CN204748287U - 一种玻璃盖板的抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种玻璃盖板的抛光装置，其包括一机座、一抛光机构、一物料机构与一传送机构，抛光机构、物料机构与传送机构均设于机座上。物料机构包括固定于机座上的物料置放槽及放置在物料置放槽内的物料托盘，物料托盘上包括双环形排列且均匀分布的托盘置放槽及至少一设置于托盘置放槽的横纵交点处并与之贯通的托盘气孔；传送机构包括双环形排列且均匀分布于传送吸附盘上的多个吸附板，该吸附板上还包括设于吸附凹槽结构的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔。本实用新型提供了一种操作快捷、方便检查与调整、可固定玻璃盖板且不会对玻璃盖板造成磨损的玻璃盖板的抛光装置，该玻璃盖板抛光装置的适用范围广，具有非常好的市场应用价值。

Description

一种玻璃盖板的抛光装置

【技术领域】

本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种玻璃盖板的抛光装置。

【背景技术】

现有的玻璃盖板的制备过程一般包括开料、CNC工艺、抛光、钢化、超声波清洗、真空镀膜以及丝印等一系列特殊加工工艺，玻璃盖板具有美化装置和保护的作用，目前，玻璃盖板产品广泛用于手机镜片(LENS)、平板电脑、数码相框、汽车导航仪(GPS)、MP4镜片等触摸屏产品中。

其中，抛光工艺的作用理论包括机械切削法、化学凝胶法以及表面流动法。机械切削法是指采用坚硬的磨料切削玻璃表面凹凸微痕机构；化学凝胶法是指在玻璃表面水解形成硅酸凝胶层后去除，获得平整的玻璃盖板表面；而表面流动法，则是通过表面摩擦生热导致玻璃表面产生塑性流动，凸起部分可把凹点填平。其中，玻璃盖板的抛光工艺可以对玻璃盖板起到消痕、增亮的作用，也可以作为消除玻璃的浅表面划痕，是玻璃盖板制备过程中必不可少的一道工序。

现有技术中主要抛光操作中，一般是将玻璃盖板放置在一支撑平台上，需要进行抛光的玻璃盖板面朝上，然后抛光轮从上而下，与待抛光的玻璃盖板面接触后进行抛光操作。现有技术中，每次抛光工序只能允许一个置放有待抛光玻璃盖板的支撑平台进行加工，抛光时间长、工序复杂，且，由于在支撑平台上并未设置用于固定玻璃盖板的夹具，在玻璃盖板的抛光或传送过程中，玻璃盖板易发生位移，导致玻璃盖板损坏及玻璃盖板抛光效果不佳的问题。

【实用新型内容】

为克服现有玻璃盖板抛光装置中存在的效率低、效果不佳、玻璃盖板易发生位移的缺点，本实用新型提供一种操作简便、可固定玻璃盖板位置且不会对玻璃盖板造成磨损的抛光装置。

本实用新型中一种玻璃盖板的抛光装置，包括一机座、一抛光机构、一物料机构与一传送机构，抛光机构、物料机构与传送机构均设于机座上，其中，抛光机构与物料机构相对独立设置，传送机构设于机座的物理位置的中心。

优选地，抛光机构与物料机构相对独立设置，传送机构设于机座的物理位置的中心。

优选地，抛光机构包括相互连接的抛光驱动件与至少一个固定于机座上的抛光转轮。

优选地，物料机构包括固定于机座上的物料置放槽及放置在物料置放槽内的物料托盘，其中，物料托盘上包括双环形排列且均匀分布的多个托盘置放槽及至少一设置于托盘置放槽的横纵交点处并与之贯通的托盘气孔。

优选地，该托盘置放槽为“田”字型和/或“井”字型结构结合的托盘凹槽结构；该托盘置放槽还包括一个设于托盘凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的托盘气孔，或，两个及以上设于托盘凹槽结构内及相对于托盘凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的托盘气孔。

优选地，传送机构包括转动装置、传送机构驱动件及至少一传送真空吸附装置，其中，转动装置与传送真空吸附装置连接，并由传送机构驱动件可控制带动传送真空吸附装置转动；其中，传送真空吸附装置上包括双环形排列且均匀分布于传送吸附盘上的多个吸附板，该吸附板上包括“田”字型和/或“井”字型和/或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构。该吸附板上还包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔。

