CN204613909U - 一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置,其中,阵列基板包括:显示区域,所述显示区域设置有至少两个触控电极块;非显示区域,所述非显示区域包括刻槽区域和非刻槽区域,所述非刻槽区域包围所述刻槽区域,所述刻槽区域用于设置控制单元;过孔,形成在所述显示区域或非刻槽区域中,与所述触控电极块电连接的第一引线和与所述控制单元电连接的第二引线通过所述过孔电连接。本实用新型能够提高产品成品率。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置。
背景技术
随着显示技术的飞速发展,触控屏已经逐渐遍及人们的生活。与仅能提供显示功能的传统显示器相比较,使用触控屏的显示器能够使得使用者与显示控制主机之间进行信息交互。具有触控功能的显示器不仅能够显示,还能通过触控来控制。
现有的具有触控功能的显示器主要分为两种:外挂式和内嵌式。内嵌式触控显示器因较轻薄,备受人们关注。内嵌式触控显示器的阵列基板上包括显示区域和非显示区域,显示区域的公共电极层分为多个公共电极块,公共电极块复用为触控电极块,触控电极块通过金属线与控制单元电连接,通过控制单元对触控信号进行分析,实现触控。
现有技术提供的阵列基板如图1A和图1B所示,该阵列基板101包括显示区域102和非显示区域103。显示区域102中形成有扫描线104、数据线105、晶体管开关106和像素电极107,还形成有用于实现触控功能的触控电极108,以及向触控电极108传输触控信号的触控电极走线109。触控电极108一般与多个像素电极107所在区域对应。
一般在扫描线104、数据线105和晶体管开关106的绝缘层之上设置有平坦化层110,如图1B所示(图1B仅示出绝缘层(ILD)上方的层次结构)。非显示区域103的平坦化层110中还进一步形成有刻槽区域111,刻槽区域111中用于容置控制单元112。触控电极走线109形成在平坦化层110上,从显示区域102延伸至刻槽区域111内,触控电极走线109上覆盖有绝缘层113,触控电极108形成在显示区域102的绝缘层113上。
上述结构存在的缺陷在于:在绝缘层113形成后,需要采用光刻胶刻蚀工艺刻蚀绝缘层113,以便在显示区域102形成用于连接触控电极走线109和触控电极108的过孔。如图1C所示,(图1C仅示出绝缘层(ILD)上方的层次结构),由于平坦化层110的厚度较大,在平坦化层110与刻槽区域111之间存在较高的台阶,使得台阶上的光刻胶114较薄,如图1C中虚线框中所示。在刻蚀形成过孔时,台阶上较薄的光刻胶114难以对台阶处的绝缘层113进行保护,会刻蚀掉台阶处的绝缘层113,将台阶处的触控电极走线109暴露出来。台阶处暴露在空气中的触控电极走线109易发生腐蚀断线的问题,进而降低了产品成品率。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置,能够解决现有技术中平坦化层与刻槽区域之间的台阶处的触控电极走线暴露在空气中,容易发生腐蚀断线,进而产品成品率较低的问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
第一方面,本实用新型实施例提供了一种阵列基板,包括:
显示区域,所述显示区域设置有至少两个触控电极块;
非显示区域,所述非显示区域包括刻槽区域和非刻槽区域,所述非刻槽区域包围所述刻槽区域,所述刻槽区域用于设置控制单元;
过孔,形成在所述显示区域或非刻槽区域中,与所述触控电极块电连接的第一引线和与所述控制单元电连接的第二引线通过所述过孔电连接。
进一步地:
所述显示区域和所述非刻槽区域设置有平坦化层,
所述第一引线位于所述显示区域或所述非刻槽区域的平坦化层上方;
所述第二引线位于所述非刻槽区域的平坦化层下方。
进一步地:
所述第二引线延伸至所述第一引线的下方,所述过孔竖直形成于所述第一引线和第二引线之间,所述第一引线通过所述过孔与所述第二引线电连接。
进一步地:
所述第一引线所在膜层的上方设置有绝缘层,所述绝缘层延伸至所述非显示区域,所述刻槽区域内的绝缘层位于所述控制单元和所述第二引线之间,所述控制单元通过位于所述绝缘层之内的控制单元过孔与所述第二引线电连接。
进一步地:
所述过孔包括第一过孔和第二过孔,所述第一过孔竖直形成于所述绝缘层之内,且位于所述第一引线的上方,所述第二过孔竖直形成于所述绝缘层和所述平坦化层之内,且位于所述第二引线的上方;
还包括跨接线,所述跨接线通过所述第一过孔和所述第二过孔将所述第一引线和所述第二引线电连接。
进一步地:所述跨接线的材料为透明金属氧化物。
进一步地,所述非刻槽区域上表面与所述刻槽区域上表面的高度差大于或等于2.5微米。
进一步地,所述控制单元为集成电路芯片或柔性印刷电路板。
第二方面,本实用新型实施例还提供了一种触控显示面板,包括第一方面任一提供的阵列基板。
