CN205004335U - Amoled显示面板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种AMOLED显示面板,包括:基板,盖板,以及所述基板和所述盖板间隙之间的像素电路、GOA电路、玻璃胶以及地线布局区域;所述像素电路设置在所述基板和所述盖板间隙的中部;所述GOA电路设置在所述像素电路的边缘;所述地线布局区域环绕在所述GOA电路的周围;所述玻璃胶覆盖所述地线布局区域,且粘接所述基板和所述盖板;所述地线布局区域至少包括多层并联的金属层,以及所述多层并联的金属层之间的绝缘层;所述多层并联的金属层在并联连接点处通过通孔相接。本实用新型技术方案,保持同样的电气性能的条件下,能够使显示面板的边框更为窄化。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示器件技术领域,特别是涉及一种AMOLED显示面板。
背景技术
AMOLED(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode,有源矩阵有机发光二极管)显示面板相比于以往的液晶显示器来说,具有响应速度快、无需背光灯、对比度更高、整体结构轻薄、视角广阔以及柔性等优点,具有更为广阔的应用前景。
随着技术的发展,消费者更加注重显示面板的外观设计以及显示区域在整个显示面板中所占的比例,拥有窄边框的显示面板更易得到消费者的青睐。如何使得边框窄化,是AMOLED显示面板结构设计中的一个问题。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种AMOLED显示面板,应用本方案,保持同样的电气性能的条件下,能够使显示面板的边框更为窄化。
一种AMOLED显示面板,包括:基板,盖板,以及所述基板和所述盖板间隙之间的像素电路、GOA电路、玻璃胶以及地线布局区域;
所述像素电路设置在所述基板和所述盖板间隙的中部;所述GOA电路设置在所述像素电路的边缘;所述地线布局区域环绕在所述GOA电路的周围;所述玻璃胶覆盖所述地线布局区域,且粘接所述基板和所述盖板;
所述地线布局区域至少包括多层并联的金属层,以及所述多层并联的金属层之间的绝缘层;所述多层并联的金属层在并联连接点处通过通孔相接。
在一个实施例中,所述地线布局区域包括第一至第三金属层,第一与第二金属层之间的第一绝缘层,第二与第三金属层之间的第二绝缘层;
在并联连接点处,所述第三金属层通过通孔连接所述第一金属层和所述第二金属层,所述第一金属层与所述第二金属层不直接相连接。
在一个实施例中,所述地线布局区域包括第一至第四金属层,第一与第二金属层之间的第一绝缘层,第二与第三金属层之间的第二绝缘层,第三与第四金属层之间的第三绝缘层和平坦层;
在并联连接点处,第三金属层通过通孔连接第一金属层、第二金属层和第四金属层,第一、第二、第四金属层之间不直接相连接。
在一个实施例中,所述地线布局区域包括第一金属层和第二金属层,第一金属层和第二金属层之间的第一、第二绝缘层,第二金属层之上的第三绝缘层和平坦层;在并联连接点处,第一金属层和第二金属层通过通孔相连接。
上述AMOLED显示面板,地线布局区域采用多层并联的金属层,由于并联电阻小于其中任一电阻,故在保持电气特性(包括电阻)不变的条件下,金属层所需的横截面积就更小,也就相比传统技术,使得显示面板的边框更为窄化。
附图说明
图1A为一个实施例中的AMOLED显示面板的俯视示意图;
图1B为一个实施例中的AMOLED显示面板的部分侧面剖视图;
图2A为一个实施例中包含三层金属层的地线布局区域在并联连接点处的侧面剖视图;
图2B为一个实施例中包含三层金属层的地线布局区域在非并联连接点处的侧面剖视图;
图3A为一个实施例中包含四层金属层的地线布局区域在并联连接点处的侧面剖视图;
图3B为一个实施例中包含四层金属层的地线布局区域在非并联连接点处的侧面剖视图;
图4为一个实施例中包含两层金属层的地线布局区域在并联连接点处的侧面剖视图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
参见图1A和图1B,在一个实施例中提供了一种AMOLED显示面板,包括:基板101,盖板102,以及基板101和盖板102间隙之间的像素电路103、GOA(GateDriverOnArray)电路104、玻璃胶(fritplastic)105以及地线(ELVSS)布局区域106。其中,基板101和盖板102可以是玻璃材质,盖板102透明。像素电路103设置在基板101和盖板102间隙的中部。GOA电路104设置在像素电路103的边缘。地线布局区域106环绕在GOA电路104的周围。玻璃胶105覆盖地线布局区域106,且粘接基板101和盖板102,用于封闭显示面板。本实施例中,地线布局区域106至少包括多层并联的金属层,以及多层并联的金属层之间的绝缘层。多层并联的金属层在并联连接点处通过通孔相接,通孔可以由刻蚀绝缘层等方式得到。