优选地，抛光机构还包括分别固定于机座上的第一抛光转轮、第二抛光转轮与第三抛光转轮。第一抛光转轮、第二抛光转轮、第三抛光转轮与物料机构中的物料置放槽分别相对于转动装置的X轴和Y轴的两侧等间距分布，其中，物料装置的X轴方向的两侧对应设有物料置放槽与第二抛光转轮，物料装置的Y轴方向的两侧对应设有第一抛光转轮与第三抛光转轮。

优选地，该物料托盘上设置的托盘置放槽与该传送吸附盘上设置的吸附板的数量及其相对位置一一对应匹配。

优选地，物料置放槽由两个贯通的上圆柱槽与下圆柱槽组成，其中，上圆柱槽的直径大于下圆柱槽的直径，下圆柱槽内配合置放物料托盘；物料置放槽内还包括用于固定物料托盘的托盘置放固定块。物料机构还包括与托盘气孔相连的托盘真空吸附装置，托盘置放槽、托盘气孔与托盘真空吸附装置之间形成贯通的气路。

优选地，传送机构包括设置于转动装置与传送真空吸附装置之间的传送控制气缸，传送控制气缸控制传送真空吸附装置的升降及转换传送真空吸附装置相对于机座为平行或垂直状态。

优选地，传送真空吸附装置包括第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置；转动装置的X轴方向的两侧对应设有第一传送真空吸附装置与第三传送真空吸附装置，相对地，转动装置的Y轴方向的两侧对应设有第二传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置。其中，转动装置带动与其连接的第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置水平转动，每次转动一个工位。

优选地，传送机构还进一步包括传送真空吸附气缸，传送真空吸附气缸设于转动装置上，并分别与第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置分别设置的传送吸附气孔及与传送吸附气孔贯通的吸附板之间形成贯通的气路。

与现有技术相比，首先，本实用新型玻璃盖板抛光装置中包括至少一个物料机构以及至少一个抛光机构，在实际应用中可根据抛光的需要，在机座上设置多个抛光机构和/或物料机构，从而可在一个装置中满足不同玻璃盖板抛光的需求。

其次，在现有技术中，待抛光的玻璃盖板一般放置在一支撑平台上，且待抛光的玻璃盖板面朝上，抛光轮位于待抛光的玻璃盖板上方对其进行抛光，这样的抛光方式，易使在抛光过程中产生的小颗粒、杂质由于重力作用粘附在玻璃盖板上，对玻璃盖板表面产生二次污染；本实用新型中将待抛光的玻璃盖板面朝下，而抛光转轮(包括第一抛光转轮、第二抛光转轮与第三抛光转轮)则固定在机座上，实现抛光转轮从玻璃盖板下方对玻璃盖板进行抛光处理，除了可以有效避免抛光过程中产生的小颗粒、杂质由于重力作用粘附在玻璃盖板上的问题，还便于采用传送机构传送玻璃盖板，从而实现在一个抛光装置中对玻璃盖板的进行多次抛光处理。

再次，在本实用新型中，在物料机构的物料托盘及传送机构中均设有相对应的真空吸附装置，其中，以传送机构中的第一传送真空吸附装置为例，该第一传送真空吸附装置中包括传送吸附盘，传送吸附盘上设有双环形排列且均匀分布的多个吸附板，该吸附板上用于放置玻璃盖板，其中玻璃盖板不用抛光的一面与吸附板接触，吸附板上还设有“田”字型或“井”字型或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构以及至少一个设于吸附凹槽结构横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔，传送吸附气孔与传送真空吸附装置气缸连接并形成贯通的气路。本实用新型中可通过传送真空吸附装置气缸、传送吸附气孔以及与其贯通连接的吸附凹槽结构，在吸附板与置放在其上的玻璃盖板接触面之间形成贯通的气路，实现真空负压或真空正压，使玻璃盖板与传送真空吸附装置的真空吸附固定持续的时间可控。进一步地，还可以根据不同玻璃盖板的要求，通过调整传送吸附气孔、吸附凹槽结构的形状与尺寸以及调整气缸的吸放气的速度与持续的时间，实现对不同玻璃盖板的抛光处理，从而有效解决了现有技术中玻璃盖板在抛光或传送过程中，玻璃盖板易发生位移、导致玻璃盖板损坏以及抛光效果不佳的问题且可适用于不同的玻璃盖板抛光处理中。而本实用新型中的物料托盘、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置以及第四传送真空吸附装置均包含相类似的结构，且可实现相似的技术效果。

