CN204547212U - 一种光学复合增亮膜 - Google Patents

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周永南
冯明月
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Abstract

本实用新型公开了一种光学复合增亮膜,包括基材膜层,基材膜层上方设置有聚光层,聚光层由若干个聚光单元矩阵排列组合而成,聚光单元的底面为正方形,聚光单元为双锥体沿锥体的高所在平面切割形成,双锥体的半圆弧与聚光单元的正方形底面对角相交接。该光学复合增亮膜结构简单,通过在基材膜层上设置由若干个聚光单元矩阵排列组合而成的聚光层,有效的将电子产品屏幕的入射光聚集,达到增亮的视觉效果,该增亮膜在使用时为磨砂手感,顺滑且具有防指纹效果。

Description

一种光学复合增亮膜
技术领域
本实用新型涉及屏幕保护膜,具体涉及一种光学复合增亮膜。
背景技术
随着智能触摸屏手机的广泛普及,为了减少屏幕被刮伤的可能,适用于手机屏幕的保护贴膜便应运而生,并得到了广泛的使用。保护贴膜基材层的主要材质是PET、PP等聚合物材料,主要作用在于形成保护层和保证透光效果。为了达到坚硬防刮的效果,往往在基层的顶面做硬化处理。现有技术中保护膜的视觉亮度主要取决于膜的透光度,无主动增亮效果。因此,有必要对现有技术中的屏幕保护膜进行结构改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种结构强度高、提高视觉亮度的光学复合增亮膜。
为实现上述技术效果,本实用新型的技术方案为:一种光学复合增亮膜,其特征在于,包括基材膜层,所述基材膜层上方设置有聚光层,所述聚光层由若干个聚光单元矩阵排列组合而成,所述聚光单元的底面为正方形,所述聚光单元为双锥体沿锥体的高所在平面切割形成,所述双锥体的半圆弧与聚光单元的正方形底面对角相交接。
为了提高光线分布的均匀性,优选的技术方案为,所述若干个聚光单元的双锥体半圆弧方向一致。
为了提高光线分布的均匀性,优选的技术方案还可以为,聚光单元矩阵同一行中相邻两聚光单元的双锥体半圆弧所在平面平行或垂直。
为了进一步提高光线分布的均匀性,优选的技术方案为,所述聚光单元矩阵中相邻两行聚光单元错位设置。
为了适于使用,优选的技术方案为,所述光学复合增亮膜的高度为20~50μm。
为了降低因光学干涉而出现牛顿环或莫尔纹现象,优选的技术方案为,所述聚光单元的表面设置有若干沟槽,所述沟槽之间相平行和/或交叉。
本实用新型的优点和有益效果在于:
该光学复合增亮膜结构简单,通过在基材膜层上设置由若干个聚光单元矩阵排列组合而成的聚光层,有效的将电子产品屏幕的入射光聚集,达到增亮的视觉效果,该增亮膜在使用时为磨砂手感,顺滑且具有防指纹效果。
附图说明
图1是本实用新型光学复合增亮膜实施例1的结构示意图;
图2是图1中沿A-A的剖面图;
图3是本实用新型光学复合增亮膜实施例2的结构示意图;
图4是本实用新型光学复合增亮膜实施例3的结构示意图。
图中:1、基材膜层;2、聚光单元。
具体实施方式    
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
实施例1
如图1和图2所示,实施例光学复合增亮膜,包括基材膜层1,基材膜层1上方设置有聚光层,聚光层由若干个聚光单元2矩阵排列组合而成,聚光单元2的底面为正方形,聚光单元2为双锥体沿锥体的高所在平面切割形成,双锥体的半圆弧与聚光单元2的正方形底面对角相交接。
在本实施例中,若干个聚光单元2的双锥体半圆弧方向一致;聚光单元矩阵中相邻两行聚光单元错位设置;光学复合增亮膜的高度为20~50μm;聚光单元2的表面设置有若干沟槽(图中未示出),沟槽之间相平行和/或交叉。
实施例2
如图3所示,实施例2与实施例1的不同在于,聚光单元矩阵中同一行中相邻两聚光单元2的双锥体半圆弧所在平面相平行;位于相邻的聚光单元两行中半圆弧所在平面相垂直。
实施例3
如图4所示,实施例3与实施例1的不同在于,聚光单元矩阵同一行中相邻两聚光单元2的双锥体半圆弧所在平面相垂直。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (6)

1.一种光学复合增亮膜,其特征在于,包括基材膜层,所述基材膜层上方设置有聚光层,所述聚光层由若干个聚光单元矩阵排列组合而成,所述聚光单元的底面为正方形,所述聚光单元为双锥体沿锥体的高所在平面切割形成,所述双锥体的半圆弧与聚光单元的正方形底面对角相交接。
2.根据权利要求1所述的光学复合增亮膜,其特征在于,所述若干个聚光单元的双锥体半圆弧方向一致。
3.根据权利要求2所述的光学复合增亮膜,其特征在于,聚光单元矩阵同一行中相邻两聚光单元的双锥体半圆弧所在平面平行或垂直。
4.根据权利要求3所述的光学复合增亮膜,其特征在于,所述聚光单元矩阵中相邻两行聚光单元错位设置。
5.根据权利要求4所述的光学复合增亮膜,其特征在于,所述光学复合增亮膜的高度为20~50μm。
6.根据权利要求4所述的光学复合增亮膜,其特征在于,所述聚光单元的表面设置有若干沟槽,所述沟槽之间相平行和/或交叉。
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