CN205057216U - 多基准台电极 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000037237 body shape Effects 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000010892 electric spark Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
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Abstract
本实用新型公开了一种多基准台电极，所述多基准台电极包括电极本体和至少两基准台，至少两所述基准台呈阶梯状设置以使一基准台凸设于下一层基准台的碰数面上，且相邻两基准台的基准角呈一定夹角，所述电极本体设置于顶层的基准台的碰数面上。与现有技术相比，本实用新型加工时，可对多基准台电极的多个基准台进行校准后，依次使用数个基准台完成多次电极加工，无需完成一次电极加工进行一次电极加工进行一次基准台校准操作，提高生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及模具加工，尤其涉及一种加工模具的电极。
背景技术
目前消费品市场的塑胶产品的外形设计越来越趋向于薄、小、亮、精等尖端的时尚主题。这样就会给模具的制造带来相当的难度。如此，传统的做法和设备已经无法满足现在的产品要求，故在产品加工、模具制造的过程中，对于某些难以直接使用机械加工成型的物理工件采取电火花(EDM)技术成型。因此，在制造行业，电极技术是一种不可或缺的技术环节。
电极加工是利用电极与工件之间通电产生火花的瞬间高温，去层层蚀除工件表面上材料，尤其适用于高硬度导电工件的加工。参考图1，现有的电极10包括电极本体11和基准座12，所述电极本体11设在基准座12的碰数面121上，加工模具时，利用基准座12的基准面122和基准角(图中未示)对电极本体11进行定位操作，控制基准座12沿自身基准面的高度方向推送，电极本体11随之沿自身高度方向推送以对模具进行加工，加工好一个部位后，控制基准座12返位，当加工下一个模具或者当前模具的另一相同部位时，必须再次对基准座12校准，以确定电极本体11的加工位置和加工角度，即一次电极加工只能加工一个模具的一个部位，生产效率低。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种多基准台电极，可以一次实现多个电极加工，上次效率高。
为了实现上有目的，本实用新型公开了一种多基准台电极，所述多基准台电极包括电极本体和至少两基准台，至少两所述基准台呈阶梯状设置以使一基准台凸设于下一层基准台的碰数面上，且相邻两基准台的基准角呈一定夹角，所述电极本体设置于顶层的基准台的碰数面上。
与现有技术相比，本实用新型的多基准台电极具有多个基准台，且相邻基准台的基准角呈一定夹角，加工时，可对多基准台电极的多个基准台进行校准后，使用一基准台完成第一次电极加工，然后将基准台偏转一个夹角并偏移一个位置，即可使用另一层基准台完成第二次电极加工，依次可使用本实用新型的多基准台电极完成与基准台数目相同的多次电极加工，无需完成一次电极加工进行一次电极加工进行一次基准台校准操作，提高生产效率。
较佳地，每一所述基准台的碰数面为矩形，即基准台为矩形块，便于基准台的校准。具体地，每一所述基准台的碰数面为正方形，便于多个基准台的叠加。
较佳地，所述基准台至少有三个，且任意两基准台的基准角呈一定夹角。较佳地，所述至少两基准台中每一基准台的深度相等。
较佳地，所述至少两基准台包括第一基准台和第二基准台，所述第一基准台凸设于所述第二基准台的碰数面上，且所述第一基准台的基准角与所述第二基准台的基准角呈一定夹角，所述电极本体设置于所述第一基准台上。
具体地，所述至少两基准台还包括第三基准台，所述第二基准台凸设于所述第三基准台的碰数面上，且所述第二基准台的基准角与所述第三基准台的基准角呈一定夹角。
附图说明
图1是现有电极的立体示意图。
图2是本实用新型所述多基准台电极的立体示意图。
图3是图2中所述多基准台电极的俯视图。
图4是图2中所述多基准台电极的侧视图。
图5a是使用本实用新型所述多基准台电极进行第一次电极加工的示意图。
图5b是图5a中使用本实用新型所述多基准台电极进行第一次电极加工另一角度的示意图。
图6a是使用本实用新型所述多基准台电极进行第二次电极加工的示意图。
图6b是图5a中使用本实用新型所述多基准台电极进行第二次电极加工另一角度的示意图。
图7a是使用本实用新型所述多基准台电极进行第三次电极加工的示意图。
图7b是图5a中使用本实用新型所述多基准台电极进行第三次电极加工另一角度的示意图。
图8是本实用新型所述多基准台电极加工好的模具的示意图。
图9是本实用新型所述多基准台电极进行三次加工偏转的示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。
参考图2至图4，本实用新型公开了一种多基准台电极200，所述多基准台电极200包括电极本体20和至少两基准台，至少两所述基准台呈阶梯状设置以使一基准台凸设于下一层基准台的碰数面上，且相邻两基准台的基准角呈一定夹角，所述电极本体20设置于所述顶层的基准台的碰数面上。
参考图2至图4，在本实施例中，所述多基准台电极200包括第一基准台21和第二基准台22，所述第一基准台21凸设于所述第二基准台22的碰数面222上，且所述第一基准台21的基准角211与所述第二基准台22的基准角221呈一定夹角，所述电极本体20设置于所述第一基准台21的碰数面212上。
较佳者，在另一优选实施例中，所述多基准台电极200还包括第三基准台23，所述第二基准台22凸设于所述第三基准台23的碰数面上，且所述第二基准台22的基准角与所述第三基准台23的基准角呈一定夹角。参考图2至图4，在该实施例中，所述基准台的数目是三个，当然，所述基准台的数目也可以是两个、四个、五个等数目。
较佳者，参考图2和图4，任意两基准台的基准角呈一定夹角。即，第一基准台21的基准角211和第二基准台22的基准角221呈一定夹角，第一基准台21的基准角211和第三基准台23的基准角231呈一定夹角，第二基准台22的基准角221和第三基准台23的基准角231呈一定夹角。其中，相邻两基准台的基准角之间的夹角和相对位置可由本技术人员依据实际需要设置，且每两个相邻基准台的基准角之间的夹角可有相等也可以不等。