此外，本实用新型中传送真空吸附装置可通过传送控制气缸调整为相对于机座平行或垂直的状态，其中，当传送真空吸附装置相对于机座垂直设置时，可方便操作者对传送真空吸附装置上吸附固定的玻璃盖板位置进行调整，从而使玻璃盖板的抛光效果更好。

因此，本实用新型提供了一种操作快捷、方便检查和调整、可固定玻璃盖板位置且不会对玻璃盖板造成磨损的玻璃盖板的抛光装置，该玻璃盖板抛光装置适用范围广，具有非常好的市场应用价值。

【附图说明】

图1是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的结构示意图。

图2是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的俯视图。

图3是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的仰视图。

图4是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的结构示意图。

图5是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的传送吸附盘的吸附板的结构示意图。

图6是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的俯视图。

图7是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的物料托盘的结构示意图。

图8是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的物料托盘的俯视图。

图9是本实用新型玻璃盖板的抛光装置的传送吸附盘中吸附板的吸附凹槽结构的第一变形实施例的俯视图。

图10是本实用新型玻璃盖板的抛光装置的传送吸附盘中吸附板的吸附凹槽结构的第二变形实施例的俯视图。

图11是本实用新型玻璃盖板的抛光装置的传送吸附盘中吸附板的吸附凹槽结构的第三变形实施例的俯视图。

【具体实施方式】

为了使本实用新型的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1，在本实施例中，一种玻璃盖板的抛光装置10包括一机座11、一抛光机构12、一物料机构13与一传送机构14，其中，抛光机构12、物料机构13与传送机构14均设于机座11上，抛光机构12与物料机构13相对独立设置，传送机构14设于机座11的物理位置的中心。传送机构14包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144、转动装置145与传送机构驱动件(图中未示)。

抛光机构12包括分别固定于机座11上的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123，抛光机构12还包括抛光驱动件(图中未示)，其中，抛光驱动件与第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123连接，抛光驱动件控制并带动第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123在原位水平转动，通过对抛光驱动件的参数进行调整，还可以调整第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123的转动速率和持续转动的时间。

该抛光机构12中的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123为羊毛轮。

物料机构13包括固定于机座11上的物料置放槽131及放置在物料置放槽131内的物料托盘132，其中，物料置放槽131由两个贯通的上圆柱槽(图中未示)与下圆柱槽(图中未示)组成，其中上圆柱槽的直径大于下圆柱槽的直径，下圆柱槽内可配合置放物料托盘132；物料置放槽131内还可包括用于固定物料托盘132的托盘置放固定块(图中未示)，托盘置放固定块可使物料托盘132在后续的操作过程中不会发生位移，提高抛光操作的精准度。

抛光机构12中的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122、第三抛光转轮123与物料机构13中的物料置放槽131分别相对于转动装置145的X轴和Y轴的两侧等间距分布，其中，转动装置145的X轴方向的两侧对应设有物料置放槽131与第二抛光转轮122，转动装置145的Y轴方向的两侧对应设有第一抛光转轮121与第三抛光转轮123。

在传送机构14中的转动装置145上连接有第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144，转动装置145上各个传送真空吸附装置的排布方式可分为X轴和Y轴的分布方式，转动装置145的X轴方向的两侧对应设有第一传送真空吸附装置141与第四传送真空吸附装置144，相对地，转动装置145的Y轴方向的两侧对应设有第二传送真空吸附装置142与第三传送真空吸附装置143。转动装置145由传送机构驱动件(图中未示)控制实现转动，转动装置145带动与其连接的第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144水平转动，每次转动一个工位，如可水平转动至抛光机构12第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123与物料机构13的物料置放槽131的上方，并与之一一对应匹配。

第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144在使用过程中，与机座11及设于机座11上的抛光机构12、物料机构13平行设置。

传送机构14上还包括传送真空吸附气缸146，传送真空吸附气缸146设于转动装置145上，并分别与第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144分别设置的传送吸附气孔1415及与传送吸附气孔1415贯通的吸附板1413之间形成贯通的气路，传送真空吸附气缸146可为第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144提供吸气或放气操作，实现第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144的真空负压或真空正压。

