CN204243047U - 沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端 - Google Patents

沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端 Download PDF

Info

Publication number
CN204243047U
CN204243047U CN201420660458.5U CN201420660458U CN204243047U CN 204243047 U CN204243047 U CN 204243047U CN 201420660458 U CN201420660458 U CN 201420660458U CN 204243047 U CN204243047 U CN 204243047U
Authority
CN
China
Prior art keywords
super junction
terminal
type post
orthogonal
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201420660458.5U
Other languages
English (en)
Inventor
左义忠
杨寿国
贾国
高宏伟
李延庆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jilin Sino Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Jilin Sino Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jilin Sino Microelectronics Co Ltd filed Critical Jilin Sino Microelectronics Co Ltd
Priority to CN201420660458.5U priority Critical patent/CN204243047U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN204243047U publication Critical patent/CN204243047U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Thyristors (AREA)

Abstract

沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端属于半导体器件技术领域。在现有沟槽超级结半导体器件的超级结终端的超级结拐角终端中,交替排列的P型柱和N型柱呈扇形分布,P型柱和N型柱内的电荷不平衡,致使器件耐压性能不良。本实用新型之沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端由交替排列的P型柱和N型柱构成,其特征在于,构成正交超级结拐角终端的交替排列的P型柱和N型柱其走向在与矩形芯片一个直角边终端的超级结平行的同时,与所述直角边终端相邻的另一个直角边终端的超级结垂直。这种正交形态遵从既存晶向,晶向匹配,能够避免填充空洞的形成。

