CN102004501A - 硅片清洗槽水位控制装置 - Google Patents

Abstract

一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽、进水阀、透明观察管、低位光电开关、高位光电开关和电磁换向阀，透明观察管与清洗槽的底部相通连，透明观察管的高度与清洗槽的高度一致，在透明观察管上标有最低水位标记和最高水位标记，采用光电开关和电磁阀则能对清洗槽的水位进行自动监控和补液。透明观察管的增设提高了人们观察精度，确保清洗槽内的水位始终符合清洗工艺要求。若配备了光电开关，光电开关可以自动感知透明观察管中的实际水位，然后由电磁阀来控制进水阀向清洗槽内加水。

Description

硅片清洗槽水位控制装置

技术领域：

本发明涉及一种水位测试装置，尤其涉及光伏电池生产全自动硅片清洗机溶液槽的水位监测装置。

背景技术：

随着太阳能光伏产业技术的不断提升，对于太阳能产品的质量以及成本提出了新的要求。而制作太阳能电池的原料为硅料，硅料拉制成硅棒，硅片是由硅棒通过多线切割机切割制备而成的，切好的硅片，表面附着砂浆等杂质并且表面凹凸不平，因此在制造电池之前要先进行硅片的表面处理，包括硅片的化学清洗和硅片的表面腐蚀。化学清洗是为了除去硅片上的各种杂质，表面腐蚀的目的是除去硅片表面的切割损伤，获得适合制结要求的硅表面。制结前硅片表面的性能和状态，直接影响结的特性，从而影响成品电池的性能。硅片经过表面处理后即开始制绒，制绒工艺是整个工艺生产线中最为重要的一环，其目的是通过化学腐蚀的方法在硅片表面进行织构化处理，形成良好的陷光效应，降低硅片表面发射率。目前通用的生产工艺是采用槽式制绒，在较高的温度环境中用KOH或者NaOH溶液进行各向异性腐蚀，在硅片表面腐蚀出类似于金字塔结构的角锥体，来实现入射光的多次反射，降低表面反射率。而槽内腐蚀液的均匀性和温度场的均匀性就决定了大批量工业化生产的稳定性。

目前采用的溶液配制是向清洗槽中通入热水与酸或碱混合，热水在独立的水槽中加热并加入清洗槽，清洗槽消耗热水，因此清洗槽中必须不断加水才能满足需要，在添加纯水进入清洗槽时，打开阀门，使纯水通过一根纯水管道直接进入槽体中，待水位达到所需水位时，关闭阀门，停止加入纯水。

传统的清洗机中，操作人员需要在槽体内壁使用记号笔画上记号，以标记所需水位的高低，如图1所示，原硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽1、进水阀2、最低水位标记A和最高水位标记B，进水阀2向清洗槽1中加水，最低水位标记A和最高水位标记B设置在清洗槽1的内壁上，当清洗槽1的水位低于最低水位标记A时，操作者必须打开进水阀2，反之当清洗槽1的水位高于最高水位标记B时，操作者必须关闭进水阀2。在实际操作过程中，由于操作者是站着从清洗槽1的上口向清洗槽1的内壁观察最低水位标记A和最高水位标记B的，操作者的观测视角与身高有关，不同的操作者会产生不同视角误差，从而影响清洗槽1中水位的准确性，使得清洗质量波动增大。

发明内容：

为了克服以上不足之处，本发明提供了一种硅片清洗槽水位控制装置，它能对清洗槽的水位进行准确的控制，避免了因视觉误差造成的水位控制不准的问题。

本发明所采用的技术方案是：

一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽和进水阀，其特征是：它还包括透明观察管，透明观察管的底部与清洗槽的底部相通连，透明观察管的高度与清洗槽的高度一致。

进一步，它还包括低位光电开关、高位光电开关和控制进水阀的电磁换向阀，最高水位标记和最低水位标记设置在透明观察管上，低位光电开关对应透明观察管上的最低水位标记，高位光电开关对应透明观察管上的最高水位标记，电磁换向阀分别与低位光电开关和高位光电开关电连接。

由于在清洗槽外增加了一个透明观察管，透明观察管上设有最高水位标记和最低水位标记，操作者根据这两个标记，可以准确控制进水阀，使清洗槽内的水位始终处于最高水位标记和最低水位标记之间。当采用人工观察最高水位标记和最低水位标记控制进水阀时，操作者不会产生视觉误差，从而影响清洗槽内水位的准确性。当采用光电开关监控透明观察管上的最高水位标记和最低水位标记时，光电开关监控可将获得的电信号发给电磁阀，控制进水阀的开关，从而自动控制清洗槽内水位，无需操作者用肉眼观察，有效避免因视觉误差造成的水位控制不准的问题。

附图说明：

图1为原清洗机水位控制装置的示意图；

图2为本发明的一种实施例，肉眼观察手工进水补偿；

图3为本发明的另一种实施例，光电监控自动进水补偿。

图中：1-清洗槽；2-进水阀；3-透明观察管；4-低位光电开关；5-高位光电开关；6-电磁换向阀；A-最低水位标记；B-最高水位标记。

具体实施方式：

下面结合附图说明本发明的具体实施方案：

实施例1：一种硅片清洗槽水位控制装置，如图2所示，它是一种依靠操作者肉眼观察手工进水补偿的控制装置，它包括清洗槽1、进水阀2和透明观察管3，透明观察管3的底部与清洗槽1的底部相通连，透明观察管3的高度与清洗槽1的高度一致，在透明观察管3上设有最高水位标记B和最低水位标记A，由于透明观察管3中水位与清洗槽1相同，当操作者发现水位低于最低水位标记A时，必须立即打开进水阀2向清洗槽1中放水，当水位到达最高水位标记B时，操作者立即关闭进水阀2。

实施例2：一种硅片清洗槽水位控制装置，如图3所示，它是一种光电监控自动进水补偿的控制装置，它包括清洗槽1、进水阀2、透明观察管3、低位光电开关4、高位光电开关5和电磁换向阀6，透明观察管3的底部与清洗槽1的底部相通连，透明观察管3的高度与清洗槽1的高度一致，在透明观察管3上标有最低水位标记A和最高水位标记B，低位光电开关4对应最低水位标记A，高位光电开关5对应最高水位标记B，电磁换向阀6与低位光电开关4和高位光电开关5电连接，当透明观察管3中的水位低于最低水位标记A时，低位光电开关4就能监控到，并将检测到的电信号发给电磁换向阀6，使进水阀2打开向清洗槽1中加水；当高位光电开关5监测到最高水位标记B有水时，电磁换向阀6则自动关闭进水阀2，停止向清洗槽1内加水，从而能自动控制清洗槽1中的水位。

Claims (2)

1.一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽(1)和进水阀(2)，其特征是：它还包括透明观察管(3)，透明观察管(3)的底部与清洗槽(1)的底部相通连，透明观察管(3)的高度与清洗槽(1)的高度一致。

2.根据权利要求1所述硅片清洗槽水位控制装置，其特征是：它还包括低位光电开关(4)、高位光电开关(5)和控制进水阀(2)的电磁换向阀(6)，最高水位标记(B)和最低水位标记(A)设置在透明观察管(3)上，低位光电开关(4)对应透明观察管(3)上的最低水位标记(A)，高位光电开关(5)对应透明观察管(3)上的最高水位标记(B)，电磁换向阀(6)分别与低位光电开关(4)和高位光电开关(5)电连接。

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