一种真空灭弧室
技术领域
本实用新型涉及一种真空灭弧室,更具体地说,它涉及一种具有较好散热性能的真空灭弧室。
背景技术
高压真空断路器的回路电阻是影响温升的主要热源,而真空灭弧室的回路电阻通常要占高压真空断路器回路电阻的50%以上。触头间隙接触电阻是真空灭弧室回路电阻的主要组成部分,因为触头系统密封于真空灭弧室内,而产生的热量只能通过动、静导电杆向外部散热。
真空灭弧室静端直接与静支架相连,动端则通过导电夹、软连接与动支架相连。虽然动端向上运动有利于动端散热,但因动端连接环节较多,导热路径较长,所以高压真空断路器温升的最高点多集中于动导电杆与导电夹搭接部位。在实际应用中,有效的利用静端有利于散热的元件,迫使触头间隙热量比较多的从静端导出,分流动端的热量,是解决高压真空断路器温升偏高的有效措施。
现有技术中真空灭弧室静端之外加设其他散热器或散热结构,该方法容易造成整体结构趋于复杂化,引起成本上升,还会导致更多的潜在故障,且由于从外部散热其散热效果一般,难以达到预期的散热效果。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种散热效果较好的真空灭弧室。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种真空灭弧室,包括动导电杆、静导电杆、波纹管、静端盖、动端盖、静触头、动触头和陶瓷外壳,所述静端盖相对静导电杆一侧连接有套筒,所述套筒套设于静导电杆且套筒内壁抵触静电导杆表面。
本实用新型进一步设置为:所述套筒由导热材料制成。
本实用新型进一步设置为:所述套筒与静端盖成一体设置。
本实用新型进一步设置为:所述套筒内壁紧贴有柔性导热层。
本实用新型进一步设置为:所述静端盖背对静导电杆一侧开设有若干凹槽。
本实用新型进一步设置为:所述凹槽内放置有散热鳍片。
本实用新型进一步设置为:所述散热鳍片与凹槽一一对应设置且在静端盖表面呈螺旋状分布。
本实用新型进一步设置为:所述散热鳍片与凹槽可拆卸连接。
通过采用上述技术方案,在静端盖上一体设置套筒,使套筒的内壁和静导电杆的表面相抵触,由于产生的热量只能通过动、静导电杆向外部散热,与现有技术相比增加了热传导面积,与原先的热量从静导电杆到静端盖相比,增加了热量的传导面积,随之的传导速度也会大大增强,有利于真空灭弧室的快速散热,且增加结构简单,方便安装,避免成本增加。
附图说明
图1为本实用新型一种真空灭弧室实施例的结构示意图;
图2为本实用新型一种真空灭弧室实施例静端盖的端面示意图。
附图标记:1、动导电杆;2、导向套;3、波纹管;4、动端盖;5、波纹管屏蔽罩;6、陶瓷外壳;7、屏蔽筒;8、动触头;9、静触头;10、静导电杆;11、静端盖;12、凹槽;13、散热鳍片;14、套筒14。
具体实施方式
参照图1至图2对本实用新型实施例做进一步说明。
一种真空灭弧室,包括至上而下依次设置的动导电杆1、导向套2、波纹管3、波纹管3屏蔽罩、动触头8、静触头9、静导电杆10,在静导电杆10一端套有静端盖11,在动导电杆1一端套有动端盖4,整个真空灭弧室外围套设陶瓷外壳6,在动触头8和静触头9外还套有屏蔽筒7,静端盖11相对静导电杆10一侧连接有套筒14,套筒14由导热材料制成,导热材料可以选用铝、铜、银等,考虑到成本以及质量因素优选为铝,套筒14与静端盖11成一体设置。一体设置方便加工和多余热量的传导,套筒14套设于静导电杆10且套筒14内壁抵触静导电杆10表面。
通过采用上述技术方案,在静端盖11上一体设置套筒14,使套筒14的内壁和静导电杆10的表面相抵触,由于产生的热量只能通过动、静导电杆10向外部散热,与现有技术相比增加了热传导面积,与原先的热量从静导电杆10到静端盖11相比,增加了热量的传导面积,随之的传导速度也会大大增强,有利于真空灭弧室的快速散热,且增加结构简单,方便安装,避免成本增加。
进一步设置为:所述套筒14内壁紧贴有柔性导热层。柔性导热层由导热石墨膜组成,导热石墨膜是一种新型的导热散热材料,具有独特的晶粒取向,沿两个方向均匀导热,片层状结构可很好地适应任何表面,利用石墨的可塑性,将导热石墨膜做成像薄片平滑贴附在套筒14内壁,整体的散热效果非常好。
进一步设置为:所述静端盖11背对静导电杆10一侧开设有若干凹槽12。凹槽12的开设有利于加大静端盖11和空气之间的接触面积,进一步加速热量传导,在凹槽12内放置散热鳍片13,在热量传导至静端盖11时散热鳍片13有利于快速散热。散热鳍片13与凹槽12一一对应设置且在静端盖11表面呈螺旋状分布。有利于结构的合理利用,尽量增大散热鳍片13的数量,保证散热效果。同时所述散热鳍片13与凹槽12通过可拆卸连接的方式连接,增强使用灵活性,在不同是使用环境选择不同的散热鳍片13数量。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。