请参见图2，在本实施例中，传送机构14还可以进一步包括四个传送控制气缸147，传送控制气缸147分别设置于转动装置145与第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144之间，用于分别连接转动装置145与第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144，传送控制气缸147控制传送真空吸附装置(包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144)的升降，使第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144与其相对应匹配的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122、第三抛光转轮123、物料置放槽131之间接触更平稳、准确。

该传送控制气缸147还可控制与其连接的传送真空吸附装置(包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144)可相对于机座11为平行或垂直设置。

请参见图3-6，在本实施例中，第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144内均包括一传送吸附盘1411。图3中所示为传送吸附盘1411的仰视图，图4中所示为传送吸附盘1411的立体图，从图3-图4中可以看出，传送吸附盘1411为一定厚度的圆盘结构1412，传送吸附盘1411包括双环形排列且均匀分布于在传送吸附盘1411的表面上的吸附板1413。其中，在本实施例中，传送吸附盘1411上包括九个吸附板1413，其具体的排列方式为双环形排列并均匀分布，双环形分为外环和内环，其外环上设有六个吸附板1413、内环上设有三个吸附板1413。该吸附板1413为“田”字型和“井”字型结构相结合的吸附凹槽结构1414，吸附板1413上包括一个设于吸附凹槽结构1414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔1415。

该吸附板1413的较窄边与同一环(内环或外环)上的吸附板1413的较窄边相邻，以实现在相同面积的传送吸附盘1411上，放置较多的吸附板1413。

其中，传送吸附盘1411的直径为25-100cm，其直径还可为40-80cm，其直径还可为50-65cm，传送吸附盘1411的圆盘结构12的厚度为15-80mm，其厚度还可为20-60mm，其厚度还可进一步为30-50mm。

吸附板1413的厚度为10-50mm，其厚度还可为20-40mm，还可进一步为25-35mm。待吸附处理的玻璃盖板的面积应大于单个吸附板1413的面积。

如图5-6中所示，在本实施例中，该吸附板1413上还包括至少一设于吸附凹槽结构1414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔1415，传送吸附气孔1415贯通吸附板1413。传送吸附盘1411上还设有与吸附板1413的传送吸附气孔1415相对应设置的通气口1416，其中，通气口102设置于吸附板1413上的传送吸附气孔1415与传送真空吸附气缸146之间，使传送吸附气孔1415、通气口1416与传送真空吸附气缸146形成贯通的气路。该通气口1416的孔径，通气口1416的孔径的为3.0-10.0mm，其孔径还可为6.0-9.0mm，其孔径进一步可为6.5-8.0mm。该通气口1416贯穿传送吸附盘1411。

传送吸附气孔1415设置在吸附板1413的中心位置。由于，传送吸附气孔1415设置的位置会影响传送真空吸附气缸146对整个传送吸附盘1411的作用力的分布，而如图3中所示的设置，可以有效的分散传送真空吸附气缸146对传送吸附盘1411与放置在其表面的传送吸附盘1411之间产生平衡的真空吸附力，不会出现因真空吸附受力不均、而导致玻璃盖板脱落的问题。

该吸附板1413的大小根据所需输送或转移的玻璃盖板的数量、大小而定，传送吸附气孔1415的深度也以贯穿传送吸附盘1411为准。

如图5中所示，吸附板1413上还设有“田”字型与“井”字型结合的吸附凹槽结构1414。该吸附凹槽结构1414的深度为3.0-10.1mm，其深度还可为5.0-10.0mm，其深度进一步可为6.5-8.5mm。该吸附凹槽结构1414的其宽度为3.0-10.0mm，其宽度还可为5.5-8.5mm，其宽度进一步可为6.5-7.0mm；传送吸附气孔1415其孔径为3.0-10.0mm，其孔径还可为6.0-9.0mm，其孔径进一步可为6.5-8.0mm。

其中，传送吸附气孔1415与通气口1416的孔径相同。

其中，吸附板1413由于具有10-50mm的厚度，因此，吸附板1413略高于传送吸附盘1411的表面。此外，玻璃盖板需要加工处理(如抛光处理)的一面朝上，而玻璃盖板另一面则与传送吸附盘1411上的吸附板1413接触。

此外，第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144中的传送吸附盘1411的吸附板1413的置放位置相同。

