CN204577406U - 太阳能硅片清洗环节用的清洗槽 - Google Patents
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Abstract
太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，包括清洗槽和加药室，所述的清洗槽与加药室通过连通管相连通，所述的加药室与连通管的连接位置设置有加液泵，关键是：还包括pH仪表，所述的pH仪表设置在清洗槽的侧壁上，所述的清洗槽内设置有加热棒。本实用新型涉及单晶硅行业技术领域，特别是太阳能硅片清洗环节用的清洗槽。本实用新型的有益效果是，该装置增设了pH仪表，pH仪表能直接显示药液的pH值，可以很直观地使工人看出是否需要加入碱液或加入多少碱液合适，温度仪感应清洗槽内的温度，并通过感应开关控制加热棒给液体加热，提高了工作效率和精确度。
Description
技术领域
本实用新型涉及单晶硅行业技术领域，特别是太阳能硅片清洗环节用的清洗槽。
背景技术
单晶硅太阳能电池，是以高纯的单晶硅棒为原料的太阳能电池，是当前开发得最快的一种太阳能电池。将单晶硅棒切成片，厚度在180微米-220微米之间。硅片经过抛磨、清洗等工序，制成待加工的原料硅片。现有的清洗槽都是碱性环境，需要将pH值保持在12.5～12.6范围内，当使用过一段时间后，都是凭工人的经验对清洗槽内的pH值进行调整，通过泵，使加药室内的碱液经连通管进入清洗槽内，但是人工经验有时不准确，并且操作繁琐，影响工作效率。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足，本实用新型设计了太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，增设了pH仪表，准确控制清洗槽内环境，并实时做出调整。
本实用新型采用的技术方案是，太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，包括清洗槽和加药室，所述的清洗槽与加药室通过连通管相连通，所述的加药室与连通管的连接位置设置有加液泵，关键是：还包括pH仪表，所述的pH仪表设置在清洗槽的侧壁上，所述的清洗槽内设置有加热棒。
所述的清洗槽的侧壁上设置有温控系统。
所述的温控系统包括温度仪和感应开关。
所述的pH仪表为pH探头。
本实用新型的有益效果是，该装置增设了pH仪表，pH仪表能直接显示药液的pH值，可以很直观地使工人看出是否需要加入碱液或加入多少碱液合适，温度仪感应清洗槽内的温度，并通过感应开关控制加热棒给液体加热，提高了工作效率和精确度。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
附图中，1是清洗槽，2是加药室，3是连通管，4是加热棒，5是加液泵，6是温控系统，7是pH仪表。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
具体实施例，如图1所示，太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，包括清洗槽1和加药室2，为了便于给清洗槽1加液，所述的清洗槽1与加药室2通过连通管3相连通，所述的加药室2与连通管3的连接位置设置有加液泵5，加液泵5为加液提供动力装置，为了实时监测清洗槽1内药液的pH值，该装置还包括pH仪表7，所述的pH仪表7为pH探头，可以直接显示药液的pH值，清洗槽1需要将pH值保持在12.5～12.6范围内，可以合理控制加药量，避免硅片表面的药物过多而出现药物残留，影响后期硅片植绒环节，所述的pH仪表7设置在清洗槽1的侧壁上，为了控制清洗槽1内药液的温度，所述的清洗槽1的侧壁上设置有温控系统6，所述的温控系统6包括温度仪和感应开关，所述的清洗槽1内设置有加热棒8，温度仪感应清洗槽1内的温度，当清洗槽1内温度低于40-50摄氏度时，通过感应开关控制加热棒8给液体加热。该装置增设了pH仪表，pH仪表能直接显示药液的pH值，可以很直观地使工人看出是否需要加入碱液或加入多少碱液合适，温度仪感应清洗槽内的温度，并通过感应开关控制加热棒给液体加热，提高了工作效率和精确度。
Claims (4)
1.太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，包括清洗槽(1)和加药室(2)，所述的清洗槽(1)与加药室(2)通过连通管(3)相连通，所述的加药室(2)与连通管(3)的连接位置设置有加液泵(5)，其特征在于：还包括pH仪表(7)，所述的pH仪表(7)设置在清洗槽(1)的侧壁上，所述的清洗槽(1)内设置有加热棒(4)。
2.根据权利要求1所述的太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，其特征在于：所述的清洗槽(1)的侧壁上设置有温控系统(6)。
3.根据权利要求2所述的太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，其特征在于：所述的温控系统(6)包括温度仪和感应开关。
4.根据权利要求1所述的太阳能硅片清洗环节用的清洗槽，其特征在于：所述的pH仪表(7)为pH探头。
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