CN204174114U - 一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置，包括干釉粉罐、静电筒、底座、风机和回收罐，带有围墙的静电筒固定安装在底座上，静电筒顶端的封盖内部设有带微孔的喷头，喷头的进口分别连接带单向阀的干釉粉罐和带预设脉冲控制器的空压机，静电筒侧壁穿过有传送带，传送带通过固定在支架上的传动轮驱动，传送带上放置的固定槽两端设有振荡器，静电筒下端依次设有漏料斗和风机，带有两层过滤网的回收罐连接在风机的末端。本实用新型装置效率高，产率大，而且可以避免针孔以及裂纹等釉表面缺陷，产品釉面质量大大提高，另外能回收干釉粉，节约陶瓷原料，降低了生产成本，提高了经济效益。

Description

一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制品生产设备领域，具体是一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置。

背景技术

传统的施釉方法都是湿法施釉，这种方法由于受到釉桨流变学性能与干燥工艺的束缚，不能够适应不同表面瓷砖的施釉，而且容易出现许多釉表面缺陷，如针孔、裂纹、波纹等问题，因此造成传统施釉装置的生产效率低，产量低，产品的质量均普遍较低，而且湿法施釉方法不仅造成原料的大大浪费，成本高，经济效益低，而且其生产环境条件差，给工作人员带来很大的危害。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种生产效率高、产品质量好的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置，包括干釉粉罐、静电筒、底座、风机和回收罐，所述底座的两端安装有基座，所述静电筒固定安装在底座上，静电筒的外围设有围墙，静电筒的顶端固设有封盖，封盖的顶端内部设有带多个微孔的喷头，喷头的进口通过单向阀连接干釉粉罐，所述空压机连接在喷头进口与单向阀之间，空压机的出口管道上安装有预设脉冲控制器，所述静电筒侧壁穿过有传送带，传送带通过固定在支架上的传动轮驱动，传送带上放置有多个固定槽，固定槽的两端均设有振荡器，固定槽内卡设有坯体，所述静电筒下端设有漏料斗，所述风机安装在漏料斗下端，所述回收罐连接在风机的末端，回收罐内安装有位于上层的二级过滤网和位于下层的一级过滤网，且一级过滤网位于回收罐进管口上方，所述回收罐侧壁下端设有封门。

作为本实用新型进一步的方案：所述传送带为网状传送带。

作为本实用新型进一步的方案：所述静电筒内的电压为120～150KV。

作为本实用新型进一步的方案：所述传动轮和风机上均由调控电机驱动。

作为本实用新型再进一步的方案：所述预设脉冲控制器、空压机、传动轮的调控电机和风机的调控电机均连接在PLC控制器上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型装置采用静电干法施釉工艺，效率高，产率大，而且可以完全避免针孔、裂纹以及波纹等釉表面缺陷，使得产品的釉面装饰质量大大提高，另外回收罐装置可以回收干釉粉，节约陶瓷原料，降低了生产成本，同时也改进了过去的釉桨处理方法与操作者的工作环境，提高了经济效益。

附图说明

图1为可控制脉动的静电干法循环施釉装置示意图。

图2为可控制脉动的静电干法循环施釉装置的控制原理图。

图中：1-干釉粉罐；2-单向阀；3-空压机；4-预设脉冲控制器；5-封盖；6-静电筒；7-围墙；-坯体；9-固定槽；10-振荡器；11-传送带；12-传动轮；13-基座；14-底座；15-漏料斗；16-风机；17-回收罐；1-二级过滤网；19-一级过滤网；20-封门；21-支架；22-喷头；23-微孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1～2，本实用新型实施例中，一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置，包括干釉粉罐1、静电筒6、底座14、风机16和回收罐17，底座14的两端安装有基座13，静电筒6固定安装在底座14上，静电筒6的外围设有围墙7，静电筒6内的电压为120～150KV，静电筒6内的高压比较危险，因此设置的围墙7有一定的保护作用，减弱了高压的辐射作用，减少对工作人员的伤害。