请参见图7-8，在本实施例中，物料托盘132为空心的圆柱体结构，物料托盘132包括一圆环形侧面133以及设于圆环形侧面所形成的贯通的圆柱体一端的底部平面134，其中，托盘置放槽1321双环形排列且均匀分布于在物料托盘132的内表面底部平面134上，物料托盘132还包括托盘真空吸附装置(图中未示)，该托盘置放槽1321为“田”字型和/或“井”字型结构结合的托盘凹槽结构1323，该托盘置放槽1321包括一个设于托盘凹槽结构1323的横纵交点处并与之贯通的托盘气孔1322。

从图8中可以看出，在本实施例中，物料托盘132上包括九个托盘置放槽1321，其具体的排列方式为外环形上设有六个托盘置放槽1321、内环形上设有三个托盘置放槽1321，其中，托盘真空吸附装置(图中未示)通过与其相连的托盘气孔1322实现吸气或放气操作，托盘置放槽1321、托盘气孔1322与托盘真空吸附装置(图中未示)之间形成贯通的气路。

待输送转移的玻璃盖板的面积大于单个托盘置放槽1321的面积的情况下，物料托盘132与置放在其上的玻璃盖板之间，通过与托盘气孔1322贯通的托盘凹槽结构1323为真空负压或真空正压状态，实现吸附或脱离操作。

该物料托盘132的面积可为45-150cm²，其面积大小还可为60-120cm²，其面积大小可进一步为75-100cm²。

如图8中所示，托盘气孔1322设置在托盘置放槽1321的中心位置。由于，托盘气孔1322设置的位置会影响托盘真空吸附装置(图中未示)对整个物料托盘132的作用力的分布，而如图3中所示的设置，可以有效的分散托盘真空吸附装置(图中未示)对物料托盘132与放置在其表面的玻璃盖板之间产生平衡的真空吸附力，不会出现因真空吸附受力不均、而导致玻璃盖板脱落的问题。

该托盘置放槽1321的大小也根据所需输送或转移的玻璃盖板的数量、大小而定，托盘气孔1322的深度也以贯穿物料托盘132为准。

其中，托盘置放槽1321内设置的托盘凹槽结构1323的深度为3.0-10.1mm，其深度还可为5.0-10.0mm，其深度进一步可为6.5-8.5mm。

托盘置放槽1321内设置的托盘凹槽结构1323的宽度为3.0-10.0mm，其宽度还可为5.5.5-8.5mm，其宽度进一步可为6.5-7.0mm。

托盘气孔1322的孔径为3.0-10.0mm，其孔径还可为6.0-9.0mm，其孔径进一步可为6.5-8.0mm。

其中，托盘真空吸附装置(图中未示)通过与其相连的托盘气孔1322实现吸气或放气操作，托盘置放槽1321中的托盘凹槽结构1323、托盘气孔1322与托盘真空吸附装置(图中未示)之间形成贯通的气路，使物料托盘132与置放在其上的玻璃盖板之间，通过与托盘气孔1322贯通的托盘凹槽结构1323为真空负压或真空正压状态，实现吸附或脱离操作。其中，托盘气孔1322还可为两个、三个、四个、五个等。

该物料托盘132上设置的托盘置放槽1321与该传送吸附盘1411上设置的吸附板1413的数量及其相对位置一一对应匹配。

本实用新型的吸附板1413有变形实施例如下：

变形实施例1：请参见图9，该吸附板2413为“田”字型的吸附凹槽结构2414，吸附板2413包括三个设于“田”字型的吸附凹槽结构2414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔2415，其中三个传送吸附气孔2415具体设于“田”字型的吸附凹槽结构2414的中间横纵交点处，这样可以使传送吸附气孔2415中气体的流动更加顺畅，使其真空吸附力更佳。

变形实施例2：请参见图10，该吸附板3413为“田”字型与“井”字型重叠加而形成的吸附凹槽结构3414，吸附板3413中还包括三个设于“田”字型吸附凹槽结构3414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔3415，其中，三个传送吸附气孔3415具体设于吸附凹槽结构3414中间的横纵交点处，这样可以使传送吸附气孔3415中气体的流动更加顺畅，使其真空吸附力更佳。

变形实施例3：请参见图11，该吸附板4413为“田”字型、“井”字型与“米”字型三种形状重叠而形成的吸附凹槽结构4414，吸附板4413中还包括五个设于“田”字型吸附凹槽结构4414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔4415，其中，一个传送吸附气孔4415设于吸附凹槽结构4414的中心横纵交点处，另外四个传送吸附气孔4415设于吸附板4413的四个对角处，位于同一横向分布两个吸附孔4415呈相对于吸附凹槽结构4414的中心轴对称分布，这样可以使传送吸附气孔4415中气体的流动更加顺畅，使其真空吸附力更佳。