参见图2A和图2B,在一个实施例中,地线布局区域106包括第一至第三金属层(201、202、203),第一与第二金属层之间的第一绝缘层211,第二与第三金属层之间的第二绝缘层212。在并联连接点处,第三金属层203通过通孔连接第一金属层201和第二金属层202,第一金属层201与第二金属层202不直接相连接。参见图2B,在第三金属层203之上,还可以具有第三绝缘层213。
图2A和图2B中实施例中的工艺流程为:首先形成第一金属层201,之后形成第一绝缘层211,然后形成第二金属层202,接着形成第二绝缘层212,之后对第二绝缘层212刻蚀一个孔连接第二金属层202,对第一绝缘层211和第二绝缘层212刻蚀连接到第一金属层201处,由于这两个孔所接触的材料不同,所以孔刻蚀在不同的位置。形成过孔之后,再制作第三金属层203。
参见图3A和图3B,在一个实施例中,地线布局区域106包括第一至第四金属层(301、302、303、304),第一与第二金属层之间的第一绝缘层311,第二与第三金属层之间的第二绝缘层312,第三与第四金属层之间的第三绝缘层313和平坦层320。在并联连接点处,第三金属层303通过通孔连接第一金属层301、第二金属层302和第四金属层304,第一、第二、第四金属层之间不直接相连接。
图3A和图3B中的结构可以基于图2A、图2B来实现,在图2A中的第三金属层上首先沉积第四绝缘层,然后再沉积一平坦层,之后再沉积第四金属层。而第四金属层是以第三金属层为中介相连接的,在平坦层和第四绝缘层挖孔以确保第四金属层和第三金属层连接,最后四层金属相互连接形成并联电路。
参见图4,在一个实施例中,地线布局区域包括第一金属层401和第二金属层402,第一金属层401和第二金属层402之间的第一、第二绝缘层(411、412),第二金属层402之上的第三绝缘层413和平坦层420。在并联连接点处,第一金属层401和第二金属层402通过通孔相连接。图4中的工艺结构可以选取图3A中任意两层金属层来达到,在本实施例中,结构是选取了图3A实施例中的″第一金属层″和″第三金属层″。
上述实施例中的AMOLED显示面板,地线布局区域采用多层并联的金属层,由于并联电阻小于其中任一电阻,故在保持电气特性(包括电阻)不变的条件下,金属层所需的横截面积就更小,也就相比传统技术,使得显示面板的边框更为窄化。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (4)
1.一种AMOLED显示面板,其特征在于,包括:基板,盖板,以及所述基板和所述盖板间隙之间的像素电路、GOA电路、玻璃胶以及地线布局区域;
所述像素电路设置在所述基板和所述盖板间隙的中部;所述GOA电路设置在所述像素电路的边缘;所述地线布局区域环绕在所述GOA电路的周围;所述玻璃胶覆盖所述地线布局区域,且粘接所述基板和所述盖板;
所述地线布局区域至少包括多层并联的金属层,以及所述多层并联的金属层之间的绝缘层;所述多层并联的金属层在并联连接点处通过通孔相接。
2.根据权利要求1所述的AMOLED显示面板,其特征在于,所述地线布局区域包括第一至第三金属层,第一与第二金属层之间的第一绝缘层,第二与第三金属层之间的第二绝缘层;
在并联连接点处,所述第三金属层通过通孔连接所述第一金属层和所述第二金属层,所述第一金属层与所述第二金属层不直接相连接。
3.根据权利要求1所述的AMOLED显示面板,其特征在于,所述地线布局区域包括第一至第四金属层,第一与第二金属层之间的第一绝缘层,第二与第三金属层之间的第二绝缘层,第三与第四金属层之间的第三绝缘层和平坦层;
在并联连接点处,第三金属层通过通孔连接第一金属层、第二金属层和第四金属层,第一、第二、第四金属层之间不直接相连接。
4.根据权利要求1所述的AMOLED显示面板,其特征在于,所述地线布局区域包括第一金属层和第二金属层,第一金属层和第二金属层之间的第一、第二绝缘层,第二金属层之上的第三绝缘层和平坦层;在并联连接点处,第一金属层和第二金属层通过通孔相连接。
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US20220406878A1 (en) * | 2018-04-04 | 2022-12-22 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Wiring structure of pixel driving circuit, display panel, and display device |
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