较佳者，参考图2至图4，在本实施例中，每一所述基准台的碰数面(第一基准台21的碰数面212、第二基准台22的碰数面222、第三基准台23的碰数面232)为正方形，便于基准台的叠加。当然，所述基准台的碰数面形状也可以为其他形状，例如矩形、其他多边形的基准台，其中基准台的碰数面具体形状可由技术人员依据实际需求进行设定，以好定位为宜，例如基准台具有两组由两平行相背且竖直的基准面组成，且两组基准面相互垂直。
本实施例中，每一基准台(第一基准台21、第二基准台22、第三基准台23)的深度相等。当然，每一基准台的深度也可以不等，且深度的具体数值由技术人员依据实际需要设置。
参考图5a至图9，描述使用本实用新型所述多基准台电极200进行加工模具的具体过程：依据多基准台电极200的第一基准台21、第二基准台22和第三基准台23进行校准，开始第一次电极加工工序：参考图5a、图5b和图9，依据第一基准台21对电极本体20的定位，将多基准台电极200移动到模具30对应的加工区域41处(如图5a、图5b和图9所示)，且第一基准台21的基准角211朝向预设位置，控制多基准台电极200沿电极本体11的直身位深度方向推送，同时配合火花机的放电程序，对模具30的加工区域41进行电极加工，从而在模具30的加工区域41处加工完成一个产品型腔51(如图8所示)，控制多基准台电极200复位，以结束第一次电极加工工序。利用第三基准台23对电极本体20的定位，将多基准台电极200偏转预设角度并移动预设位置，使得多基准台电极200到达模具30对应的加工区域42处(如图6a、图6b和图9所示)，对电极本体20进行定位，且第三基准台23的基准角231朝向预设位置，控制多基准台电极200沿电极本体11的直身位深度方向推送，同时配合火花机的放电程序，对模具30的加工区域42进行电极加工，从而在模具30的加工区域42处加工完成一个产品型腔52(如图8所示)，控制多基准台电极200复位，以结束第二次电极加工工序。利用第二基准台22对电极本体20的定位，将多基准台电极200偏转预设角度并移动预设位置，使得多基准台电极200到达模具30对应的加工区域43处(如图7a、图7b和图9所示)，且第二基准台22的基准角221朝向预设位置，控制多基准台电极200沿电极本体11的直身位深度方向推送，同时配合火花机的放电程序，对模具30的加工区域43进行电极加工，从而在模具30的加工区域43处加工完成一个产品型腔53(如图8所示)，控制多基准台电极200复位，以结束第三次电极加工工序。其中，图8是三次电极加工结束后，模具30的结构，图9是三次电极加工中，对多基准台电极200进行偏转个移动的示意图，虚线表示该次电极加工中没有用到的基准台。
其中，多基准台电极200中依据三个基准台进行电极加工的加工顺序由技术人员依据实际需要设定，并不限定在上述步骤。
以上所揭露的仅为本实用新型的优选实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。
Claims (7)
1.一种多基准台电极，其特征在于：包括电极本体和至少两基准台，至少两所述基准台呈阶梯状设置以使一基准台凸设于下一层基准台的碰数面上，且相邻两基准台的基准角呈一定夹角，所述电极本体设置于顶层的基准台的碰数面上。
2.如权利要求1所述的多基准台电极，其特征在于：每一所述基准台的碰数面为矩形。
3.如权利要求2所述的多基准台电极，其特征在于：每一所述基准台的碰数面为正方形。
4.如权利要求1所述的多基准台电极，其特征在于：所述基准台至少有三个，且任意两基准台的基准角呈一定夹角。
5.如权利要求1所述的多基准台电极，其特征在于：所述至少两基准台中每一基准台的深度相等。
6.如权利要求1所述的多基准台电极，其特征在于：所述至少两基准台包括第一基准台和第二基准台，所述第一基准台凸设于所述第二基准台的碰数面上，且所述第一基准台的基准角与所述第二基准台的基准角呈一定夹角，所述电极本体设置于所述第一基准台上。
7.如权利要求6所述的多基准台电极，其特征在于：所述至少两基准台还包括第三基准台，所述第二基准台凸设于所述第三基准台的碰数面上，且所述第二基准台的基准角与所述第三基准台的基准角呈一定夹角。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520546048.2U CN205057216U (zh) | 2015-07-24 | 2015-07-24 | 多基准台电极 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN205057216U true CN205057216U (zh) | 2016-03-02 |
Family
ID=55383819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201520546048.2U Active CN205057216U (zh) | 2015-07-24 | 2015-07-24 | 多基准台电极 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN205057216U (zh) |
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN108067696A (zh) * | 2016-11-18 | 2018-05-25 | 苏州汉扬精密电子有限公司 | 双基准电极 |
| CN111774678A (zh) * | 2019-04-03 | 2020-10-16 | 苏州汉扬精密电子有限公司 | 电极结构 |
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2015
- 2015-07-24 CN CN201520546048.2U patent/CN205057216U/zh active Active
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