CN204102920U - 一种湿式刻蚀机的喷淋装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种湿式刻蚀机的喷淋装置，属于机械设备技术领域。它解决了现有喷淋装置中水膜不均匀的问题。本湿式刻蚀机的喷淋装置包括可盛放刻蚀溶液的槽体和设在槽体上方的喷淋头，喷淋头与水管相连，槽体内设有带液滚轮，带液滚轮的一端穿出槽体并与设置在槽体一侧的电机相连，带液滚轮的上方设有赶水滚轮和轮轴，赶水滚轮套在轮轴上空转，槽体的侧壁上连接有能改变轮轴高度的升降结构，另外硅片在带液滚轮与赶水滚轮之间输送。湿式刻蚀机的喷淋装置使硅片表面水膜均匀覆盖，减少刻蚀槽内腐蚀量下降。

Description

一种湿式刻蚀机的喷淋装置

技术领域

本实用新型属于机械设备技术领域，涉及一种刻蚀机，特别是一种湿式刻蚀机的喷淋装置。

背景技术

太阳能作为一种新型的可再生能源，随着人们对其不断地开发与研究，太阳能的运用的领域越来越广，作用越来越大。其中太阳能电池已经不是一个陌生的话题了，并且人们对于太阳能电池仍然在挖掘与探究，从未停留过。

如中国实用新型专利申请(申请号：201310489196.0)公开了一种硅太阳能电池生产中的湿刻蚀方法，其中该湿刻蚀装置的结构包括刻蚀槽和刻蚀槽上方的喷淋头，刻蚀槽内还设有若干个带液滚轮，在硅片的扩散面上通过水喷淋系统喷淋去离子水，形成水膜保护层，该水膜保护层一直持续存在，直到硅片完成刻蚀步骤，该发明能够稳定控制刻蚀后的方阻上升值，增加了PN结的有效面积，提高电池片的转换效率。但该刻蚀机在对硅片进行喷淋，硅片表面水膜不均匀，水会进入刻蚀槽，从而会减少腐蚀量。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种湿式刻蚀机的喷淋装置，该装置解决了硅片表面水膜不均匀与刻蚀槽内腐蚀量下降的现象。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种湿式刻蚀机的喷淋装置,包括可盛放刻蚀溶液的槽体和设在槽体上方的喷淋头，所述喷淋头与水管相连，所述槽体内设有带液滚轮，所述带液滚轮的一端穿出槽体并与设置在槽体一侧的电机相连，其特征在于，所述带液滚轮的上方设有赶水滚轮和轮轴，所述赶水滚轮套在轮轴上空转，所述槽体的侧壁上连接有能改变轮轴高度的升降结构，另外所述硅片在带液滚轮与赶水滚轮之间输送。

喷淋头的顶端设有出水口，带液滚轮在电机的带动下，当硅片随着带液滚轮输送经过喷淋头时，喷淋头向硅片表面喷上水，硅片表面就会形成一层水膜，通过升降结构调节赶水滚轮的高度，从而控制硅片表面的水膜厚度。

所述硅片呈方形，硅片平靠在带液滚轮上方。带液滚轮在电机的带动下，对硅片进行输送，带液把硅片四个边缘的PSG去除干净。

所述升降结构包括一端铰接在槽体侧壁上可沿铰接点摆动的摆臂，所述摆臂的另一端与轮轴端垂直相固连，所述摆臂上连接有带动摆臂摆动的摇柄。轮轴是固定不旋转的，转动摇柄对摆臂进行上下调节，轮轴会随着摆臂的上下运动而运动，轮轴带动赶水滚轮控制水膜的厚度。

作为另一种方案，所述升降结构包括凸轮、带动凸轮转动的马达、固定在槽体侧壁上的导套和设于导套内可沿导套上下滑行的导杆，所述导杆上端与轮轴垂直相固连，所述导杆下端始终与凸轮的轮面相抵靠，所述在槽体侧壁上设有控制马达的开关。启动槽体侧壁上的开关，马达运转带动凸轮旋转，由于凸轮的边缘离轴心距离不同，故凸轮不同面接触到导杆时，导杆会上下运动带动轮轴，利用赶水滚轮对硅片上的水膜厚度进行调节。

所述喷淋头两侧各设有一个赶水滚轮。喷淋头喷出的水在硅片上方形成一层水膜，对硅片上方的PSG进行保护，赶水滚轮使硅片表面水膜达到均匀的目的，减少水进入刻蚀槽的概率，从而使腐蚀量不会出现大的下降。

所述槽体为长方形，所述赶水滚轮的长度与槽体宽度相同。

与现有技术相比，本湿式刻蚀机的喷淋装置在硅片上方设置多个赶水滚轮，对硅片上方的PSG起到一个保护作用，并且赶水滚轮的运转会使硅片表面水膜均匀覆盖，减少水进入刻蚀槽的概率，从而使腐蚀量不会出现大的下降。

附图说明

图1是一种湿式刻蚀机的喷淋装置结构示意图。

图2是一种湿式刻蚀机的喷淋装置侧边结构示意图。

图3是实施例一中升降结构的结构示意图。

图4是实施例二中升降结构的结构示意图

图中，1、槽体；2、喷淋头；3、带液滚轮；4、电机；5、赶水滚轮；51、轮轴；6、摆臂；61、摇柄；7、凸轮；71、导杆；72、导套；8、马达；81、开关；9、硅片。

