CN206216417U - 一种抛光机构及抛光设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种抛光机构及抛光设备。所述抛光机构包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。所述抛光设备包括上述抛光机构。所述抛光机构在待加工玻璃盖板的边缘设置适宜厚度的保护件，可使待加工玻璃盖板边缘所受压力减小，以使待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，以提高抛光良率。
Description
【技术领域】
本实用新型涉及一种基板加工机构，尤其涉及一种抛光机构及抛光设备。
【背景技术】
由于受现有抛光技术的限制，待加工玻璃盖板的倒边在抛光后的良率很低，待加工玻璃盖板的直身位厚度不均匀，平整度不高，严重影响抛光良率，增加了生产的成本。在抛光生产作业中发现离中心位置距离越大的待加工玻璃盖板厚度越不均匀，因此需要一种新型抛光机构，以提高抛光良率。
【实用新型内容】
为克服现有抛光良率低的技术问题。本实用新型提供一种抛光机构及抛光设备。
本实用新型解决技术问题的技术方案是提供一种抛光机构，用于对待加工玻璃盖板抛光处理，其包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。
优选地，所述保护件靠近待加工玻璃盖板一侧的边缘轮廓匹配于所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓，且所述保护件厚度大于待加工玻璃盖板厚度。
优选地，所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离、保护件厚度满足以下公式：Q∝2πR1μF，其中Q为待加工玻璃盖板的磨削量，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，μ为摩擦因数，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力。
优选地，所述保护件包括至少两第一保护件及至少一第二保护件，至少一所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加工玻璃盖板的四个角处，所述第二保护件相对设于所述待加工玻璃盖板各边处。
优选地，所述第二保护件与所述第一保护件分离设置或所述第二保护件与所述第一保护件连接，用于调节玻璃盖板边缘的磨削量。
优选地，所述保护件的厚度、所述待加工玻璃盖板的厚度、所述软质载物层的半径满足以下公式：其中，H为保护件的厚度，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，R为软质载物层的半径，k为常数为0.7-1.5之间，d为待加工玻璃盖板的厚度，且所述第二保护件包括一顶面，所述顶面为斜面。
优选地，所述保护件的边缘到匹配的待加工玻璃盖板边缘距离为0.3-1.5mm，所述保护件厚度为0.25-1.5mm。
优选地，所述抛光机构包括多个吸附孔，所述工件放置区开设有凹槽，所述吸附孔连通所述凹槽的中心位置。
本实用新型解决技术问题的技术方案还提供一种抛光设备，所述抛光设备包括上述的抛光机构。
优选地，所述抛光设备还包括驱动机构，所述驱动机构连接带动所述软质载物层和/或所述磨盘相对旋转。
与现有技术相比，本实用新型抛光机构及抛光设备具有以下优点：
(1)通过在待加工玻璃盖板的边缘设置具有适宜厚度的保护件，可使抛光层对待加工玻璃盖板进行抛光过程中，所述抛光层先接触到保护件，而非直接与所述待加工玻璃盖板的边缘接触，设置保护件的厚度与所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，所述待加工玻璃盖板的边缘到软质载物层中心轴的距离越大，所述保护件的厚度越大，以使待加工玻璃盖板所述压力越小，使所述待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，提高抛光良率。
(2)由于磨削量Q∝2πR1μF，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力，待加工玻璃盖板的边缘到软质载物层中心轴的距离越大，设置保护件的厚度越大，以使相匹配待加工玻璃盖板的边缘所受压力越小，从而使待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，从而提高抛光良率。