Description

沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端
技术领域
本实用新型涉及一种沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端,属于半导体器件技术领域。
背景技术
在现有技术领域,超级结(Super Junction)技术被用于功率半导体器件的终端部分,由此获得超级结半导体器件。超级结半导体器件的超级结终端制造工艺分为扩散工艺和沟槽工艺,这两种工艺采用不同的方式在横向器件耐压层中形成交替排列的P型柱和N型柱,由此构成超级结。
所述的扩散工艺采用多次光刻、注入、退火的方式形成超级结。这种扩散工艺成本高,而且受扩散温度制约,单胞最小化受到制约。
所述沟槽工艺则是在横向器件芯片内部耐压层中刻蚀周期排列的深沟槽,然后外延填充这些沟槽。例如,在耐压层的N型层沟槽中外延填充P型区,得到交替排列的P型柱和N型柱,由此构成超级结,如图1、图2所示,如此制作的器件被称为沟槽超级结半导体器件,沟槽超级结半导体器件的超级结终端可以划分为直角边终端1和拐角终端2,如图3所示。所述沟槽工艺成本低,而且随着设备、工艺技术的改进,能够将单胞密度做得更高,相比扩散工艺,其技术优势明显。
但是,在这种沟槽超级结半导体器件的超级结终端的超级结拐角终端中,交替排列的P型柱和N型柱呈扇形分布,如图4所示,这种方案存在的问题是,在超级结拐角终端中的沟槽内,晶向改变或者沟槽的槽宽变化都会增加沟槽的外延填充,外延填充后晶体结构不规范,晶向匹配不佳,极易形成填充空洞。一旦形成填充空洞,会使超级结中的P型柱和N型柱内的电荷不平衡,致使器件耐压性能不良。
实用新型内容
为了解决在现有沟槽超级结半导体器件的超级结终端中的超级结拐角终端部分中存在的填充空洞问题,我们发明了一种沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端。
本实用新型之沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端由交替排列的P型柱和N型柱构成,其特征在于,如图1、图2、图5所示,构成正交超级结拐角终端的交替排列的P型柱和N型柱其走向在与矩形芯片一个直角边终端的超级结平行的同时,与所述直角边终端相邻的另一个直角边终端的超级结垂直。
本实用新型其技术效果在于,所述正交超级结拐角终端中的超级结与器件终端其他部分中的超级结在走向上非平行既垂直,呈正交形态,遵从既存晶向,在本实用新型之正交超级结拐角终端的制作过程中,沟槽的槽宽能够保持不变,从而不会增加沟槽的外延填充,外延填充后晶体结构依然规范,晶向匹配,避免形成填充空洞。所以,在采用本实用新型之正交超级结拐角终端的沟槽超级结半导体器件中,超级结中的P型柱和N型柱内的电荷平衡,器件耐压性能良好。
由于在沟槽超级结半导体器件中,一个方向上的沟槽超级结自有源区延伸至终端区,如图1所示,在反偏下,在有源区,电场的方向与沟槽超级结平行;在终端区,电场的方向也与沟槽超级结平行,器件耐压得到最大化。由此可见本实用新型的一个附加效果是,所述“器件耐压得到最大化”的效果同样会在正交超级结拐角终端出现。这是因为正交超级结拐角终端中的超级结部分或者全部与自有源区延伸至终端区的沟槽超级结平行,如图1或者图5所示。
本实用新型之正交超级结拐角终端的制作工艺与现有沟槽超级结半导体器件工艺相同,并未因超级结拐角终端的结构与现有技术不同而导致制作成本的提高。
附图说明
图1是本实用新型之正交超级结拐角终端结构俯视示意图,该图同时表示正交超级结拐角终端中彼此垂直的两部分超级结,该图还作为摘要附图。图2是本实用新型之正交超级结拐角终端结构沿图1A-A方向剖视示意图,该图同时表示在所述正交超级结拐角终端表面扩散形成的P型半导体层。图3是沟槽超级结半导体器件的超级结终端中的直角边终端和拐角终端分布俯视示意图。图4是现有沟槽超级结半导体器件拐角终端中交替排列的P型柱和N型柱分布俯视示意图。图5是本实用新型之正交超级结拐角终端结构俯视示意图,该图同时表示正交超级结拐角终端中彼此平行的全部超级结。图6是本实用新型之正交超级结拐角终端结构俯视示意图,该图同时表示所述正交超级结拐角终端中的各P型柱的外端随着各P型柱位置远离直角边终端而内移。
具体实施方式
本实用新型之沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端由交替排列的P型柱和N型柱构成,如图1、图2、图5所示,构成正交超级结拐角终端的交替排列的P型柱和N型柱其走向在与矩形芯片一个直角边终端的超级结平行的同时,与所述直角边终端相邻的另一个直角边终端的超级结垂直,具体包括两种状态,一是以矩形芯片对角线为界,将构成正交超级结拐角终端的交替排列的P型柱和N型柱分为两部分,该两部分交替排列的P型柱和N型柱的走向相互垂直,如图1所示;二是构成正交超级结拐角终端的全部交替排列的P型柱和N型柱的走向相同,如图5所示。
在所述正交超级结拐角终端表面扩散有P型半导体层,如图1、图2、图5、图6所示,该P型半导体层在将构成正交超级结拐角终端的P型柱和N型柱连接起来的同时,将正交超级结拐角终端与有源区也连接起来。由于正交超级结拐角终端中的N型柱彼此由正交超级结拐角终端下面的N型层相连,器件终端电压效率因此会降低,而所述P型半导体层的存在能够避免器件终端电压效率降低现象的发生。
所述正交超级结拐角终端中的各P型柱的外端随着各P型柱位置远离直角边终端而内移,如图6所示,这样能够避免在芯片裂片过程中因可能出现的崩角而导致对所述正交超级结拐角终端的破坏。

Claims (4)

1.一种沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端,由交替排列的P型柱和N型柱构成,其特征在于,构成正交超级结拐角终端的交替排列的P型柱和N型柱其走向在与矩形芯片一个直角边终端的超级结平行的同时,与所述直角边终端相邻的另一个直角边终端的超级结垂直。
2.根据权利要求1所述的沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端,其特征在于,以矩形芯片对角线为界,将构成正交超级结拐角终端的交替排列的P型柱和N型柱分为两部分,该两部分交替排列的P型柱和N型柱的走向相互垂直;或者,构成正交超级结拐角终端的全部交替排列的P型柱和N型柱的走向相同。
3.根据权利要求1所述的沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端,其特征在于,在所述正交超级结拐角终端表面扩散有P型半导体层,该P型半导体层在将构成正交超级结拐角终端的P型柱和N型柱连接起来的同时,将正交超级结拐角终端与有源区也连接起来。
4.根据权利要求1所述的沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端,其特征在于,所述正交超级结拐角终端中的各P型柱的外端随着各P型柱位置远离直角边终端而内移。
CN201420660458.5U 2014-11-03 2014-11-03 沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端 Active CN204243047U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420660458.5U CN204243047U (zh) 2014-11-03 2014-11-03 沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420660458.5U CN204243047U (zh) 2014-11-03 2014-11-03 沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN204243047U true CN204243047U (zh) 2015-04-01

