CN204079780U - Ito导电玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种LCD用无色高透5欧姆~200欧姆ITO导电玻璃,包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层;第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2;第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2;第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2。这种ITO导电玻璃以层叠的膜层结构替代传统的SiO2层,折射率高低结合的膜层结构解决了LCD用SiO2膜层上镀5欧姆~200欧姆ITO膜层透过率偏低问题,提升了ITO玻璃的透过率,视觉效果较好。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于LCD的无色高透ITO导电玻璃。
背景技术
ITO导电玻璃是在钠钙基片或硅硼基基片玻璃的基础上,利用磁控溅射的方法依次沉积二氧化硅(SiO2)和氧化铟锡(通称ITO)薄膜加工制作成的。
ITO是一种具有良好透明导电性能的金属化合物,具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等特性,ITO导电玻璃广泛地应用于平板显示器件、太阳能电池、特殊功能窗口涂层及其他光电器件领域,是目前LCD、PDP、OLED、触摸屏等各类平板显示器件广泛采用的透明导电电极材料。作为平板显示器件的关键基础材料,ITO导电玻璃其随着平板显示器件的不断更新和升级而具有更加广阔的市场空间。
LCD用ITO导电玻璃多采用在玻璃上镀SiO2+ITO两层膜结构,最高透过率达不到90%,且ITO导电玻璃的透过率随ITO膜层厚度变化而呈现周期性变化,在个别ITO膜层厚度时透过率低至77%左右,影响LCD的视觉效果。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种在使用时视觉效果较好的ITO导电玻璃。
一种ITO导电玻璃,用于LCD,包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层;
所述第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2;
所述第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2;
所述第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2;
所述第一低折射率层的厚度为
所述第一高折射率层的厚度为
在一个实施例中,所述第一低折射率层的厚度为
在一个实施例中,所述第一高折射率层的厚度为
在一个实施例中,所述第二低折射率层的厚度为
在一个实施例中,所述第二高折射率层的厚度为
在一个实施例中,所述第三低折射率层的厚度为
在一个实施例中,所述ITO导电玻璃的面电阻为5欧姆~7欧姆、10欧姆~15欧姆、12欧姆~17欧姆、14欧姆~20欧姆、17欧姆~25欧姆、20欧姆~30欧姆、30欧姆~45欧姆、35欧姆~50欧姆、40欧姆~60欧姆、60欧姆~80欧姆、80欧姆~120欧姆、100欧姆~150欧姆、125欧姆~200欧姆等。
在一个实施例中,所述ITO层的厚度为
这种ITO导电玻璃,通过以第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层和第三低折射率层替代传统的SiO2层,透过率高低结合的膜层结构增加了ITO层的透过率,可以提升ITO玻璃的透过率至90%以上,个别ITO膜层处ITO透过率提升10%以上。相对于传统的ITO导电玻璃,这种ITO导电玻璃的视觉效果较好,同时由于透过率的提高,降低了光线的反射,提高了使用寿命。
此外,通过多层高低折射率材料间膜层的匹配,还可以保证ITO膜层的颜色比较浅,减少ITO和打底层之间的颜色对比,应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视觉效果。
附图说明
图1为一实施方式的ITO导电玻璃的结构示意图;
图2为如图1所示的ITO导电玻璃的制备方法的流程图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
如图1所示的一实施方式ITO导电玻璃,用于LCD,包括依次层叠的玻璃10、第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60以及ITO层70。
玻璃10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
第一低折射率层20的材料为SiO2或MgF2。SiO2的折射率为1.48,MgF2的折射率为1.38。采用SiO2或MgF2作为第一低折射率层20的材料,使得第一低折射率层20的透过率相对较高。
第一低折射率层20的厚度为一般而言,第一低折射率层20的厚度对于ITO导电玻璃的整体透过率以及视觉效果影响较小,在一个特别的实施方式中,第一低折射率层20的厚度可以为0,也就是说,第一低折射率层20可以省略。
在一个较优的实施方式中,第一低折射率层20的厚度为
第一高折射率层30的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4。Nb2O5的折射率为2.3,TiO2的折射率为2.3,ZrO2的折射率为2.17,Si3N4的折射率为2.0。采用Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4作为第一高折射率层30的材料,使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
第一高折射率层30的厚度可以为在一个特别的实施方式中,第一高折射率层30的厚度可以为0,也就是说,第一高折射率层30可以省略。
在一个较优的实施方式中,第一高折射率层30的厚度为
第二低折射率层40的材料为SiO2或MgF2。SiO2的折射率为1.48,MgF2的折射率为1.38。采用SiO2或MgF2作为第二低折射率层40的材料,使得第二低折射率层40的透过率相对较高。
本实施方式中,第二低折射率层40的厚度为
第二高折射率层50的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4。Nb2O5的折射率为2.3,TiO2的折射率为2.3,ZrO2的折射率为2.17,Si3N4的折射率为2.0。采用Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4作为第二高折射率层50的材料,使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
