CN204109454U - 一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及保护膜技术领域，尤其涉及一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其由上到下依次包括保护膜层、保护胶层、使用膜层、剥离胶层、剥离膜层，保护胶层的上表面、下表面分别与保护膜层、使用膜层贴合，剥离胶层的上表面、下表面分别与使用膜层、剥离膜层贴合，使用膜层包括抗电磁波层、贴合于抗电磁波层下表面的高扩散层、以及贴合于高扩散层下表面的高硬度层，抗电磁波层的上表面与保护胶层的下表面贴合，高硬度层的下表面与剥离胶层的上表面贴合，保护胶层和剥离胶层均为彩色硅胶涂层。本实用新型的保护膜采用抗电磁波层、高扩散层和高硬度层，使得保护膜除了具有防刮花作用外，还具有抗电磁波的作用，且光扩散效果好，硬度高。

Description

一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜

技术领域

本实用新型涉及保护膜技术领域，尤其涉及一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜。

背景技术

液晶显示器作为一种非常普遍且极其重要的显示器，小到 MP4、手机、相机；大到笔记本电脑、液晶电视机等。而这些显示器使用过程中常常会由于手指甲或其它硬物在显示屏上不断的划动，会在屏幕表面造成一定的刮伤或磨损，从而影响产品的正常使用效果，人们常常会在电子产品的屏幕上贴一层保护膜对显示屏进行保护。

现有技术的保护膜虽然具有一定的防刮花作用，但抗电磁波效果和光线高扩散效果差，且硬度较差，保护膜的使用和性能不佳。

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种硬度高、光线高扩散效果好、抗电磁波的高硬度高扩散抗电磁波保护膜。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其由上到下依次包括保护膜层、保护胶层、使用膜层、剥离胶层、剥离膜层，保护胶层的上表面、下表面分别与保护膜层、使用膜层贴合，剥离胶层的上表面、下表面分别与使用膜层、剥离膜层贴合，使用膜层包括抗电磁波层、贴合于抗电磁波层下表面的高扩散层、以及贴合于高扩散层下表面的高硬度层，抗电磁波层的上表面与保护胶层的下表面贴合，高硬度层的下表面与剥离胶层的上表面贴合，保护胶层和剥离胶层均为彩色硅胶涂层。 

进一步的，所述保护胶层内均匀分布有若干第一气孔，第一气孔的平均直径为 9~15μm。

进一步的，所述剥离胶层内均匀分布有若干第二气孔，第二气孔的平均直径为 9~15μm。

进一步的，所述剥离膜层的上表面开设有若干凹槽，凹槽的深宽比为1:1.5~2.5。

进一步的，所述凹槽的深度为0.5~1.0μm。

进一步的，所述抗电磁波层是由颗粒大小为纳米级的金属粉体组成的金属纳米层。

进一步的，所述保护膜层、所述使用膜层和所述剥离膜层均为透光率大于92%、雾度小于1%的PET薄膜。 

进一步的，所述高扩散层和所述高硬度层之间设置有玻璃纤维层。

进一步的，所述保护膜层、所述剥离膜层的厚度均为20~60μm，所述使用膜层的厚度为50~200μm，所述保护胶层、所述剥离胶层的厚度均为10~40μm。

进一步的，所述抗电磁波层、所述高扩散层和所述高硬度层的厚度比为1:6~8:1.5~2.5。 

本实用新型的有益效果在于：本实用新型的保护膜通过在硅胶层增添微量色粉颗粒，形成彩色硅胶涂层，首先不但可以保持原有PET薄膜的高透光性的优点，还可以改变当前手机屏幕保护膜的单一颜色，起到美化、装饰和点缀产品的效果；还可以因色粉颗粒的作用，减缓使用者的用眼疲劳，从而还可以有效地控制近视的增长。

本实用新型的保护膜采用抗电磁波层、高扩散层和高硬度层，使得本实用新型的保护膜除了具有防刮花作用外，还具有抗电磁波的作用，且光扩散效果好，硬度高，使所保护的基材表面不受破坏和污染，适用于各类电子产品屏幕的保护。经过试验测试，本实用新型的保护膜透明度高，透光率为86~93%，雾度为3%~12%，硬度最高可达到6H，光扩散效果好，光透过率高，抗电磁波效果好，硬度高。 