Family

ID=52772503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201420660458.5U Active CN204243047U (zh) 2014-11-03 2014-11-03 沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN204243047U (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105374877A (zh) * 2014-08-13 2016-03-02 瑞萨电子株式会社 半导体器件及半导体器件的制造方法
CN111384147A (zh) * 2018-12-28 2020-07-07 比亚迪股份有限公司 Pin二极管及其制备方法
CN115440796A (zh) * 2022-10-24 2022-12-06 上海功成半导体科技有限公司 一种超结器件终端保护的版图结构
WO2024001779A1 (zh) * 2022-06-30 2024-01-04 苏州华太电子技术股份有限公司 超级结功率器件

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105374877A (zh) * 2014-08-13 2016-03-02 瑞萨电子株式会社 半导体器件及半导体器件的制造方法
CN111384147A (zh) * 2018-12-28 2020-07-07 比亚迪股份有限公司 Pin二极管及其制备方法
CN111384147B (zh) * 2018-12-28 2021-05-14 比亚迪半导体股份有限公司 Pin二极管及其制备方法
WO2024001779A1 (zh) * 2022-06-30 2024-01-04 苏州华太电子技术股份有限公司 超级结功率器件
CN115440796A (zh) * 2022-10-24 2022-12-06 上海功成半导体科技有限公司 一种超结器件终端保护的版图结构
CN115440796B (zh) * 2022-10-24 2023-08-15 上海功成半导体科技有限公司 一种超结器件终端保护的版图结构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204243047U (zh) 沟槽超级结半导体器件的正交超级结拐角终端
CN102214678B (zh) 一种功率半导体器件的3d-resurf结终端结构
CN105304696A (zh) 半导体器件的横向变掺杂结终端结构及其制造方法
CN104009072A (zh) 一种绝缘栅双极型晶体管及其制作方法
CN106356401B (zh) 一种功率半导体器件的场限环终端结构
CN104183634A (zh) 一种沟槽栅igbt芯片
WO2014140000A3 (en) Lateral single-photon avalanche diode and their manufacturing method
CN105575781A (zh) 沟槽型超级结的制造方法
CN205900555U (zh) 一种大导电面积高效率的沟槽式肖特基芯片
CN103839977A (zh) Pin超结结构
CN107994067A (zh) 半导体功率器件、半导体功率器件的终端结构及其制作方法
CN108063159A (zh) 半导体功率器件的终端结构、半导体功率器件及其制作方法
CN206134689U (zh) 高集成度的低压沟槽栅dmos器件
CN204668310U (zh) 高压超结mosfet器件终端结构
CN104617158A (zh) 一种具有超深沟槽的瞬态电压抑制器结构
CN104332489A (zh) 半导体器件的具有表面超级结结构的终端
CN205564757U (zh) 一种超低功耗半导体功率器件
CN108376713A (zh) 一种具有超结结构的半导体器件及其制作方法
CN103035723A (zh) 一种超级结深沟槽结构
CN103745987B (zh) 一种场限环-负斜角复合终端结构
CN204696123U (zh) 一种具有超深沟槽的瞬态电压抑制器结构
CN106783952A (zh) 一种沟槽栅igbt器件
CN103367396A (zh) 一种超级结肖特基半导体装置及其制备方法
CN205992533U (zh) 一种具有三维结构的半导体晶圆
CN203589029U (zh) 具有串联的双nmos的集成电路

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant