CN204869936U - 一种聚酯薄膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于聚酯薄膜技术领域,尤其涉及一种聚酯薄膜,所述聚酯薄膜包括由PEN聚酯切片制成的PEN聚酯芯层,所述PEN聚酯芯层的上表面覆有抗粘层,所述PEN聚酯芯层的下表面覆有抗静电层,其中,所述抗粘层为由PET聚酯切片母料制成的PET聚酯抗粘层,所述抗静电层为由PET聚酯抗静电母料制成的PET聚酯抗静电层。本实用新型提供的聚酯薄膜具有较高的挺度,又兼具一定的热稳定性,具有良好的爽滑性,有效提高下游客户镀铝生产效率,有效消除膜面间的大量静电,显著降低下游客户加工镀铝断膜的几率。
Description
技术领域
本实用新型属于聚酯薄膜技术领域,尤其涉及一种聚酯薄膜。
背景技术
在当前国内聚酯薄膜竞争日趋激烈的市场上,处于对节约原料成本的考虑,下游客户对超薄聚酯薄膜(≤6μm)的需求越来越旺盛,尤其在标签用镀铝复合这些应用领域,要求聚酯薄膜的厚度均匀性好、挺度高,且在镀铝过程无粘连、不断膜。
目前生产这种聚酯薄膜厚度均在4.5~7μm,尤其6μm以下存在一个主要问题是:膜面不挺、镀铝过程易断膜。
根据长期的超薄聚酯薄膜生产和客户反馈,7μm以下的聚酯薄膜主要存在耐撕裂性差、膜面不挺、膜与膜发黏的问题,导致下游客户面临镀铝速度慢生产效率低,出现的频繁断膜也使聚酯薄膜企业面临大量投诉索赔问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种聚酯薄膜,挺度高、弹性模量大,镀铝过程不粘连、不断膜,有效提高镀铝速度。
本实用新型是这样实现的,一种聚酯薄膜,所述聚酯薄膜包括由PEN聚酯切片制成的PEN聚酯芯层,所述PEN聚酯芯层的上表面覆有抗粘层,所述PEN聚酯芯层的下表面覆有抗静电层,其中,所述抗粘层为由PET聚酯切片母料制成的PET聚酯抗粘层,所述抗静电层为由PET聚酯抗静电母料制成的PET聚酯抗静电层。
作为一种改进,所述PEN聚酯芯层为由膜级PEN聚酯切片制成的膜级PEN聚酯芯层,所述PET聚酯抗粘层为由膜级PET聚酯切片母料制成的膜级PET聚酯抗粘层。
作为进一步地改进,所述PET聚酯抗粘层为无机物改性PET聚酯抗粘层,其中,所述无机物平均粒径为2~6μm,无机物的含量为2500~4000ppm。
作为更进一步地改进,所述无机物改性PET聚酯抗粘层为微米级二氧化硅改性PET聚酯抗粘层、微米级硅酸钠改性PET聚酯抗粘层、微米级碳酸钙改性PET聚酯抗粘层或微米级硫酸钡改性PET聚酯抗粘层。
作为一种改进,所述PET聚酯抗静电层为由有机抗静电剂与PET聚酯切片母料共混制成的有机抗静电剂PET聚酯抗静电层。
作为进一步地改进,所述PET聚酯抗静电层为聚醚型PET聚酯抗静电层、离子型PET聚酯抗静电层或磺酸盐PET聚酯抗静电层。
作为一种改进,所述聚酯薄膜的厚度为4.5~6μm,其中抗粘层的厚度为1~1.5μm,抗静电层的厚度为1~1.5μm。
由于采用上述技术方案,本实用新型的有益效果是:
由于聚酯薄膜包括由PEN聚酯切片制成的PEN聚酯芯层,构成聚酯薄膜的稳定层、挺度层,属于二元醇改性的晶态聚酯,具有熔点高、刚性大的特点,因而使得聚酯薄膜整体上具有不易变形、耐温性好的优点,PEN聚酯芯层的上表面覆有抗粘层,PEN聚酯芯层的下表面覆有抗静电层,其中,抗粘层为由PET聚酯切片母料制成的PET聚酯抗粘层,使该层具有良好的爽滑性,抗静电层为由PET聚酯抗静电母料制成的PET聚酯抗静电层,有效去除超薄膜的静电,降低薄膜间的吸附粘连,本实用新型克服了普通PET超薄膜的热稳定性差、膜面偏软以及镀铝粘连断膜问题。
由于PEN聚酯芯层为由膜级PEN聚酯切片制成的膜级PEN聚酯芯层,具有更好的挺度,PET聚酯抗粘层为由膜级PET聚酯切片母料制成的膜级PET聚酯抗粘层,PET聚酯抗粘层为无机物改性PET聚酯抗粘层,其中,无机物平均粒径为2~6μm,优选为3~5μm,无机物的含量为2500~4000ppm,使得抗粘层具有良好的爽滑性,抗粘效果好。
由于PET聚酯抗静电层为由有机抗静电剂与PET聚酯切片母料共混制成的有机抗静电剂PET聚酯抗静电层,具体为聚醚型PET聚酯抗静电层、离子型PET聚酯抗静电层或磺酸盐PET聚酯抗静电层,有效去除静电,降低薄膜间的吸附粘连。
由于聚酯薄膜的厚度为4.5~6μm,其中抗粘层的厚度为1~1.5μm,抗静电层的厚度为1~1.5μm,厚度设置合理,使用效果好。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图;
其中,1-PEN聚酯芯层,2-抗粘层,3-抗静电层。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1所示,一种聚酯薄膜,该聚酯薄膜包括由PEN聚酯切片制成的PEN聚酯芯层1,PEN聚酯芯层1的上表面覆有抗粘层2,PEN聚酯芯层1的下表面覆有抗静电层3,其中,抗粘层2为由PET聚酯切片母料制成的PET聚酯抗粘层,抗静电层3为由PET聚酯抗静电母料制成的PET聚酯抗静电层。
