的一第三非处理区域，其中所述突出部从所述等离子反应室元件的所述第一面向外突伸形成。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置包含一测试头，用于测试所述遮蔽装置是否有漏气现象。

附图说明

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

图1显示一种等离子反应装置。

图2显示一种根据本实用新型的第一实施例的遮蔽装置与等离子反应室元件的剖面组装视图。

图3显示图2的遮蔽装置的俯视图。

图4显示图2的遮蔽装置的仰视图。

图5显示一种根据本实用新型的第二实施例的遮蔽装置与等离子反应室元件的剖面组装视图。

图6显示一种根据本实用新型的第三实施例的遮蔽装置与等离子反应室元件的剖面视图。

图7显示一种根据本实用新型的第四实施例的遮蔽装置与等离子反应室元件的剖面组装视图。

图8显示一种根据本实用新型的第五实施例的遮蔽装置与等离子反应室元件的剖面组装视图。

具体实施方式

为了让本实用新型的上述及其他目的、特征、优点能更明显易懂，下文将特举本实用新型优选实施例，并配合附图，作详细说明如下。

请参照图1，其显示一种等离子反应装置10。所述等离子反应装置10包含不同构型的第一等离子反应室元件11和第二等离子反应室元件15。一般而言，所述等离子反应装置10在运作一段时间后必须进行定期的维修与保养，并且通过化学性、物理性和机械性的方式将所述第一等离子反应室元件11和所述第二等离子反应室元件15中的目标处理区域进行表面处理。所述目标处理区域可能位在所述第一等离子反应室元件11和所述第二等离子反应室元件15的内表面和/或外表面。

如图1所示，所述第一等离子反应室元件11和所述第二等离子反应室元件15分别包含一铜管12、16，所述铜管12、16的管路封闭在所述第一等离子反应室元件11和所述第二等离子反应室元件15的内，并且所述铜管12、16的两端口突伸出所述等离子反应室元件11、15的一侧壁之外。因此，在将所述等离子反应室元件11、15进行表面处理前，必须遮蔽所述铜管12、16外露的端口，以避免在使用化学性的方式进行表面处理时铜管与化学液体产生反应。再者，所述第一等离子反应室元件11还包含用于与另一等离子反应室元件相组合的组合基准面13以及结合面14。在所述结合面14上可用于放置气密元件(例如气密环或垫片)，以确保所述第一等离子反应室元件11能与所述另一等离子反应室元件紧密结合。因此，为了避免在进行表面处理时减损所述第一等离子反应室元件11的所述组合基准面13的尺寸或者是破坏所述结合面14的表面，必须将所述部位做适当地遮蔽。

请参照图2，其显示一种根据本实用新型的第一实施例的遮蔽装置100与所述第一等离子反应室元件11的剖面组装视图。所述第一等离子反应室元件11包含一腔体以及至少一位在所述腔体内侧的目标处理区域A。所述遮蔽装置100大部份设置在所述第一等离子反应室元件11的周围，包含一第一遮蔽单元110、一第二遮蔽单元120和一第三遮蔽单元130。所述第一遮蔽单元110设置在所述第一等离子反应室元件11的一第一面，用于遮蔽至少一位于所述第一面的第一非处理区域B1，即所述第一等离子反应室元件11的所述组合基准面13和所述结合面14的所在位置。并且，所述第一遮蔽单元110在相对于所述第一等离子反应室元件11的所述目标处理区域A的位置形成两开口112，用于暴露所述第一等离子反应室元件11的所述目标处理区域A。所述第二遮蔽单元120设置在所述第一等离子反应室元件11的相对于所述第一面的一第二面，用于遮蔽至少一位于所述第二面的第二非处理区域B2，并且，所述第二遮蔽单元120在相对于所述第一等离子反应室元件11的所述目标处理区域A的位置形成一开口122，用于暴露所述第一等离子反应室元件11的所述目标处理区域A。所述第三遮蔽单元130设置在所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120之间，用于遮蔽至少一位于所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域B3，其中所述第三非处理区域B3包含所述第一等离子反应室元件11的外露的铜管12的端口(未标示)。因此，本实用新型通过互相组合以环绕在所述第一等离子反应室元件11的周围的所述遮蔽装置100能有效地遮蔽所述第一等离子反应室元件11的所述非处理区域B1、B2、B3并且暴露所述目标处理区域A。此外，由于是通过化学性、物理性和机械性的方式将所述第一等离子反应室元件11的目标处理区域A进行表面处理，因此所述遮蔽装置100优选地可由坚固且耐腐蚀性的材料所构成。惟需注意的是，于图2中虽显示数个非处理区域B1、B2、B3，但不因此限定所述非处理区域B1、B2、B3的数量，最少可以为单一非处理区域B1、B2、B3；同样的，本实用新型不限定所述第一遮蔽单元110、所述第二遮蔽单元120和所述第三遮蔽单元130的使用数量。