采用本实用新型的第一实施例中的玻璃盖板抛光装置的具体操作过程包括：

步骤S1，操作者将所需要抛光的玻璃盖板放置在物料托盘132中的托盘置放槽1321上，启动托盘真空吸附装置(附图中未示)，托盘真空吸附装置通过托盘气孔1322，在托盘置放槽1321与玻璃盖板间形成真空负压，放置在托盘置放槽1321上的玻璃盖板由于空气压力，与物料托盘132吸附连接。

步骤S2，操作者将物料托盘132转移至物料机构13的物料置放槽131中，调整物料托盘132的位置，使物料托盘132上的托盘置放槽1321与传送机构14的传送真空吸附装置(可以为第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143或第四传送真空吸附装置144中的任意一个)中吸附板1413可以一一对应后，操作物料托盘132中的托盘真空吸附装置通过托盘气孔1322放气，使物料托盘132表面与玻璃盖板间形成真空正压，使玻璃盖板与物料托盘132的真空吸附力消失，物料托盘132上玻璃盖板脱离确保玻璃盖板可以平稳、准确的从物料机构13转移到传送机构14中。

步骤S3，完成物料托盘132的调整后，使托盘真空吸附装置通过托盘气孔1322，在托盘置放槽1321与玻璃盖板间形成真空正压，传送机构14的转动装置145转动一个工位，并带动第一传送真空吸附装置141转动至物料机构13的上方，传送机构驱动件(附图中未示)控制传送控制气缸147作下降运动，并带动传送机构14的传送吸附盘1411与置放在物料机构13中的玻璃盖板接触后，传送机构驱动件(附图中未示)控制传送真空吸附气缸146通过传送吸附盘1411上的传送吸附气孔1415，在每个传送吸附盘1411上的吸附板1413与所接触的玻璃盖板之间形成真空负压，使吸附板1413与玻璃盖板形成吸附连接，传送机构驱动件控制传送控制气缸147作上升运动，并带动第一传送真空吸附装置141上升至一定的高度。

步骤S4，转动装置145带动固定连接在其上的装置或工件平移至第一抛光转轮121的上方，同时，操作者往物料机构13中放入另一放置有待抛光玻璃盖板的物料托盘132，并重复步骤S1-S3的工序。

步骤S5，传送机构14重复步骤S3中有关传送机构的相关工序，待第一传送真空吸附装置141上吸附的玻璃盖板与第一抛光转轮121接触后，抛光机构12中的抛光驱动件(附图中未示)驱动控制第一抛光转轮121水平转动，对玻璃盖板进行第一次抛光处理，相同的操作工序依次在第二抛光转轮122、第三抛光转轮123中进行。

在第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123运作过程中，转动装置145每轮换一个工位，操作者在物料机构13中置放入一个放置有待抛光玻璃盖板的物料托盘132，在玻璃盖板的抛光装置10中的第一个物料托盘132完成三次抛光处理后，物料机构13停止进料一次，传送机构14的第一传送真空吸附装置将已进行三次抛光处理后的玻璃盖板放置回物料机构13中，操作者启动物料托盘132的托盘真空吸附装置，使物料托盘132的托盘置放槽1321与玻璃盖板之间产生真空负压，使玻璃盖板与物料托盘132吸附连接，操作者将置放有三次抛光玻璃盖板的物料托盘132从物料机构13中取出，即完成一次玻璃盖板抛光的工序。

在实际使用中，将置放有玻璃盖板的物料托盘置入或取出，均可使用机械手自动化进行，可以省去人工的操作，提高玻璃盖板抛光的效率。

在上述的本实用新型第一实施例的使用步骤中，有关物料托盘132的使用还可具体为：

操作者将所需要加工处理的玻璃盖板放置在物料托盘132中的托盘置放槽1321上(其中，待输送转移的玻璃盖板的面积大于单个托盘置放槽1321的面积的情况下)，且每个玻璃盖板对应一个托盘置放槽1321。启动托盘真空吸附装置(图中未示)，托盘真空吸附装置(图中未示)通过托盘气孔1322，在托盘置放槽1321与玻璃盖板间形成真空负压，使放置在托盘置放槽1321上的玻璃盖板与托盘置放槽1321之间由于形成真空负压，而与物料托盘132真空吸附。将物料托盘132连同在其上真空吸附固定的玻璃盖板输送转移完成后，操作物料托盘132中的托盘真空吸附装置(图中未示)通过托盘气孔1322放出气体，使物料托盘132表面与玻璃盖板间形成真空正压，使玻璃盖板与物料托盘132的真空吸附力消失，物料托盘132上与置放在其上的玻璃盖板脱离，取走加工处理后的玻璃盖板。