第三方面,本实用新型实施例还提供了一种触控显示装置,包括第二方面提供的触控显示面板。
本实用新型实施例提供的阵列基板、触控显示面板及触控显示装置,通过在阵列基板上设置与触控电极块电连接的第一引线和与控制单元电连接的第二引线,第一引线与第二引线通过形成在显示区域或非刻槽区域的过孔电连接,实现了触控电极块与控制单元的电连接。因为第一引线和第二引线均不位于跨越刻槽区域和非刻槽区域的台阶处,而是通过竖直的过孔相互连接,进而使得后期采用光刻胶刻蚀工艺制备连接触控电极块和第一引线的过孔时,即使光刻胶在台阶处较薄,引起台阶处的绝缘层被刻蚀掉,也不会造成第一引线暴露在空气中,进而避免了第一引线出现腐蚀断线的情况,从而提高了产品成品率。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1A是现有的一种阵列基板的俯视结构示意图;
图1B是图1A中沿A-A线的剖视结构示意图;
图1C是图1A中沿A-A线涂覆光刻胶状态的剖视结构示意图;
图2A是本实用新型实施例一提供的阵列基板的俯视结构示意图;
图2B是图2A中沿B-B线的剖视结构示意图;
图3是本实用新型实施例二提供的阵列基板的剖视结构示意图;
图4是本实用新型实施例三提供的阵列基板的剖视结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型,而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部内容。
实施例一:
图2A是本实用新型实施例一提供的阵列基板的俯视结构示意图,图2B是图2A中沿B-B线的剖视结构示意图。如图2A所示,该阵列基板201包括:显示区域202和非显示区域203。显示区域202设置有至少两个触控电极块204;非显示区域203包括刻槽区域205和非刻槽区域206,非刻槽区域206包围刻槽区域205,所述刻槽区域205用于设置控制单元207。
所述刻槽区域205是通过在阵列基板201部分非显示区域203的平坦化层208中进行刻蚀而形成的,所述非刻槽区域206上表面与所述刻槽区域205上表面的高度差大于或等于2.5微米。此刻槽区域205用于设置控制单元207,所述控制单元207可以为集成电路芯片或柔性印刷电路板。
该阵列基板上还包括过孔,可以形成在所述显示区域或非刻槽区域中,与所述触控电极块电连接的第一引线和与所述控制单元电连接的第二引线通过所述过孔电连接。
本实用新型实施例的技术方案,通过将过孔209设置在显示区域202或非刻槽区域206,来连接第一引线210和第二引线211,使得引线无需通过非刻槽区域206与刻槽区域205之间的台阶来连接触控电极块204和控制单元207,即台阶处下方无需设置第一引线210,也就不会存在因光刻胶缺失而刻蚀暴露的问题。
过孔和引线的位置设置可以有多种,本实施例提供了一种实现方案。如本实施例图2B所示,所述显示区域202和所述非刻槽区域206设置有平坦化层208,平坦化层208位于ILD层上方。所述第一引线210位于显示区域202的平坦化层208上方;所述第二引线211位于所述非刻槽区域206的平坦化层208下方。两者通过平坦化层208之间的过孔209进行连接。
优选是,所述第二引线211延伸至所述第一引线210的下方,所述过孔209竖直形成于所述第一引线210和第二引线211之间,所述第一引线210通过所述过孔209与所述第二引线211电连接。具体是第二引线211可以从非刻槽区域206的平坦化层208下方延伸显示区域202,以位于第一引线210的下方。
采用上述技术方案,第一引线210,作为与触控电极块204连接的触控电极走线,无需跨越台阶处延伸至刻槽区域205中与控制单元207连接,所以不存在被暴露而腐蚀断线的问题。
实施例二
图3是本实用新型实施例二提供的阵列基板的剖视结构示意图,本实施例与实施例一的差别在于,所述第一引线210位于所述非刻槽区域206的平坦化层208上方,即第一引线210从显示区域202延伸至非显示区域203的非刻槽区域206,所述过孔209形成于非刻槽区域206中,竖直形成于所述第一引线210和第二引线211之间,所述第一引线210通过所述过孔209与所述第二引线211电连接。
本实施例中,将过孔209形成在非刻槽区域206,可以减少对显示区域图案布局的影响,并且同样能够实现避免暴露而腐蚀断线的问题。
实施例三
图4是本实用新型实施例三提供的阵列基板的剖视结构示意图。参见图4,本实施例中,所述显示区域202和所述非刻槽区域206设置有平坦化层208,所述第一引线210位于所述显示区域202的平坦化层208上方;所述第二引线211位于所述非刻槽区域206的平坦化层208下方。
并且,所述第一引线210所在膜层的上方设置有绝缘层212,所述绝缘层212延伸至所述非显示区域203,所述刻槽区域205内的绝缘层212位于所述控制单元207和所述第二引线211之间,所述控制单元207通过位于所述绝缘层212之内的控制单元过孔213与所述第二引线211电连接。