具体实施方式

实施例一

如图1、图2和图3所示，本湿式刻蚀机的喷淋装置包括可盛放刻蚀溶液的槽体1和设在槽体1上方的喷淋头2，喷淋头2与水管相连，槽体1内设有带液滚轮3，带液滚轮3的一端穿出槽体1并与设置在槽体1一侧的电机4相连，其特征在于，带液滚轮3的上方设有赶水滚轮5和轮轴51，赶水滚轮5套在轮轴51上空转，槽体1的侧壁上连接有能改变轮轴51高度的升降结构，另外硅片9在带液滚轮3与赶水滚轮5之间输送。喷淋头2的顶端设有出水口，带液滚轮3在电机4的带动下，当硅片9随着带液滚轮3输送经过喷淋头2时，喷淋头2向硅片9表面喷上水，硅片9表面就会形成一层水膜，通过升降结构调节赶水滚轮5的高度，从而控制硅片9表面的水膜厚度。

硅片9呈方形，硅片9平靠在带液滚轮3上方。带液滚轮3在电机4的带动下，对硅片9进行输送，带液把硅片9四个边缘的PSG去除干净。

升降结构包括一端铰接在槽体1侧壁上可沿铰接点摆动的摆臂6，摆臂6的另一端与轮轴51端垂直相固连，摆臂6上连接有带动摆臂6摆动的摇柄61。轮轴51是固定不旋转的，转动摇柄61对摆臂6进行上下调节，轮轴51会随着摆臂6的上下运动而运动，轮轴51带动赶水滚轮5控制水膜的厚度。

喷淋头2两侧各设有一个赶水滚轮5。喷淋头2喷出的水在硅片9上方形成一层水膜，对硅片9上方的PSG进行保护，赶水滚轮5使硅片9表面水膜达到均匀的目的，减少水进入刻蚀槽的概率，从而使腐蚀量不会出现大的下降。

槽体1为长方形，赶水滚轮5的长度与槽体1宽度相同。

具体来说当电机4启动，与电机4转轴相连的带液滚轮3开始旋转，刻蚀槽中设有多个带液滚轮3，硅片9会在带液滚轮3的传动下从刻蚀槽的一端漂到刻蚀槽的另一端，硅片9的底层浸泡在槽中的带液里，带液把硅片9四个边缘的PSG去除干净，为了避免硅片9表面上的PSG也被去除，故在硅片9上方设有喷淋头2，喷淋头2在硅片9表面喷上一层水膜。在喷淋头2和硅片9之间设有赶水滚轮5，赶水滚轮5十分接近硅片9，由于赶水滚轮5与硅片9相平行，故使硅片9表面水膜起到均匀的目的，另外可以通过升降装置来调节赶水滚轮5的高度控制硅片9上水膜的厚度，减少腐蚀量的下降。

实施例二

如图1、图2和图4所示，本实施例与实施例一大致相同，所不同之处在于升降结构包括凸轮7、带动凸轮7转动的马达8、固定在槽体1侧壁上的导套72和设于导套72内可沿导套72上下滑行的导杆71，导杆71上端与轮轴51垂直相固连，导杆71下端始终与凸轮7的轮面相抵靠，在槽体1侧壁上设有控制马达8的开关81。启动槽体1侧壁上的开关81，马达8运转带动凸轮7旋转，由于凸轮7的边缘离轴心距离不同，故凸轮7不同面接触到导杆71时，导杆71会上下运动带动轮轴51，利用赶水滚轮5对硅片9上的水膜厚度进行调节，槽体1侧壁上的导套72是为了防止导杆71偏移。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

尽管本文较多地使用了槽体1喷淋头2、带液滚轮3、电机4、赶水滚轮5、轮轴51、摆臂6、摇柄61、凸轮7、导杆71、导套72、马达8、开关81、硅片9等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。

Claims (6)

1.一种湿式刻蚀机的喷淋装置,包括可盛放刻蚀溶液的槽体(1)和设在槽体(1)上方的喷淋头(2)，所述喷淋头(2)与水管相连，所述槽体(1)内设有带液滚轮(3)，所述带液滚轮(3)的一端穿出槽体(1)并与设置在槽体(1)一侧的电机(4)相连，其特征在于，所述带液滚轮(3)的上方设有赶水滚轮(5)和轮轴(51)，所述赶水滚轮(5)套在轮轴(51)上空转，所述槽体(1)的侧壁上连接有能改变轮轴(51)高度的升降结构，另外硅片(9)在带液滚轮(3)与赶水滚轮(5)之间输送。 

2.根据权利要求1所述的一种湿式刻蚀机的喷淋装置，其特征在于，所述硅片(9)呈方形，硅片(9)平靠在带液滚轮(3)上方。 

3.根据权利要求1或2所述的一种湿式刻蚀机的喷淋装置，其特征在于，所述升降结构包括一端铰接在槽体(1)侧壁上可沿铰接点摆动的摆臂(6)，所述摆臂(6)的另一端与轮轴(51)端垂直相固连，所述摆臂(6)上连接有带动摆臂(6)摆动的摇柄(61)。 

4.根据权利要求1或2所述的一种湿式刻蚀机的喷淋装置，其特征在于，所述升降结构包括凸轮(7)、带动凸轮(7)转动的马达(8)、固定在槽体(1)侧壁上的导套(72)和设于导套(72)内可沿导套(72)上下滑行的导杆(71)，所述导杆(71)上端与轮轴(51)垂直相固连，所述导杆(71)下端始终与凸轮(7)的轮面相抵靠，所述在槽体(1)侧壁上设有控制马达(8)的开关(81)。 

5.根据权利要求1所述的一种湿式刻蚀机的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋头(2)两侧各设有一个赶水滚轮(5)。 

6.根据权利要求5所述的一种湿式刻蚀机的喷淋装置，其特征在于，所述槽体(1)为长方形，所述赶水滚轮(5)的长度与槽体(1)宽度相同。