其中，托盘置放槽1321与物料托盘132上放置物料的一面平齐，玻璃盖板需要加工处理的一面朝上，而玻璃盖板另一面则与物料托盘132上的托盘置放槽1321接触。该托盘置放槽1321的较窄边与同一环上的托盘置放槽1321的较窄边相邻。

在上述的本实用新型第一实施例的使用步骤中，有关传送吸附盘1411的使用还可具体为：

本实用新型第一实施例中的传送吸附盘1411在使用过程中，操作者将所需要加工处理的玻璃盖板放置或者通过其它设备转移到传送吸附盘1411中的吸附板1413上(其中，待处理的玻璃盖板的面积大于单个吸附板1413的范围的情况下)，且每个玻璃盖板对应一个吸附板1413。启动传送真空吸附气缸146，真空吸附装置通过传送吸附气孔1415，在吸附板1413与玻璃盖板间形成真空负压，使放置在吸附板1413上的玻璃盖板与吸附板1413之间由于形成真空负压，而与传送吸附气孔1415真空吸附连接。将传送吸附盘1411连同在其上真空吸附固定的玻璃盖板转移或输送至所需进行处理的装置中，如抛光装置中，对吸附板1413上吸附的玻璃盖板的表面进行加工处理，由于吸附板1413具有10-50mm的厚度，因此，加工处理装置一般只会作用于设置在吸附板1413上的玻璃盖板，而不会对传送吸附盘1411的整体造成影响。在玻璃盖板处理完成之后，操作与传送吸附盘1411相连的真空吸附装置(图中未示)通过传送吸附气孔1415放出气题，使传送吸附盘1411表面与玻璃盖板间形成真空正压，使玻璃盖板与传送吸附盘1411的真空吸附力消失，传送吸附盘1411上与置放在其上的玻璃盖板脱离后，取走加工处理后的玻璃盖板。

其中，吸附板1413由于具有10-50mm的厚度，因此，吸附板1413略高于传送吸附盘1411的表面。此外，玻璃盖板待加工处理(如抛光处理)的一面朝上，而玻璃盖板另一面则与传送吸附盘1411上的吸附板1413接触。

与现有技术相比，首先，本实用新型玻璃盖板的抛光装置10中包括至少一个物料机构13以及至少一个抛光机构12，在实际应用中可根据抛光的需要，在机座11上设置多个抛光机构12和/或物料机构13，从而可在一个装置中满足不同玻璃盖板抛光的需求。

其次，在现有技术中，待抛光的玻璃盖板放置在一支撑平台上，且待抛光的玻璃盖板面朝上，抛光轮位于待抛光的玻璃盖板上对其进行抛光，这样的抛光方式，易使在抛光过程中产生的小颗粒、杂质由于重力作用粘附在玻璃盖板上，对玻璃盖板表面产生二次污染；本实用新型中将待抛光的玻璃盖板面朝下，而抛光转轮(包括第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123)则固定在机座11上，实现抛光转轮从玻璃盖板下方对齐进行抛光处理，除了可以有效避免抛光过程中产生的小颗粒、杂质由于重力作用粘附在玻璃盖板上的问题，还便于采用传送机构14传送玻璃盖板而实现玻璃盖板的多次抛光处理。

