CN204644194U - 琉璃瓦自动上釉机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于琉璃瓦加工设备领域，尤其是涉及一种琉璃瓦自动上釉机构。它解决了现有技术生产效率低等问题。本琉璃瓦自动上釉机构包括储釉箱，在储釉箱上设有至少一个喷釉头，所述的喷釉头与一根插于储釉箱内的出釉管相连，在出釉管上设有动力泵，在储釉箱的顶部设有套在喷釉头外围的回釉机构。本实用新型的优点在于：1、设计更合理，由于设置了喷釉头结合动力泵的结构能够实现自动喷釉，大幅提高了生产效率，其次，通过回釉机构能够减少浪费，从而降低生产过程中的成本。2、结构简单且易于制造。

Description

琉璃瓦自动上釉机构

技术领域

本实用新型属于琉璃瓦加工设备领域，尤其是涉及一种琉璃瓦自动上釉机构。

背景技术

泥条挤出模具是一种用于琉璃瓦毛坯成型的模具。制作琉璃瓦的制造工艺一般为：磨泥粉-泥粉搅拌-泥条挤压-泥条切断-毛坯压制-毛坯烘干-毛坯上釉-烧制。

目前，现有的毛坯上釉都通过人为方式进行上釉，人为将瓦片毛坯放置在托料架上，然后将上釉油泼洒到琉璃瓦毛坯上，这种生产方式在一定程度上能满足加工生产要求，但是，这种生产方式不仅效率低，而且上釉的均匀度不均匀，同时，劳动强度较高，无法满足当前企业的生产力要求。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种设计更合理且能提高生产效率的琉璃瓦自动上釉机构。

为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：本琉璃瓦自动上釉机构包括储釉箱，在储釉箱上设有至少一个喷釉头，所述的喷釉头与一根插于储釉箱内的出釉管相连，在出釉管上设有动力泵，在储釉箱的顶部设有套在喷釉头外围的回釉机构。

在本申请中，由于设置了喷釉头结合动力泵的结构能够实现自动喷釉，大幅提高了生产效率，其次，通过回釉机构能够减少浪费，从而降低生产过程中的成本。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的回釉机构包括设置在储釉箱顶部的回釉口，在回釉口上设有套在喷釉头外围且竖直设置的回釉挡板。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的回釉挡板呈U形。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的回釉挡板包括居中设置的中间挡板，在中间挡板的两侧边分别具有对应设置的侧挡板。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述侧挡板的宽度从上端向下端逐渐缩小。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的储釉箱和回釉挡板之间设有加强结构。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的加强结构包括设置在储釉箱和回釉挡板之间的加强架。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的喷釉头上设有能将喷釉头阻断或者导通的控制阀。

在上述的琉璃瓦自动上釉机构中，所述的喷釉头包括竖直设置且与出釉管相连的竖直段，在竖直段上连接有弯曲段，在弯曲段上连接有水平设置的喷嘴。

与现有的技术相比，本琉璃瓦自动上釉机构的优点在于：1、设计更合理，由于设置了喷釉头结合动力泵的结构能够实现自动喷釉，大幅提高了生产效率，其次，通过回釉机构能够减少浪费，从而降低生产过程中的成本。2、结构简单且易于制造。

附图说明

图1为本实用新型提供的结构示意图。

图2为本实用新型提供的回釉挡板结构示意图。

图中，储釉箱1、加强架11、喷釉头2、控制阀2a、竖直段21、弯曲段22、出釉管3、动力泵31、回釉机构4、回釉口41、回釉挡板42、中间挡板42a、侧挡板42b。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细的说明。

如图1-2所示，本琉璃瓦自动上釉机构包括储釉箱1，在储釉箱1上设有至少一个喷釉头2，喷釉头2上设有能将喷釉头2阻断或者导通的控制阀2a。所述的喷釉头2与一根插于储釉箱1内的出釉管3相连，在出釉管3上设有动力泵31，在储釉箱1的顶部设有套在喷釉头2外围的回釉机构4。

具体地，本实施例的回釉机构4包括设置在储釉箱1顶部的回釉口41，在回釉口41上设有套在喷釉头2外围且竖直设置的回釉挡板42。回釉挡板42由不锈钢材料制成，可以防止生锈。另外，在储釉箱1和回釉挡板42之间设有加强结构。进一步地，这里的加强结构包括设置在储釉箱1和回釉挡板42之间的加强架11。

优化方案，本实施例的回釉挡板42呈U形。具体地，这里的回釉挡板42包括居中设置的中间挡板42a，在中间挡板42a的两侧边分别具有对应设置的侧挡板42b。

其次，侧挡板42b的宽度从上端向下端逐渐缩小。

喷釉头2包括竖直设置且与出釉管3相连的竖直段21，在竖直段21上连接有弯曲段22，在弯曲段22上连接有水平设置的喷嘴23。

在本实施例中，在上釉时，琉璃瓦毛坯放置在托料架上，通过动力泵31和喷釉头2将储釉箱1中的喷釉喷到琉璃瓦毛坯表面。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

尽管本文较多地使用了储釉箱1、加强架11、喷釉头2、控制阀2a、竖直段21、弯曲段22、出釉管3、动力泵31、回釉机构4、回釉口41、回釉挡板42、中间挡板42a、侧挡板42b等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。

Claims (9)

1.一种琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，本上釉机构包括储釉箱(1)，在储釉箱(1)上设有至少一个喷釉头(2)，所述的喷釉头(2)与一根插于储釉箱(1)内的出釉管(3)相连，在出釉管(3)上设有动力泵(31)，在储釉箱(1)的顶部设有套在喷釉头(2)外围的回釉机构(4)。

2.根据权利要求1所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的回釉机构(4)包括设置在储釉箱(1)顶部的回釉口(41)，在回釉口(41)上设有套在喷釉头(2)外围且竖直设置的回釉挡板(42)。

3.根据权利要求2所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的回釉挡板(42)呈U形。

4.根据权利要求2或3所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的回釉挡板(42)包括居中设置的中间挡板(42a)，在中间挡板(42a)的两侧边分别具有对应设置的侧挡板(42b)。

5.根据权利要求4所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述侧挡板(42b)的宽度从上端向下端逐渐缩小。

6.根据权利要求2或3所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的储釉箱(1)和回釉挡板(42)之间设有加强结构。

7.根据权利要求6所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的加强结构包括设置在储釉箱(1)和回釉挡板(42)之间的加强架(11)。

8.根据权利要求1或2或3所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的喷釉头(2)上设有能将喷釉头(2)阻断或者导通的控制阀(2a)。

9.根据权利要求8所述的琉璃瓦自动上釉机构，其特征在于，所述的喷釉头(2)包括竖直设置且与出釉管(3)相连的竖直段(21)，在竖直段(21)上连接有弯曲段(22)，在弯曲段(22)上连接有水平设置的喷嘴(23)。