附图说明：

图1是本实用新型实施例一的结构示意图。

图2是本实用新型实施例二的结构示意图。

图3是本实用新型实施例三的结构示意图。

图4是本实用新型实施例四的结构示意图。

附图标记为：1—保护膜层、2—保护胶层、21—第一气孔、3—使用膜层、31—抗电磁波层、32—高扩散层、33—高硬度层、34—玻璃纤维层、4—剥离胶层、41—第二气孔、5—剥离膜层、51—凹槽。 

具体实施方式：

为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例与附图1-4对本实用新型作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

如图1所示为本实用新型所述一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜的实施例一，其由上到下依次包括保护膜层1、保护胶层2、使用膜层3、剥离胶层4、剥离膜层5，保护胶层2的上表面、下表面分别与保护膜层1、使用膜层3贴合，剥离胶层4的上表面、下表面分别与使用膜层3、剥离膜层5贴合，使用膜层3包括抗电磁波层31、贴合于抗电磁波层31下表面的高扩散层32、以及贴合于高扩散层32下表面的高硬度层33，抗电磁波层31的上表面与保护胶层2的下表面贴合，高硬度层33的下表面与剥离胶层4的上表面贴合，保护胶层2和剥离胶层4均为彩色硅胶涂层。 

所述保护胶层2、所述剥离胶层4均为OCA光学胶、无痕胶、压敏胶、热熔胶或硅胶涂层，采用上述种类的剥离胶层4粘合性好，且容易分离。本实用新型的保护膜通过设置保护胶层2和剥离胶层4方便保护膜层1和剥离膜层5从本实用新型的保护膜上取下。

由于设置有剥离膜层5，使用时，将剥离膜层5从本实用新型的保护膜上取下，并将本实用新型贴合在所要贴合的屏幕载体上，以便保护所要保护的屏幕载体。保护膜层1用于防止本实用新型的保护膜在使用前被沾上灰尘及刮伤，在使用时会被揭掉而作为保护面。

本实用新型的保护膜通过在硅胶层增添微量色粉颗粒，形成彩色硅胶涂层，首先不但可以保持原有PET薄膜的高透光性的优点，还可以改变当前手机屏幕保护膜的单一颜色，起到美化、装饰和点缀产品的效果；还可以因色粉颗粒的作用，减缓使用者的用眼疲劳，从而还可以有效地控制近视的增长。

本实用新型的保护膜采用抗电磁波层31、高扩散层32和高硬度层33，使得本实用新型的保护膜除了具有防刮花作用外，还具有抗电磁波的作用，且光扩散效果好，硬度高，使所保护的基材表面不受破坏和污染，适用于各类电子产品屏幕的保护。经过试验测试，本实用新型的保护膜透明度高，透光率为86~93%，雾度为3%~12%，硬度最高可达到6H，光扩散效果好，光透过率高，抗电磁波效果好，硬度高。

如图2所示为本实用新型所述一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜的实施例二，与上述实施例一的不同之处在于：所述保护胶层2内均匀分布有若干第一气孔21，第一气孔21的平均直径为 9~15μm。由于采用上述结构，光线入射时能够形成漫反射，无需防眩涂层便有效地解决了显示屏产品的眩光问题，因此保护膜可以做得更薄，透光率也更高。

本实施例中，所述剥离胶层4内均匀分布有若干第二气孔41，第二气孔41的平均直径为 9~15μm。由于采用上述结构，光线入射时能够形成漫反射，无需防眩涂层便有效地解决了显示屏产品的眩光问题，因此保护膜可以做得更薄，透光率也更高。

如图3所示为本实用新型所述一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜的实施例三，与上述实施例一的不同之处在于：所述剥离膜层5的上表面开设有若干凹槽51，凹槽51的深宽比为1:1.5~2.5。本实用新型的剥离膜层5的上表面开设有若干凹槽51，使剥离膜层5和剥离胶层4的结合牢固可靠，当凹槽51的深宽比为1:1.5~2.5时，剥离膜层5与剥离胶层4之间的剥离力大小适中，容易分离。