再次，在本实用新型中，在物料机构12的物料托盘132及传送机构14中均设有相对应的真空吸附装置，其中，以传送机构14中的第一传送真空吸附装置141为例，该第一传送真空吸附装置141中包括传送吸附盘1411，传送吸附盘1411上设有双环形排列且均匀分布的多个吸附板1413，该吸附板1413上用于放置玻璃盖板，其中玻璃盖板不用抛光的一面与吸附板1413接触，吸附板1413上还设有“田”字型和/或“井”字型和/或“米”字型结构结合的吸附凹槽结构1414以及至少一个设于吸附凹槽结构1414的横纵交点处与之贯通传送吸附气孔1415，传送吸附气孔1415与传送真空吸附装置气缸146连接并形成贯通的气路。可通过传送真空吸附装置气缸146、传送吸附气孔1415以及与其贯通连接的吸附凹槽结构1414，在吸附板1413与置放在其上的玻璃盖板接触面之间形成贯通的气路，实现真空负压或真空正压，使玻璃盖板与传送真空吸附装置141的真空吸附固定持续的时间可控。进一步地，还可以根据不同玻璃盖板的要求，通过调整传送吸附气孔1415、吸附板1413中吸附凹槽结构1414的形状与尺寸以及调整转送真空吸附装置气缸146的吸气或放气量，实现对不同玻璃盖板的抛光处理，从而有效解决了现有技术中玻璃盖板在抛光或传送过程中，玻璃盖板易发生位移、导致玻璃盖板损坏以及抛光效果不佳的问题。而且本实用新型可适用于不同的玻璃盖板抛光处理中。此外，本实用新型中物料托盘132、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143以及第四传送真空吸附装置144均包含相类似的结构，且可实现相似的技术效果。

此外，本实用新型中传送真空吸附装置(包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144)可通过传送控制气缸147调整为相对于机座11平行或垂直状态，其中，当传送真空吸附装置相对于机座11垂直设置时，可方便操作者对传送真空吸附装置上吸附固定的玻璃盖板位置进行调整，从而使玻璃盖板的抛光效果更好。

因此，本实用新型提供了一种操作快捷、方便检查和调整、可固定玻璃盖板位置且不会对玻璃盖板造成磨损的玻璃盖板的抛光装置10，该玻璃盖板的抛光装置10适用范围广，具有非常好的市场应用价值。

以上所述仅为本实用新型较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本实用新型原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种玻璃盖板的抛光装置，包括一机座、一抛光机构、一物料机构与一传送机构，抛光机构、物料机构与传送机构均设于机座上，其特征在于：

抛光机构与物料机构相对独立设置，传送机构设于机座的物理位置的中心；

抛光机构包括相互连接的抛光驱动件与至少一个固定于机座上的抛光转轮；

物料机构包括固定于机座上的物料置放槽及放置在物料置放槽内的物料托盘，其中，物料托盘上包括双环形排列且均匀分布的多个托盘置放槽及至少一设置于托盘置放槽横纵交点处并与之贯通的托盘气孔；

传送机构包括转动装置、传送机构驱动件及至少一传送真空吸附装置，其中，转动装置与传送真空吸附装置连接，并由传送机构驱动件控制带动传送真空吸附装置转动；其中，传送真空吸附装置上包括双环形排列且均匀分布于传送吸附盘上的多个吸附板，该吸附板上还包括至少一设于吸附凹槽结构的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔。

2.如权利要求1所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：该物料托盘上设置的托盘置放槽与该传送吸附盘上设置的吸附板的数量及其相对位置一一对应匹配。

3.如权利要求1所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：抛光机构包括分别固定于机座上的第一抛光转轮、第二抛光转轮、第三抛光转轮。

4.如权利要求3所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：第一抛光转轮、第二抛光转轮、第三抛光转轮与物料机构中的物料置放槽分别相对于转动装置的X轴和Y轴的两侧等间距分布，其中，物料装置的X轴方向的两侧对应设有物料置放槽与第二抛光转轮，物料装置的Y轴方向的两侧对应设有第一抛光转轮与第三抛光转轮。

5.如权利要求1所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：物料机构还包括与托盘气孔相连的托盘真空吸附装置，托盘置放槽、托盘气孔与托盘真空吸附装置之间形成贯通的气路。

6.如权利要求1所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：传送真空吸附装置包括第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置；转动装置的X轴方向的两侧对应设有第一传送真空吸附装置与第三传送真空吸附装置，转动装置的Y轴方向的两侧对应设有第二传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置。

7.如权利要求6所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：转动装置带动与其连接的第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置水平转动，每次转动一个工位。

8.如权利要求7所述的玻璃盖板的抛光装置，其特征在于：传送机构还包括传送真空吸附气缸，传送真空吸附气缸设于转动装置上，并分别与第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置分别设置的传送吸附气孔及与传送吸附气孔贯通的吸附板之间形成贯通的气路。