(3)待加工玻璃盖板的边缘设置第一保护件设置及第二保护件，所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加工玻璃盖板的四个角处，所述第二保护件相对设于待加工玻璃盖板各边处，可使抛光层对待加工玻璃盖板进行抛光过程中，所述抛光层先接触到第一保护件及第二保护件，从而可使待加工玻璃盖板的边缘受到的压力减小，以调节待加工玻璃盖板各边的磨削量，使待加工玻璃盖板各边抛光均匀。
(4)设置第二保护件与第一保护件分离设置可以节省第二保护件用料成本。所述第二保护件与所述第一保护件连接，成框形结构，便于一次性取下并更换所述框形结构，以节省抛光周期提高抛光效率。
(5)在所述工件放置区开设有凹槽，所述吸附孔连通所述凹槽的中心位置，以使工件放置区表面的待加工玻璃盖板所受吸附力平衡，防止作业过程中待加工玻璃盖板脱落。
(6)采用材料不同的抛光层，可以对待加工玻璃盖板进行不同程度的抛光，以获得不同的抛光效果。
(7)所述抛光设备能使待加工玻璃盖板边缘磨削量相同，能提高待加工玻璃盖板的平整度，从而提高抛光良率。
(8)所述驱动机构连接带动所述软质载物层和/或所述磨盘相对旋转，用于对待加工玻璃盖板多次磨削抛光，因而具有较好的重复加工性能。
【附图说明】
图1是本实用新型第一实施例抛光机构结构示意图。
图2是本实用新型抛光机构爆炸结构示意图。
图3是本实用新型抛光机构的工件放置区结构放大主视示意图。
图4是本实用新型抛光机构的工件放置区结构放大俯视示意图。
图5是本实用新型第二实施例工件放置区结构放大俯视示意图。
图6是本实用新型第三实施例工件放置区结构放大俯视示意图。
图7是本实用新型第四实施例抛光设备结构示意图。
【具体实施方式】
为了使本实用新型的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
请参阅图1及图2，本实用新型第一实施例提供一种抛光机构1，用于对待加工玻璃盖板100进行抛光处理。所述待加工玻璃盖板100为四边形，其边缘包括待加工玻璃盖板100四个角和四个边，其中角和边相连接。所述抛光机构1包括磨盘11、软质载物层13及吸附托盘15。所述软质载物层13设置在所述磨盘11及所述吸附托盘15之间，所述吸附托盘15固定连接所述软质载物层13，并可带动所述软质载物层13转动。所述软质载物层13远离所述吸附托盘15一侧用于放置待加工玻璃盖板100且其待加工面与所述磨盘11相对设置，所述软质载物层13与所述磨盘11相对旋转，以使所述磨盘11对放置在软质载物层13上的待加工玻璃盖板100进行抛光处理。
所述磨盘11为圆形，其包括抛光层111，所述抛光层111可选用、毛刷、毛毡或毛毯等。所述磨盘11尺寸大于所述软质载物层13及所述吸附托盘15的尺寸，其中所述软质载物层13的尺寸与所述吸附托盘15的尺寸相同，且外形轮廓匹配。优选地，所述磨盘11尺寸是所述软质载物层13或所述吸附托盘15的尺寸1-2倍。设置所述磨盘11尺寸大于所述软质载物层13及所述吸附托盘15的尺寸，可以使所述软质载物层13与所述磨盘11相对旋转时，所述软质载物层13上放置待加工玻璃盖板100全部接触抛光层111，从而使待加工玻璃盖板的抛光程度均匀。所述磨盘11可旋转并同步带动抛光层111对待加工玻璃盖板100进行抛光处理。
请一并参阅图3，所述软质载物层13为软质材料，是圆形平面结构，其中心位置为中心10，所述软质载物层13可绕其自身中心轴旋转。所述软质载物层13包括工件放置区131及保护件133。待加工玻璃盖板100放置在所述工件放置区131内且其待加工面与磨盘11相对设置，所述保护件133与所述待加工玻璃盖板100的边缘轮廓相匹配。所述保护件133包括至少一第一保护件1331，所述第一保护件1331相对设于所述待加工玻璃盖板100的四个角处。所述软质载物层13与所述磨盘11相对旋转，用于为待加工玻璃盖板100抛光。其中所述软质载物层13的中心轴与所述软质载物层13的表面交点即为中心10。所述保护件133包括靠近待加工玻璃盖板100一侧的保护件边缘轮廓1335，所述待加工玻璃盖板100包括待加工玻璃盖板边缘轮廓101，所述保护件边缘轮廓1335匹配于所述待加工玻璃盖板边缘轮廓101，且所述保护件133的边缘到匹配的待加工玻璃盖板100边缘距离d1为0.3-1.5mm。所述保护件133可选用树脂板、塑料等，所述保护件133的厚度随与其相匹配的所述待加工玻璃盖板100的边缘到所述软质载物层13中心轴的距离相匹配。优选地，所述保护件133厚度大于待加工玻璃盖板100厚度，所述保护件133的厚度为0.25-1.5mm。其中，磨削量Q的计算公式如下：
Q∝2πR1μF (1)
其中，在上述公式(1)中，R1为与所述保护件133相匹配的所述待加工玻璃盖板100的边缘到所述软质载物层133中心轴的距离，μF为待加工玻璃盖板100的边缘处所受摩擦力，μ为摩擦系数，F为待加工玻璃盖板100边缘所受压力。因此，当待加工玻璃盖板100边缘所受压力平衡且相同时，待加工玻璃盖板100边缘的磨削量与R1成正比，R1越大，磨削量越大。通过在待加工玻璃盖板100的边缘设置具有适宜厚度的保护件133，可使抛光层11对待加工玻璃盖板100进行抛光过程中，所述抛光层11先接触到保护件133，而非直接与所述待加工玻璃盖板100的边缘接触，从而可使待加工玻璃盖板100的边缘受到的压力减小，从而使待加工玻璃盖板100的边缘磨削量相同，提高抛光良率。假设所述保护件133的厚度H，则厚度H的计算公式如下：
其中，R1为与所述保护件133相匹配的所述待加工玻璃盖板100的边缘到所述软质载物层133中心轴的距离，R为软质载物层13的半径。k为常数为0.7-1.5之间，d为待加工玻璃盖板100的厚度。从上述式(2)中可以看出，当所述R1越大或不变时，需要抛光处理的待加工玻璃盖板100厚度越大，所述保护件133的厚度越大，而相对应设置的待加工玻璃盖板100的边缘受到的压力越小，因此，可以调节保护件133的厚度随相匹配的所述待加工玻璃盖板100的边缘到所述软质载物层133中心轴的距离、待加工玻璃盖板100的厚度呈规律变化，以调节与所述保护件133相匹配的待加工玻璃盖板100的边缘所受到的压力，从而使待加工玻璃盖板100的边缘磨削量相同，从而提高抛光良率。
在所述软质载物层13上设置所述工件放置区131的数目依据待加工玻璃盖板100和软质载物层13的大小确定，以节省占用空间及不影响相邻设置的工件放置区131上放置的待加工玻璃盖板100抛光为基准密集排布。优选的，设置2-20工件放置区131，进一步优选地，所述以中心10为圆心，在半径为小于15cm的圆形区域内，设置2-4个工件放置区131；以中心10为圆心，半径为大于15cm的环状区域内，设置4-9个工件放置区131。
所述吸附托盘15包括多个吸附孔151和紧固件153。所述吸附孔151设置在所述吸附托盘15上，所述紧固件153用于紧固组装软质载物层13及所述吸附托盘15。所述软质载物层13及所述吸附托盘15经组装后，所述吸附孔151连通所述工件放置区133的中心位置，同时所述吸附孔151通过管道连通抽真空装置，用于抽取所述工件放置区133与在其表面上放置的待加工玻璃盖板100之间空隙的空气，以使工件放置区133表面的待加工玻璃盖板100所受吸附力平衡，防止作业过程中待加工玻璃盖板100脱落。
请一并参阅图4，所述工件放置区131开设凹槽1311。所述吸附孔151连通所述凹槽1311的中心位置，使抽真空时待加工玻璃盖板100受力均匀。所述凹槽1311包括中间开口区域和四周开口区域两部分，且中间开口区域与四周开口区域连通，并相对于吸附孔151呈中心轴对称结构。所述中间开口区域可以选用方形或圆形，所述四周开口区域可以选用“山”字型、“田”字形、“回”字形及圆环形等。通过吸附孔151及凹槽1311形成贯穿的空气流通路径，用于抽取待加工玻璃盖板100与软质载物层13空隙间的空气或向空隙内充气，使待加工玻璃盖板100与凹槽1311间形成真空正压或真空负压，以实现待加工玻璃盖板100与所述工件放置区131之间为吸附状态或者脱离状态。
请一并参阅图5，本实用新型第二实施例提供一种抛光机构1，其包括软质载物层13。所述软质载物层13包括工件放置区231、保护件233，所述保护件233包括第一保护件2331及第二保护件2333。所述第二保护件2333设置所述两第一保护件2331之间，所述第一保护件2331相对设于所述待加工玻璃盖板100的四个角处，所述第二保护件2333相对设于待加工玻璃盖板100各边处。所述第二保护件2333的边缘轮廓匹配于待加工玻璃盖板100相邻各边，并与所述第一保护件2331分离设置，可以节省第二保护件2333用料成本。优选地，在待加工玻璃盖板100每边且在所述两第一保护件2331之间设置多个所述第二保护件2333。所述第二保护件2333与第一保护件2331的厚度随与两者相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层的中心轴的崔志距离变化而变化。通过在待加工玻璃盖板100四个边处设置具有适宜厚度的四个第二保护件2333，可使抛光层11对待加工玻璃盖板100进行抛光过程中，所述抛光层11先接触到四个第二保护件2333，从而可使待加工玻璃盖板100的边缘受到的压力减小，以调节待加工玻璃盖板100各边的磨削量，使待加工玻璃盖板100边缘抛光均匀。参照上述公式(1)及公式(2)，所述第二保护件2333厚度随相邻待加工玻璃盖板100的边距离中心10的距离逐渐变化，距离越大，厚度越大。所述第二保护件2333包括一顶面，则由公式(2)可知所述顶面为斜面，且其倾斜程度由公式(2)决定，如此可以调节所述磨盘11对待加工玻璃盖板100各个边的磨削量，使待加工玻璃盖板100各个边抛光均匀。
请参阅图6，本实用新型第三实施例提供一种抛光机构1，所述抛光机构1与第二实施例不同之处在于：所述第二保护件3333与所述第一保护件3331连接，形成框形结构即为一个整体，便于一次性取下并更换整个框型结构，也即第一保护件3331和第二保护件3333，以节省抛光周期提高效率。所述框形结构可伸缩，对不同尺寸待加工玻璃盖板100抛光处理时，便于调节框形结构到待加工玻璃盖板100边缘的距离。
在本实用新型一些较优的实施例中，所述第一保护件2331和所述第二保护件2333可采用胶粘剂固定于软质载物层13上，因而可更换不同高度的所述第一保护件2331和所述第二保护件2333或向靠近或远离待加工玻璃盖板100各个边或角移动至适当位置，以用于对不同尺寸的待加工玻璃盖板100抛光处理，使抛光机构1具有广泛适用性。
请参阅图7，本实用新型第四实施例提供一种抛光设备30，所述抛光设备包括3-8个如上所述抛光机构1、第一支撑机构301、第二支撑机构302及驱动机构303。每个所述抛光机构1位于一个工位中，且每个磨盘11的抛光层111选用的材料不同，因此其韧性和强度不同，用于对待加工玻璃盖板100进行不同程度的抛光。所述驱动机构303包括第一驱动机构机构3031及第二驱动机构3033。所述第一支撑机构301连接所述第二支撑机构302，所述第二支撑机构302另一端连接一抛光机构1，所述第一驱动机构机构3031连接所述第一支撑机构301，所述第二驱动机构3033连接所述抛光机构1。所述驱动机构303可连接带动软质载物层13旋转或翻转，所述第一支撑机构301为多个所述抛光机构1的旋转中心，所述第二支撑机构302为与其连接的所述抛光机构1的翻转中心，用于对待加工玻璃盖板100多次磨削抛光，因而具有较好的重复加工性能。
固定软质载物层13和吸附托盘15，第一驱动机构3031带动软质载物层13围绕第一支撑机构301旋转，以更换工位，对待加工玻璃盖板100进行不同程度抛光。同时第二驱动机构3033还可进一步带动软质载物层13围绕第二支撑机构302顺时针或逆时针翻转90°，使软质载物层13面向生产操作人员，用于抛光处理完成后，取下待加工玻璃盖板100。第二驱动机构3033进一步带动软质载物层13在一工位放置区与所述磨盘11相对旋转，以磨削抛光放置于软质载物层13上的待加工玻璃盖板100。所述抛光设备30能使待加工玻璃盖板100的边缘磨削量相同，能提高待加工玻璃盖板100的平整度，从而提高抛光良率。
在抛光处理作业过程中，为进一步提高产品平整度，调节吸附托盘15顺时针旋转60-300s后，再逆时针旋转60-300s，如此重复操作，使抛光后的玻璃盖板变得更均匀，提高抛光良率。
在本实用新型另一些实施例中，所述吸附托盘15还可以先逆时针旋转60-300s后，再顺时针旋转60-300s。
优选地，所述第二驱动机构3033可单独驱动所述磨盘11，使磨盘11相对于所述载物台13旋转并对放置在所述载物台13上的待加工玻璃盖板进行抛光。
优选地，所述第二驱动机构3033包括带动所述磨盘11旋转的驱动元件，与带动所述吸附托盘15旋转的驱动元件。所述驱动元件可选用步进电机、交/直流电机、液压驱动元件及气压驱动元件等。所述第二驱动机构3033驱动所述磨盘11与软质载物层13以相反的反向同步旋转相同时间，以节省一半的抛光时间，从而提高抛光效率。
优选地，所述旋转时间为80-120s。
与现有技术相比，本实用新型抛光机构及抛光设备具有以下优点：
(1)通过在待加工玻璃盖板的边缘设置具有适宜厚度的保护件，可使抛光层对待加工玻璃盖板进行抛光过程中，所述抛光层先接触到保护件，而非直接与所述待加工玻璃盖板的边缘接触，设置保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，使保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离呈规律变化，以使待加工玻璃盖板的边缘受到的压力减小，从而使待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，提高抛光良率。
(2)由于磨削量Q∝2πR1μF，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力，待加工玻璃盖板的边缘到软质载物层中心轴的距离越大，设置保护件的厚度越大，以使相匹配待加工玻璃盖板的边缘所受压力越小，从而使待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，从而提高抛光良率。
(3)待加工玻璃盖板的边缘设置第一保护件设置及第二保护件，所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加工玻璃盖板的四个角处，所述第二保护件相对设于待加工玻璃盖板各边处，可使抛光层对待加工玻璃盖板进行抛光过程中，所述抛光层先接触到第一保护件及第二保护件，从而可使待加工玻璃盖板的边缘受到的压力减小，以调节待加工玻璃盖板各边的磨削量，使待加工玻璃盖板各边抛光均匀。
(4)设置第二保护件与第一保护件分离设置可以节省第二保护件用料成本。所述第二保护件与所述第一保护件连接，成框形结构，便于一次性取下并更换所述框形结构，以节省抛光周期提高抛光效率。
(5)在所述工件放置区开设有凹槽，所述吸附孔连通所述凹槽的中心位置，以使工件放置区表面的待加工玻璃盖板所受吸附力平衡，防止作业过程中待加工玻璃盖板脱落。
(6)采用材料不同的抛光层，可以对待加工玻璃盖板进行不同程度的抛光，以获得不同的抛光效果。
(7)所述抛光设备能使待加工玻璃盖板边缘磨削量相同，能提高待加工玻璃盖板的平整度，从而提高抛光良率。
(8)所述驱动机构连接带动所述软质载物层和/或所述磨盘沿相对旋转，用于对待加工玻璃盖板多次磨削抛光，因而具有较好的重复加工性能。
以上所述仅为本实用新型较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种抛光机构，用于对待加工玻璃盖板抛光处理，其特征在于：其包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。
2.如权利要求1所述的抛光机构，其特征在于：所述保护件靠近待加工玻璃盖板一侧的边缘轮廓匹配于所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓，且所述保护件厚度大于待加工玻璃盖板厚度。
3.如权利要求2所述的抛光机构，其特征在于：所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离、保护件厚度满足以下公式：Q∝2πR1μF，其中Q为待加工玻璃盖板的磨削量，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，μ为摩擦因数，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力。
4.如权利要求3所述的抛光机构，其特征在于：所述保护件包括至少两第一保护件及至少一第二保护件，至少一所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加工玻璃盖板的四个角处，所述第二保护件相对设于所述待加工玻璃盖板各边处。
5.如权利要求4所述的抛光机构，其特征在于：所述第二保护件与所述第一保护件分离设置或所述第二保护件与所述第一保护件连接，用于调节玻璃盖板边缘的磨削量。
6.如权利要求4所述的抛光机构，其特征在于：所述保护件的厚度、所述待加工玻璃盖板的厚度、所述软质载物层的半径满足以下公式：其中，H为保护件的厚度，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，R为软质载物层的半径，k为常数为0.7-1.5之间，d为待加工玻璃盖板的厚度，且所述第二保护件包括一顶面，所述顶面为斜面。
7.如权利要求3所述的抛光机构，其特征在于：所述保护件的边缘到匹配的待加工玻璃盖板边缘距离为0.3-1.5mm，所述保护件厚度为0.25-1.5mm。
8.如权利要求3所述的抛光机构，其特征在于：所述抛光机构包括多个吸附孔，所述工件放置区开设有凹槽，所述吸附孔连通所述凹槽的中心位置。
9.一种抛光设备，其特征在于：所述抛光设备包括如权利要求1-8中任一项所述的抛光机构。
10.如权利要求9所述的抛光设备，其特征在于：所述抛光设备还包括驱动机构，所述驱动机构连接带动所述软质载物层和/或所述磨盘相对旋转。
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| CN201621040878.9U CN206216417U (zh) | 2016-09-06 | 2016-09-06 | 一种抛光机构及抛光设备 |
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| CN201621040878.9U CN206216417U (zh) | 2016-09-06 | 2016-09-06 | 一种抛光机构及抛光设备 |
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|---|---|---|---|---|
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2016
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| CN109968176A (zh) * | 2019-03-18 | 2019-07-05 | 湖南经纬辉开科技有限公司 | 一种3d玻璃保护片扫光加工治具组件及加工方法 |
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