本实施例中，所述凹槽51的深度为0.5~1.0μm。可以通过调节剥离膜层5的凹槽51深宽和密度，来自由调整剥离膜层5与剥离胶层4之间剥离力的大小。当凹槽51的深度为0.5~1.0μm，剥离膜层5与剥离胶层4之间的剥离力大小适中，容易分离。

本实施例中，所述抗电磁波层31是由颗粒大小为纳米级的金属粉体组成的金属纳米层。本实用新型的保护膜采用金属纳米层作为抗电磁波层31，可以屏蔽对人体有害的电磁波。

本实施例中，所述保护膜层1、所述使用膜层3和所述剥离膜层5均为透光率大于92%、雾度小于1%的PET薄膜。本实用新型的保护膜通过采用透光率大于92%，雾度小于1%的PET薄膜，使得本实用新型的保护膜透明度高，透光率为 86~93%，雾度为3%~12%。所述高扩散层32和所述高硬度层33分别由现有的高高扩散和高硬度PET材料制成。 

如图4所示为本实用新型所述一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜的实施例四，与上述实施例一的不同之处在于：所述高扩散层32和所述高硬度层33之间设置有玻璃纤维层34。所述玻璃纤维层34的厚度为1~5μm，本实用新型的保护膜由于设置有玻璃纤维层34，方便本实用新型的保护膜的加工制造。

本实施例中，所述保护膜层1、所述剥离膜层5的厚度均为20~60μm，所述使用膜层3的厚度为50~200μm，所述保护胶层2、所述剥离胶层4的厚度均为10~40μm。本实用新型的保护膜通过将保护膜层1、保护胶层2、使用膜层3、剥离胶层4、剥离膜层5的厚度控制在上述范围内，使得本实用新型的保护膜厚度薄，透光率较好，各项性能优良，为使本实用新型达到最佳使用效果，所述保护膜层1、所述剥离膜层5的厚度均为40μm，所述使用膜层3的厚度为125μm，所述保护胶层2、所述剥离胶层4的厚度均为25μm。

本实施例中，所述抗电磁波层31、所述高扩散层32和所述高硬度层33的厚度比为1:6~8:1.5~2.5。本实用新型的保护膜通过将抗电磁波层31、高扩散层32和高硬度层33的厚度比控制在1:6~8:1.5~2.5，可以使本实用新型的保护膜透明度高，透光率为86~93%，为使本实用新型达到最佳使用效果，所述抗电磁波层31、所述高扩散层32和所述高硬度层33的厚度比为1:7:2。

上述实施例为本实用新型较佳的实现方案，除此之外，本实用新型还可以其它方式实现，在不脱离本实用新型构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其由上到下依次包括保护膜层、保护胶层、使用膜层、剥离胶层、剥离膜层，保护胶层的上表面、下表面分别与保护膜层、使用膜层贴合，剥离胶层的上表面、下表面分别与使用膜层、剥离膜层贴合，其特征在于：使用膜层包括抗电磁波层、贴合于抗电磁波层下表面的高扩散层、以及贴合于高扩散层下表面的高硬度层，抗电磁波层的上表面与保护胶层的下表面贴合，高硬度层的下表面与剥离胶层的上表面贴合，保护胶层和剥离胶层均为彩色硅胶涂层。

2.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述保护胶层内均匀分布有若干第一气孔，第一气孔的平均直径为 9~15μm。

3.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述剥离胶层内均匀分布有若干第二气孔，第二气孔的平均直径为 9~15μm。

4.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述剥离膜层的上表面开设有若干凹槽，凹槽的深宽比为1:1.5~2.5。

5.根据权利要求4所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述凹槽的深度为0.5~1.0μm。

6.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述抗电磁波层是由颗粒大小为纳米级的金属粉体组成的金属纳米层。

7.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述保护膜层、所述使用膜层和所述剥离膜层均为透光率大于92%、雾度小于1%的PET薄膜。

8.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述高扩散层和所述高硬度层之间设置有玻璃纤维层。

9.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述保护膜层、所述剥离膜层的厚度均为20~60μm，所述使用膜层的厚度为50~200μm，所述保护胶层、所述剥离胶层的厚度均为10~40μm。

10.根据权利要求1所述的一种高硬度高扩散抗电磁波保护膜，其特征在于：所述抗电磁波层、所述高扩散层和所述高硬度层的厚度比为1:6~8:1.5~2.5。