其中,上述PET是指聚对苯二甲酸乙二醇酯,英文名为Polyethyleneterephthalate,PEN是指聚萘二甲酸乙二醇酯,英文名称为polyethylenenaphthalate。
本实施例中,PEN聚酯芯层1为由膜级PEN聚酯切片制成的膜级PEN聚酯芯层,PET聚酯抗粘层为由膜级PET聚酯切片母料制成的膜级PET聚酯抗粘层,优选采用100%膜级PET聚酯切片母料制成的膜级PET聚酯抗粘层。
本实施例中,PET聚酯抗粘层为无机物改性PET聚酯抗粘层,其中,无机物平均粒径为2~6μm,优选为3~5μm,无机物的含量为2500~4000ppm,是在PET聚酯切片进入挤出机的过程中加入一定含量的无机物,具体地可以是微米级二氧化硅改性PET聚酯抗粘层、微米级硅酸钠改性PET聚酯抗粘层、微米级碳酸钙改性PET聚酯抗粘层或微米级硫酸钡改性PET聚酯抗粘层。
本实施例中,PET聚酯抗静电层为由有机抗静电剂与PET聚酯切片母料共混制成的有机抗静电剂PET聚酯抗静电层,具体可以是聚醚型PET聚酯抗静电层、离子型PET聚酯抗静电层或磺酸盐PET聚酯抗静电层。
本实施例,聚酯薄膜的厚度为4.5~6μm,其中抗粘层2的厚度为1~1.5μm,抗静电层3的厚度为1~1.5μm,纵向收缩率为4~6%,横向收缩率为2~4%。
本实用新型是通过三台双螺旋挤出设备通过A/B/C三流道模头制成,具体制备方法如下:
(1)将PEN聚酯切片、膜级PEN聚酯切片、PET聚酯抗静电母料分别经原料输送,进入双螺杆挤出机熔融塑化抽真空,然后经预过滤器、计量泵、主过滤器,进入模头;
(2)将上述步骤中形成的三层熔体经模头汇合后流出,由静电吸附装置压在急冷辊上,急速冷却形成铸片,然后依次经过预热后,进行纵向拉伸(纵向拉伸比为3.5~4.2,拉伸温度为(90~120℃),得到初级膜片;
(3)经过横向拉伸后的基膜经过热定型、冷却、测厚、边部切割、静电消除处理和在线收卷;
(4)根据客户的需要分切成相应规格的成品。
作为本实用新型的具体应用,实施例1是按上述制备方法生产的一种聚酯薄膜,总厚度为6μm,其中PEN聚酯芯层1厚度为4μm,抗粘层2和抗静电层3的厚度均为1μm;实施例2是按上述制备方法生产的一种聚酯薄膜,总厚度为4.5μm,其中PEN聚酯芯层1厚度为2.5μm,抗粘层2和抗静电层3的厚度均为1μm。实施例1和实施例2的典型物理性能指标见下表:
本实用新型不局限于上述实施方式,根据需要,抗粘层2、抗静电层3的厚度可以根据实际情况进行调整,该聚酯薄膜的总厚度可在4.5~6μm的范围内调整。
本实用新型提供的聚酯薄膜具有以下特点:1)具有较高的挺度,又兼具一定的热稳定性;2)抗粘层2具有良好的爽滑性,有效提高下游客户镀铝生产效率;3)抗静电层3有效消除膜面间的大量静电,显著降低下游客户加工镀铝断膜的几率。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种聚酯薄膜,其特征在于,所述聚酯薄膜包括由PEN聚酯切片制成的PEN聚酯芯层,所述PEN聚酯芯层的上表面覆有抗粘层,所述PEN聚酯芯层的下表面覆有抗静电层,其中,所述抗粘层为由PET聚酯切片母料制成的PET聚酯抗粘层,所述抗静电层为由PET聚酯抗静电母料制成的PET聚酯抗静电层。
2.根据权利要求1所述的聚酯薄膜,其特征在于,所述PEN聚酯芯层为由膜级PEN聚酯切片制成的膜级PEN聚酯芯层,所述PET聚酯抗粘层为由膜级PET聚酯切片母料制成的膜级PET聚酯抗粘层。
3.根据权利要求1或2所述的聚酯薄膜,其特征在于,所述PET聚酯抗粘层为无机物改性PET聚酯抗粘层,其中,所述无机物平均粒径为2~6μm,无机物的含量为2500~4000ppm。
4.根据权利要求3所述的聚酯薄膜,其特征在于,所述无机物改性PET聚酯抗粘层为微米级二氧化硅改性PET聚酯抗粘层、微米级硅酸钠改性PET聚酯抗粘层、微米级碳酸钙改性PET聚酯抗粘层或微米级硫酸钡改性PET聚酯抗粘层。
5.根据权利要求1或2所述的聚酯薄膜,其特征在于,所述PET聚酯抗静电层为由有机抗静电剂与PET聚酯切片母料共混制成的有机抗静电剂PET聚酯抗静电层。
6.根据权利要求5所述的聚酯薄膜,其特征在于,所述PET聚酯抗静电层为聚醚型PET聚酯抗静电层、离子型PET聚酯抗静电层或磺酸盐PET聚酯抗静电层。
7.根据权利要求1或2所述的聚酯薄膜,其特征在于,所述聚酯薄膜的厚度为4.5~6μm,其中所述抗粘层的厚度为1~1.5μm,抗静电层的厚度为1~1.5μm。
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