CN204953432U - 环保型硅片清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种环保型硅片清洗装置，包括支架、清洗槽、表面开有孔洞的转筒，清洗槽设置在支架上，清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，所述转筒内壁上设有若干个硅片存放装置，所述清洗槽上端设有进水管，清洗槽内设有温度传感器、加热装置、超声波发生器，清洗槽外侧设有控制器，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，所述清洗槽底部连接出水管，出水管下端连接净化装置，净化装置下端连接排水管，本实用新型解决了清洗装置清洗效果不好、清洗后甩干操作不方便和清洗液直接排放污染环境的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种环保型硅片清洗装置。
背景技术
随着科学技术的发展，硅片的应用越来越广，在各种领域中都得到了应用。
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
硅片清洗时需要用到清洗装置，但是一般的清洗装置清洗效果比较差，硅片清洗后还要取出进行甩干，操作起来比较麻烦，而且清洗后的清洗液往往直接排放，污染环境。
实用新型内容
本实用新型发明的目的是提供一种环保型硅片清洗装置，该环保型硅片清洗装置解决了清洗装置清洗效果不好、清洗后甩干操作不方便和清洗液直接排放污染环境的问题。
为了实现上述发明目的，本实用新型的环保型硅片清洗装置包括支架、清洗槽、表面开有孔洞的转筒，清洗槽设置在支架上，清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，所述转筒内壁上设有若干个硅片存放装置，所述清洗槽上端设有进水管，清洗槽内设有温度传感器、加热装置、超声波发生器，清洗槽外侧设有控制器，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，所述清洗槽底部连接出水管，出水管下端连接净化装置，净化装置下端连接排水管。
所述加热装置为加热管。
所述电机为正反转电机。
所述硅片存放装置与转筒内壁卡槽连接。
所述净化装置由上至下依次包括过滤层、分解层、杀菌层。
采用这种环保型硅片清洗装置，具有以下优点：
1、由于清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，这样在硅片清洗时，可以提高清洗效果，而且清洗完后，可以利用转筒进行甩干，操作起来非常方便；
2、由于清洗槽内设有温度传感器、加热装置，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，当清洗槽内的清洗液温度高于或低于设定值范围时，由控制器控制加热装置是否工作，这样就能保证清洗液始终保持在最适宜的清洗温度，提高了清洗效果；而且使用了超声波发生器，进一步提高了清洗效果；
3、由于清洗槽底部连接出水管，出水管下端连接净化装置，净化装置下端连接排水管，这样可以对用过的清洗液进行净化处理，避免直接排放污染环境，而且可以净化处理后二次利用。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1是本实用新型环保型硅片清洗装置的结构示意图。
其中有：1.支架；2.清洗槽；3.转筒；4.电机；5.转轴；6.硅片存放装置；7.进水管；8.超声波发生器；9.温度传感器；10.加热装置；11.控制器；12.出水管；13.净化装置；13.1.过滤层；13.2.分解层；13.3.杀菌层；14.排水管。
具体实施方式
图1所示环保型硅片清洗装置，包括支架1、清洗槽2、表面开有孔洞的转筒3，清洗槽2设置在支架1上，清洗槽2内设有转筒3，清洗槽2下方设有电机4，电机4输出端连接转轴5，转轴5延伸至清洗槽2内，转轴5与转筒3连接，所述转筒3内壁上设有若干个硅片存放装置6，所述清洗槽2上端设有进水管7，清洗槽2内设有温度传感器9、加热装置10、超声波发生器8，清洗槽2外侧设有控制器11，温度传感器9、加热装置10分别与控制器11连接，所述清洗槽2底部连接出水管12，出水管12下端连接净化装置13，净化装置13下端连接排水管14。
所述加热装置10为加热管。
所述电机4为正反转电机。
所述硅片存放装置6与转筒3内壁卡槽连接。
所述净化装置13由上至下依次包括过滤层13.1、分解层13.2、杀菌层13.3。
当需要清洗时，将硅片放置在转筒3内的硅片存放装置6内，然后启动电机4，使转筒3转动，当清洗液温度超过或低于设定温度时，温度传感器9将温度信号传给控制器11，由控制器11控制是否启动或关闭加热装置10，使清洗液始终保持在最适宜的温度；当硅片清洗完之后，清洗液通过出水管12进入到净化装置13内进行过滤、分解、杀菌处理，然后通过排水管14排出，然后硅片通过转筒3甩干。
本申请中没有详细说明的技术特征为现有技术。上述实施例仅例示性说明本申请的原理及其功效，而非用于限制本申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本申请的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本申请的权利要求所涵盖。
Claims (5)
1.一种环保型硅片清洗装置，其特征在于：包括支架、清洗槽、表面开有孔洞的转筒，清洗槽设置在支架上，清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，所述转筒内壁上设有若干个硅片存放装置，所述清洗槽上端设有进水管，清洗槽内设有温度传感器、加热装置、超声波发生器，清洗槽外侧设有控制器，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，所述清洗槽底部连接出水管，出水管下端连接净化装置，净化装置下端连接排水管。
2.按照权利要求1所述的环保型硅片清洗装置，其特征在于：所述加热装置为加热管。
3.按照权利要求1所述的环保型硅片清洗装置，其特征在于：所述电机为正反转电机。
4.按照权利要求1所述的环保型硅片清洗装置，其特征在于：所述硅片存放装置与转筒内壁卡槽连接。
5.按照权利要求1所述的环保型硅片清洗装置，其特征在于：所述净化装置由上至下依次包括过滤层、分解层、杀菌层。
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| CN201520583750.6U CN204953432U (zh) | 2015-08-05 | 2015-08-05 | 环保型硅片清洗装置 |
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| CN204953432U true CN204953432U (zh) | 2016-01-13 |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105618426A (zh) * | 2016-02-22 | 2016-06-01 | 成都聚智工业设计有限公司 | 新型铸造模具清洗装置 |
| CN108339797A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-07-31 | 南京康翱峰自动化科技有限公司 | 微电子壳的清洗装置 |
| US12078930B2 (en) | 2020-02-18 | 2024-09-03 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Photoresist feeding device |
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2015
- 2015-08-05 CN CN201520583750.6U patent/CN204953432U/zh not_active Expired - Fee Related
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