如图2所示，所述遮蔽装置100的所述第三遮蔽单元130还包含一测试头W1，用于测试当所述遮蔽装置100组合至所述等离子反应室元件11时，两者之间是否有漏气现象。应当理解的是，所述测试头W1亦可设置在所述遮蔽装置100的其他的遮蔽单元上，例如所述第一遮蔽单元110或哥第二遮蔽单元120，惟不局限此。同理，本实用新型的其他优选实施例的遮蔽装置同样可包含所述测试头W1，在此不加以赘述。

请参照图3和图4，其分别显示图2的所述遮蔽装置100的俯视图和仰视图，即显示所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120的外表面。所述遮蔽装置100还包含一第一固定机构，其可为多个所述螺丝，以及所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120的所述开口112、122的周围分别形成多个锁固孔114、124，并且在所述第一等离子反应室元件11上的所述第一面或所述第二面的相应位置上同样设置有多个锁固孔。通过所述多个所述螺丝能将所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120分别锁固于所述第一等离子反应室元件11的相对应的所述第一面或所述第二面。应当注意的是，在所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120与所述第一等离子反应室元件11的结合面可进一步包含一气密元件(如气密环或垫片)，使得所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120与所述第一等离子反应室元件11之间能紧密的结合。

如图2至图4所示，所述遮蔽装置100还包含一第二固定机构，其可为多个所述螺丝，以及在所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120的外周围形成多个锁固孔116、126，并且所述第三遮蔽单元130上的相应位置同样设置有多个锁固孔。通过所述多个所述螺丝将所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120分别与所述第三遮蔽单元130一同锁固。应当注意的是，在所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120与所述第三遮蔽单元130的结合面可进一步包含一气密元件(如气密环或垫片)，使得所述第一遮蔽单元110和所述第二遮蔽单元120与所述第三遮蔽单元130之间能紧密的结合。

请参照图5，其显示一种根据本实用新型的第二实施例的遮蔽装置200与等离子反应室元件20的剖面组装视图。所述等离子反应室元件20包含至少一位在其腔体内侧的目标处理区域A、至少一位于一第一面的第一非处理区域B1、至少一位于相对所述第一面的第二面的第二非处理区域B2、以及至少一位在所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域B3。所述遮蔽装置200包含一第一遮蔽单元210和一第二遮蔽单元220。所述第一遮蔽单元210设置在所述等离子反应室元件20的所述第一面，用于遮蔽所述第一非处理区域B1，并且所述第一遮蔽单元210还包含一开口212，用于暴露所述等离子反应室元件20的所述目标处理区域A。所述第二遮蔽单元220设置在所述等离子反应室元件20的所述第二面，用于遮蔽所述第二非处理区域B2，并且所述第二遮蔽单元220还包含一开口222，用于暴露所述等离子反应室元件20的所述目标处理区域A，其中所述第二遮蔽单元220的外周围朝一垂直的方向延伸形成一第三遮蔽单元230，用于遮蔽所述第三非处理区域B3。

如图5所示，所述第一遮蔽单元210和所述第二遮蔽单元220包含一气密元件214、224，设置在所述第一遮蔽单元210和所述第二遮蔽单元220与所述等离子反应室元件20的结合面，使得所述第一遮蔽单元210和所述第二遮蔽单元220与所述等离子反应室元件20之间能紧密的结合。以及，通过所述第二遮蔽单元220延伸所形成的所述第三遮蔽单元230上还包含一气密元件226，设置在所述第三遮蔽单元230与所述第一遮蔽单元210的结合面，使得所述第一遮蔽单元210和所述第三遮蔽单元230之间能紧密的结合。应当注意的是，所述遮蔽装置200还包含一第一固定机构和一第二固定机构。所述第一固定机构用于将所述第一遮蔽单元210和所述第二遮蔽单元220与所述等离子反应室元件20结合，以及所述第二固定机构用于使所述第一遮蔽单元210和所述第二遮蔽单元220互相结合。所述第一固定机构和所述第二固定机构可包含如同本实用新型的第一优选实施例中所述的多个螺丝或者是一夹具。

请参照图6，其显示一种根据本实用新型的第三实施例的遮蔽装置300与等离子反应室元件30的剖面视图。所述等离子反应室元件30的第一面包含一突出部32，以及位在所述突出部32的上表面的第一目标处理区域A1和位于相对所述第一面的第二面的第二目标处理区域A2。以及，所述等离子反应室元件30还包含位在所述第一面的第一非处理区域B1、位在所述第二面的第二非处理区域B2、位在所述的一面和所述第二面之间的第三非处理区域B3、以及位在所述突出部32的第四非处理区域B4。所述遮蔽装置300包含一第一遮蔽单元310、一第二遮蔽单元320、一第三遮蔽单元330、和一第四遮蔽单元340。所述第一遮蔽单元310设置在所述等离子反应室元件30的所述第一面，用于遮蔽所述第一非处理区域B1，并且所述第一遮蔽单元310在对应所述等离子反应室元件30的所述突出部32的位置形成一开口。所述第二遮蔽单元320设置在所述等离子反应室元件30的所述第二面，用于遮蔽所述第二非处理区域B2，并且所述第二遮蔽单元320还包含一开口322，用于暴露所述等离子反应室元件30的所述第二目标处理区域A2。第三遮蔽单元330设置在所述第一遮蔽单元310和第二遮蔽单元320之间，用于遮蔽所述第三非处理区域B3，其中所述第三遮蔽单元330是由所述第二遮蔽单元320的外周围朝一垂直的方向延伸所形成。所述第四遮蔽单元340套设在所述等离子反应室元件30的所述突出部30，用于遮蔽所述第四非处理区域B4，并且所述第四遮蔽单元340还包含一开口342，用于暴露所述等离子反应室元件30的所述第一目标处理区域A1。在所述第三实施例中，通过设置几何构型的遮蔽单元，用以遮蔽在所述等离子反应室元件30上的具有特殊构型的部位，使得本实用新型能有效地遮蔽所述等离子反应室元件30的每一非处理区域。

请参照图7，其显示一种根据本实用新型的第四实施例的遮蔽装置400与等离子反应室元件40的剖面组装视图。所述等离子反应室元件40为一静电吸盘(chuck)，其第一面设置有一陶瓷盘44，以及在相对所述第一面的一第二面包含一突出部42。当将所述静电吸盘40进行表面处理时，目标在于去除所述静电吸盘40外侧边的膜层，即将图7中所示的目标处理区域A进行表面处理。并且，为避免表面处理时造成陶瓷盘44的损坏，需要将所述陶瓷盘44的表面进行遮蔽，即遮蔽图7中所示的第一非处理区域B1。此外，所述等离子反应室元件40还包含位于所述第二面的具有几何形状的第二非处理区域B2。

如图7所示，所述遮蔽装置400包含一第一遮蔽单元410和一第二遮蔽单元420。所述第一遮蔽单元410设置在所述等离子反应室元件40的所述第一面，并且所述第一遮蔽单元410还包含一凹陷部414用于容纳所述静电吸盘40的所述陶瓷盘44，使得所述第一遮蔽单元410不但能遮蔽所述陶瓷盘44还能遮蔽位于所述静电吸盘40的所述第一面的所述第一非处理区域B1。所述第二遮蔽单元420设置在所述等离子反应室元件40的所述第二面，并且在相对于所述静电吸盘40的所述突出部42的位置包含一凹槽424，用于容纳所述突出部42，使得所述第二遮蔽单元420能有效地遮蔽具有几何形状的所述第二非处理区域B2。

如图7所示，所述遮蔽装置400的所述第一遮蔽单元410和所述第二遮蔽单元420还包含一第一固定机构，其可为多个所述螺丝，以及在所述第一遮蔽单元410和所述第二遮蔽单元420上形成多个锁固孔412、422，并且在所述静电吸盘40上的相应位置同样设置有多个锁固孔。通过多个所述螺丝将所述第一遮蔽单元410和所述第二遮蔽单元420分别锁固于所述静电吸盘40的相对应的所述第一面或所述第二面。应当注意的是，在所述第一遮蔽单元410和所述第二遮蔽单元420与所述静电吸盘40的结合面可进一步包含一气密元件(如气密环或垫片)，使得所述第一遮蔽单元410和所述第二遮蔽单元420与所述静电吸盘40之间能紧密的结合。

请参照图8，其显示一种根据本实用新型的第五实施例的遮蔽装置500与等离子反应室元件50的剖面组装视图。所述等离子反应室元件50包含位于一第一面的第一目标处理区域A1和第一非处理区域B1、位于相对所述第一面的第二面的第二目标处理区域A2和第二非处理区域B2、以及位在所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域B3，其中所述第三非处理区域B3包含所述等离子反应室元件50的外露的铜管的端口(未标示)。所述遮蔽装置500包含一第一遮蔽单元510和一第二遮蔽单元520。所述第一遮蔽单元510设置在所述等离子反应室元件50的所述第一面，用于遮蔽所述第一非处理区域B1，并且所述第一遮蔽单元510还包含一开口，用于暴露所述等离子反应室元件50的位于所述第一面的所述第一目标处理区域A1。所述第二遮蔽单元520设置在所述等离子反应室元件50的所述第二面，用于遮蔽所述第二非处理区域B2，并且所述第二遮蔽单元520亦包含一开口，用于暴露所述等离子反应室元件50的位于所述第二面的所述第二目标处理区域A2，其中所述第二遮蔽单元520的外周围朝一垂直的方向延伸形成一第三遮蔽单元530，用于遮蔽位于所述等离子反应室元件50的所述第一面和所述第二面之间的所述第三非处理区域B3，进而有效地遮蔽位于所述等离子反应室元件50外侧边的所述外露的铜管的端口。

综上所述，本实用新型通过提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述遮蔽装置包含多个遮蔽单元，用于分别遮蔽所述等离子反应室元件的多个非处理区域，并且还包含至少一固定机构，用于所述遮蔽装置与所述等离子反应室元件结合，进而使所述遮蔽装置能快速且有效地遮蔽所述等离子反应室元件的非处理区域。

Claims (10)

1.一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，其特征在于，所述等离子反应室元件的表面具有至少一目标处理区域和至少一非处理区域，所述遮蔽装置设置在所述等离子反应室元件的周围，用于遮蔽所述等离子反应室元件的所述至少一非处理区域并且暴露所述至少一目标处理区域。

2.如权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置至少包含：

一第一遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的一第一面，用于遮蔽一位于所述第一面的第一非处理区域；

一第二遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的相对于所述第一面的一第二面，用于遮蔽一位于所述第二面的第二非处理区域；以及

一第一固定机构，用于将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别与所述等离子反应室元件结合。

3.如权利要求2所述的遮蔽装置，其特征在于，所述第一固定机构包含多个螺丝，所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别锁固于所述等离子反应室元件的相对应的所述第一面或所述第二面。

4.如权利要求2或3所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元以及一第二固定机构，所述第三遮蔽单元设置在所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元之间，用于遮蔽一位于所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域，所述第二固定机构用于使所述遮蔽单元互相结合。

5.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述第三遮蔽单元为从一垂直于所述第一遮蔽单元或所述第二遮蔽单元的方向延伸形成。

6.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述第二固定机构包含多个螺丝，所述遮蔽装置的所述遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述遮蔽单元互相锁固。

7.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽单元与所述等离子反应室元件互相结合的位置和所述遮蔽单元互相结合的位置分别包含一气密元件。

8.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置进一步包含一第四遮蔽单元套设在所述等离子反应室元件的一突出部，用于遮蔽一位于所述突出部的第四非处理区域。

9.如权利要求2所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元设置于所述等离子反应室元件的所述第一面，用于遮蔽位于所述等离子反应室元件的一突出部的一第三非处理区域，其中所述突出部从所述等离子反应室元件的所述第一面向外突伸形成。

10.如权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置包含一测试头，用于测试所述遮蔽装置是否有漏气现象。