所述过孔包括第一过孔214和第二过孔215,所述第一过孔214竖直形成于所述绝缘层212之内,且位于所述第一引线210的上方,所述第二过孔215竖直形成于所述绝缘层212和所述平坦化层208之内,且位于所述第二引线211的上方;还包括跨接线216,所述跨接线216通过所述第一过孔214和所述第二过孔215将所述第一引线210和所述第二引线211电连接。
具体是,在绝缘层212上方形成了触控电极层,触控电极块204通过第三过孔217与第一引线210相连,在形成第三过孔217的同时,也可以刻蚀形成第一过孔214和第二过孔215,而后由触控电极层的材料同步刻蚀形成跨接线216,通过第一过孔214和第二过孔215来连接第一引线210和第二引线211。该方案不会增加额外的制程工艺。
因此,跨接线216的材料优选可以为透明金属氧化物。采用透明金属氧化物的跨接线对显示效果没有影响,也可以利用已有的触控电极层的材料。
或者,本实施例的触控电极层上进一步覆盖另一绝缘层,并在另一绝缘层上形成像素电极。则第一过孔和第二过孔可穿过两个绝缘层,跨接线可以采用像素电极层材料制备,并采用相同制程刻蚀形成图案,进行第一引线和第二引线的连接。
此外,第一过孔和第二过孔可以均形成在非刻槽区域,即,第一引线从显示区域延伸至非刻槽区域,第一过孔位于非刻槽区域中,跨接线形成在非刻槽区域进行连接,从而能够避免对显示区域的构图影响。
本实用新型实施例还提供了一种触控显示面板。该触控显示面板包括阵列基板。其中,阵列基板采用本发明任意实施例提供的阵列基板。
本实用新型实施例还提供了一种触控显示装置。该触控显示装置包括触控显示面板。其中,触控显示面板采用上面提供的触控显示面板。该触控显示装置可以是手机、电视、电脑等任意具有触控和显示功能的设备。
注意,上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本实用新型不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明,但是本实用新型不仅仅限于以上实施例,在不脱离本实用新型构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
显示区域,所述显示区域设置有至少两个触控电极块;
非显示区域,所述非显示区域包括刻槽区域和非刻槽区域,所述非刻槽区域包围所述刻槽区域,所述刻槽区域用于设置控制单元;
过孔,形成在所述显示区域或非刻槽区域中,与所述触控电极块电连接的第一引线和与所述控制单元电连接的第二引线通过所述过孔电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:
所述显示区域和所述非刻槽区域设置有平坦化层,
所述第一引线位于所述显示区域或所述非刻槽区域的平坦化层上方;
所述第二引线位于所述非刻槽区域的平坦化层下方。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:
所述第二引线延伸至所述第一引线的下方,所述过孔竖直形成于所述第一引线和第二引线之间,所述第一引线通过所述过孔与所述第二引线电连接。
4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:
所述第一引线所在膜层的上方设置有绝缘层,所述绝缘层延伸至所述非显示区域,所述刻槽区域内的绝缘层位于所述控制单元和所述第二引线之间,所述控制单元通过位于所述绝缘层之内的控制单元过孔与所述第二引线电连接。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于:
所述过孔包括第一过孔和第二过孔,所述第一过孔竖直形成于所述绝缘层之内,且位于所述第一引线的上方,所述第二过孔竖直形成于所述绝缘层和所述平坦化层之内,且位于所述第二引线的上方;
还包括跨接线,所述跨接线通过所述第一过孔和所述第二过孔将所述第一引线和所述第二引线电连接。
6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于:所述跨接线的材料为透明金属氧化物。
7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述非刻槽区域上表面与所述刻槽区域上表面的高度差大于或等于2.5微米。
8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述控制单元为集成电路芯片或柔性印刷电路板。
9.一种触控显示面板,其特征在于,包括权利要求1-8任一所述的阵列基板。
10.一种触控显示装置,其特征在于,包括权利要求9所述的触控显示面板。
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