静电筒6的顶端固设有封盖5，封盖5的顶端内部设有带多个微孔23的喷头22，喷头22的进口通过单向阀2连接干釉粉罐1，空压机3连接在喷头22进口与单向阀2之间，空压机3的出口管道上安装有预设脉冲控制器4，预设脉冲控制器4有规律的控制空压机3内的压缩气体，并带着干釉粉罐1内的干釉粉进入静电筒6内，单向阀2的目的则是防止压缩气体进入干釉粉罐1内。

在预设脉冲控制器4的控制下，压缩气体有规律的进入静电筒6内，并将干釉粉带入静电筒6内，使得中性的干釉粉粒子带有负电荷，并随着压缩空气箱带有正电荷的坯体8移动，干釉粉粒子密集的附着在坯体8上，静电施釉喷出的雾滴较细，速度也较慢，使釉层分布均匀，大大提高釉面装饰质量。

静电筒6侧壁穿过有网状的传送带11，传送带11通过固定在支架21上的传动轮12驱动，传送带11上放置有多个固定槽9，固定槽9的两端均设有振荡器10，固定槽9内卡设有坯体，喷过干釉粉后，有部分干釉粉没有附着在坯体8上，便落入传送带11以及传动轮12上，振荡器10的作用则是振动传送带11以及其他部件，将干釉粉微粒进行收集落入静电筒6下端的漏料斗15上，然后通过漏料斗15下端的风机16的作用进入回收罐17，回收罐17内安装有位于上层的二级过滤网1和位于下层的一级过滤网19，且一级过滤网19位于回收罐17进管口上方，两层过滤网对进入回收罐17的干釉粉进行回收，以节约釉粉资源，回收罐17侧壁下端设有封门20，便于将回收后的干釉粉取出。

传动轮12和风机16上均由调控电机驱动，预设脉冲控制器4、空压机3、传动轮12的调控电机和风机16的调控电机均连接在PLC控制器上，通过PLC控制器的程序设定，在预设脉冲控制器4的作用下，压缩空气和干釉粉先进入静电筒6，在高压的静电场下附着在坯体上，并进入数次至坯体达到指定的工艺要求，然后便控制振荡器10和风机16的调控电机工作，将散落的干釉粉吸入回收罐17内，再控制传动轮12的调控电机运动，继续下一个坯体6的施釉工序。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (5)

1.一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置，包括干釉粉罐（1）、静电筒（6）、底座（14）、风机（16）和回收罐（17），所述底座（14）的两端安装有基座（13），其特征在于，所述静电筒（6）固定安装在底座（14）上，静电筒（6）的外围设有围墙（7），静电筒（6）的顶端固设有封盖（5），封盖（5）的顶端内部设有带多个微孔（23）的喷头（22），喷头（22）的进口通过单向阀（2）连接干釉粉罐（1），空压机（3）连接在喷头（22）进口与单向阀（2）之间，空压机（3）的出口管道上安装有预设脉冲控制器（4），所述静电筒（6）侧壁穿过有传送带（11），传送带（11）通过固定在支架（21）上的传动轮（12）驱动，传送带（11）上放置有多个固定槽（9），固定槽（9）的两端均设有振荡器（10），固定槽（9）内卡设有坯体（8），所述静电筒（6）下端设有漏料斗（15），所述风机（16）安装在漏料斗（15）下端，所述回收罐（17）连接在风机（16）的末端，回收罐（17）内安装有位于上层的二级过滤网（1）和位于下层的一级过滤网（19），且一级过滤网（19）位于回收罐（17）进管口上方，所述回收罐（17）侧壁下端设有封门（20）。

2.根据权利要求1所述的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，其特征在于，所述传送带（11）为网状传送带。

3.根据权利要求1所述的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，其特征在于，所述静电筒（6）内的电压为120～150KV。

4.根据权利要求1所述的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，其特征在于，所述传动轮（12）和风机（16）上均由调控电机驱动。

5.根据权利要求1所述的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，其特征在于，所述预设脉冲控制器（4）、空压机（3）、传动轮（12）的调控电机和风机（16）的调控电机均连接在PLC控制器上。