CN205085514U - 半导体器件沾锡装置 - Google Patents

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陈伟
徐勇
叶建国
韩宙
程华胜
魏春阳
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Abstract

本实用新型涉及一种半导体器件沾锡装置,包括底板,其特征是:在所述底板上安装上锡装置、拉料装置和挡料装置;所述上锡装置包括固定在底板上的固定座和助焊件,在助焊件上安装助焊轨道;在所述固定座上安装第一上锡座,第一上锡座上安装助焊气缸座,助焊气缸座上安装助焊气缸;在所述第一上锡座上设置第一滑块轨道和上锡轨道,在第一滑块轨道上设置滑块,滑块与第二上锡座连接。当料在助焊轨道上时,拉料装置利用气缸将料拉至上锡轨道,并用挡料装置将料限制在上锡轨道上,上锡装置完成对料的上锡。本实用新型能够减少人工上锡这一工序,实现自动化上锡,提高工作效率,降低生产成本。

Description

半导体器件沾锡装置
技术领域
本实用新型涉及一种半导体器件沾锡装置,属于半导体器件沾锡装置技术领域。
背景技术
常用的半导体在焊接到电路板之前需要人工在引脚上沾锡,这样增加了工人的劳动量,导致工作效率较低,生产成本较高。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种半导体器件沾锡装置,能够达到半导体引脚的沾锡要求,无需人工操作。
按照本实用新型提供的技术方案,所述半导体器件沾锡装置,包括底板,其特征是:在所述底板上安装上锡装置、拉料装置和挡料装置;所述上锡装置包括固定在底板上的固定座和助焊件,在助焊件上安装助焊轨道;在所述固定座上安装第一上锡座,第一上锡座上安装助焊气缸座,助焊气缸座上安装助焊气缸;在所述第一上锡座上设置第一滑块轨道和上锡轨道,在第一滑块轨道上设置滑块,滑块与第二上锡座连接。
进一步的,所述挡料装置包括安装在助焊件上的第一挡料气缸座,第一挡料气缸座上安装挡料气缸,挡料气缸与第二上锡座之间设置第二挡料气缸座。
进一步的,所述拉料装置包括安装在第一上锡座上的第四拉料件,第四拉料件与助焊件连接,在第四拉料件上固定拉料轨道,拉料轨道一端连接第二滑块轨道,在第二滑块轨道上设置滑块,滑块与第三拉料气缸座连接,第三拉料气缸座上安装第三拉料气缸,第三拉料气缸的活塞杆上固定第二拉料件;在所述第四拉料件上安装第一拉料气缸座和第四拉料气缸座,第一拉料气缸座和第四拉料气缸座上安装第一拉料气缸,第一拉料气缸的活塞杆连接第一拉料件,第一拉料件连接第三拉料气缸座。
进一步的,在所述第四拉料件上安装第二拉料气缸座,在第二拉料气缸座上安装第二拉料气缸,第二拉料气缸的活塞杆连接第三拉料件,第三拉料件固定在第三拉料气缸座上。
进一步的,在所述第一上锡座上固定挡件。
本实用新型与现有技术相比,具有以下优点:本实用新型不仅实现了在半导体引脚上沾锡,无需人工操作,缩短了工序,减少工人的劳动量,而且能够达到半导体与流道之间流畅的运行效果,同时能够加快机器的运行速度,大大提高了工作效率,降低了生产成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型的主视图。
图3为图2的A-A剖视图。
具体实施方式
下面结合具体附图对本实用新型作进一步说明。
如图1~图3所示:所述半导体器件沾锡装置包括第一拉料气缸座1、第一拉料气缸2、第一上锡座3、助焊气缸座4、助焊气缸5、第四拉料气缸座6、第一滑块轨道7、挡料气缸8、助焊件9、第一拉料件10、第三拉料气缸11、第三拉料气缸座12、滑块13、第二滑块轨道14、底板15、第二拉料件16、拉料轨道17、助焊轨道18、第一挡料气缸座19、第二上锡座20、上锡轨道21、挡件22、第二挡料气缸座23、第三拉料件24、固定座25、第二拉料气缸座26、第四拉料件27、第二拉料气缸28等。
如图1~图3所示,本实用新型包括底板15,在底板15上安装上锡装置、拉料装置和挡料装置。
所述上锡装置包括固定在底板15上的固定座25和助焊件9,在助焊件9上安装助焊轨道18;在所述固定座25上安装第一上锡座3,第一上锡座3上安装助焊气缸座4,助焊气缸座4上安装助焊气缸5;在所述第一上锡座3上设置第一滑块轨道7和上锡轨道21,在第一滑块轨道7上设置滑块,滑块与第二上锡座20连接;在所述第一上锡座3上固定挡件22,挡件22用于限定第二上锡座20在第一滑块轨道7上的移动位置。
所述挡料装置包括安装在助焊件9上的第一挡料气缸座19,第一挡料气缸座19上安装挡料气缸8,挡料气缸8与第二上锡座20之间设置第二挡料气缸座23。
所述拉料装置包括安装在第一上锡座3上的第四拉料件27,第四拉料件27与助焊件9连接,在第四拉料件27上固定拉料轨道17,拉料轨道17一端连接第二滑块轨道14,在第二滑块轨道14上设置滑块13,滑块13与第三拉料气缸座12连接,第三拉料气缸座12上安装第三拉料气缸11,第三拉料气缸11的活塞杆上固定第二拉料件16;在所述第四拉料件27上安装第一拉料气缸座1和第四拉料气缸座6,第一拉料气缸座1和第四拉料气缸座6上安装第一拉料气缸2,第一拉料气缸2的活塞杆连接第一拉料件10,第一拉料件10连接第三拉料气缸座12。通过第一拉料气缸2的活塞杆运动带动第三拉料气缸11在第二滑块轨道14和拉料轨道17上移动。
在所述第四拉料件27上安装第二拉料气缸座26,在第二拉料气缸座26上安装第二拉料气缸28,第二拉料气缸28的活塞杆连接第三拉料件24,第三拉料件24固定在第三拉料气缸座12上。
本实用新型的工作原理:当料在助焊轨道上时,拉料装置利用气缸将料拉至上锡轨道,并用挡料装置将料限制在上锡轨道上,上锡装置中的第二上锡座20在助焊气缸5的作用下向下压,完成对料的上锡。这样能够减少人工上锡这一工序,实现自动化上锡,提高工作效率,降低生产成本。

Claims (5)

1.一种半导体器件沾锡装置,包括底板(15),其特征是:在所述底板(15)上安装上锡装置、拉料装置和挡料装置;所述上锡装置包括固定在底板(15)上的固定座(25)和助焊件(9),在助焊件(9)上安装助焊轨道(18);在所述固定座(25)上安装第一上锡座(3),第一上锡座(3)上安装助焊气缸座(4),助焊气缸座(4)上安装助焊气缸(5);在所述第一上锡座(3)上设置第一滑块轨道(7)和上锡轨道(21),在第一滑块轨道(7)上设置滑块,滑块与第二上锡座(20)连接。
2.如权利要求1所述的半导体器件沾锡装置,其特征是:所述挡料装置包括安装在助焊件(9)上的第一挡料气缸座(19),第一挡料气缸座(19)上安装挡料气缸(8),挡料气缸(8)与第二上锡座(20)之间设置第二挡料气缸座(23)。
3.如权利要求1所述的半导体器件沾锡装置,其特征是:所述拉料装置包括安装在第一上锡座(3)上的第四拉料件(27),第四拉料件(27)与助焊件(9)连接,在第四拉料件(27)上固定拉料轨道(17),拉料轨道(17)一端连接第二滑块轨道(14),在第二滑块轨道(14)上设置滑块(13),滑块(13)与第三拉料气缸座(12)连接,第三拉料气缸座(12)上安装第三拉料气缸(11),第三拉料气缸(11)的活塞杆上固定第二拉料件(16);在所述第四拉料件(27)上安装第一拉料气缸座(1)和第四拉料气缸座(6),第一拉料气缸座(1)和第四拉料气缸座(6)上安装第一拉料气缸(2),第一拉料气缸(2)的活塞杆连接第一拉料件(10),第一拉料件(10)连接第三拉料气缸座(12)。
4.如权利要求3所述的半导体器件沾锡装置,其特征是:在所述第四拉料件(27)上安装第二拉料气缸座(26),在第二拉料气缸座(26)上安装第二拉料气缸(28),第二拉料气缸(28)的活塞杆连接第三拉料件(24),第三拉料件(24)固定在第三拉料气缸座(12)上。
5.如权利要求1所述的半导体器件沾锡装置,其特征是:在所述第一上锡座(3)上固定挡件(22)。
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