本实施方式中,第二高折射率层50的厚度为
第三低折射率层60的材料为SiO2或MgF2。SiO2的折射率为1.48,MgF2的折射率为1.38。采用SiO2或MgF2作为第三低折射率层60的材料,使得第三低折射率层60的透过率相对较高。
本实施方式中,第三低折射率层60的厚度为
本实施方式中,ITO层70的厚度为
ITO导电玻璃的面电阻可以为5欧姆~7欧姆、10欧姆~15欧姆、12欧姆~17欧姆、14欧姆~20欧姆、17欧姆~25欧姆、20欧姆~30欧姆、30欧姆~45欧姆、35欧姆~50欧姆、40欧姆~60欧姆、60欧姆~80欧姆、80~120欧姆、100~150欧姆、125~200欧姆等。
特别的,对应ITO导电玻璃的电阻范围为125欧姆~200欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为100欧姆~150欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为80欧姆~120欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为60欧姆~80欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为40欧姆~60欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为35欧姆~50欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为30欧姆~45欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为20欧姆~30欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为17欧姆~25欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为14欧姆~20欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为12欧姆~17欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为10欧姆~15欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为5欧姆~7欧姆,ITO层70的厚度为
这种ITO导电玻璃,通过以第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50和第三低折射率层60替代传统的SiO2层,透过率高低结合的膜层结构增加了ITO层70的透过率,可以提升ITO玻璃的透过率至90%以上,个别ITO膜层处ITO透过率提升10%以上。
相对于传统的ITO导电玻璃,这种ITO导电玻璃的视觉效果较好,同时由于透过率的提高,降低了光线的反射,提高了使用寿命。
此外,通过多层高低折射率材料间膜层的匹配,还可以保证ITO膜层的颜色比较浅,减少ITO和打底层之间的颜色对比,应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视觉效果。
如图2所示的上述ITO导电玻璃的制备方法,包括如下步骤:
S10、提供玻璃10,清洗后干燥。
玻璃10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
S20、在清洗后的玻璃10表面依次磁控溅射沉积第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60和ITO层70,得到ITO导电玻璃。
第一低折射率层20的材料为SiO2或MgF2。SiO2的折射率为1.48,MgF2的折射率为1.38。采用SiO2或MgF2作为第一低折射率层20的材料,使得第一低折射率层20的透过率相对较高。
第一低折射率层20的厚度为一般而言,第一低折射率层20的厚度对于ITO导电玻璃的整体透过率以及视觉效果影响较小,在一个特别的实施方式中,第一低折射率层20的厚度可以为0,也就是说,第一低折射率层20可以省略。
在一个较优的实施方式中,第一低折射率层20的厚度为
第一高折射率层30的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4。Nb2O5的折射率为2.3,TiO2的折射率为2.3,ZrO2的折射率为2.17,Si3N4的折射率为2.0。采用Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4作为第一高折射率层30的材料,使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
第一高折射率层30的厚度可以为在一个特别的实施方式中,第一高折射率层30的厚度可以为0,也就是说,第一高折射率层30可以省略。
在一个较优的实施方式中,第一高折射率层30的厚度为
第二低折射率层40的材料为SiO2或MgF2。SiO2的折射率为1.48,MgF2的折射率为1.38。采用SiO2或MgF2作为第二低折射率层40的材料,使得第二低折射率层40的透过率相对较高。
本实施方式中,第二低折射率层40的厚度为
第二高折射率层50的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4。Nb2O5的折射率为2.3,TiO2的折射率为2.3,ZrO2的折射率为2.17,Si3N4的折射率为2.0。采用Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4作为第二高折射率层50的材料,使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
本实施方式中,第二高折射率层50的厚度为
第三低折射率层60的材料为SiO2或MgF2。SiO2的折射率为1.48,MgF2的折射率为1.38。采用SiO2或MgF2作为第三低折射率层60的材料,使得第三低折射率层60的透过率相对较高。
本实施方式中,第三低折射率层60的厚度为
本实施方式中,ITO层70的厚度为
ITO导电玻璃的面电阻可以为5欧姆~7欧姆、10欧姆~15欧姆、12欧姆~17欧姆、14欧姆~20欧姆、17欧姆~25欧姆、20欧姆~30欧姆、30欧姆~45欧姆、35欧姆~50欧姆、40欧姆~60欧姆、60欧姆~80欧姆、80欧姆~120欧姆、100欧姆~150欧姆、125欧姆~200欧姆等。
特别的,对应ITO导电玻璃的电阻范围为125欧姆~200欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为100欧姆~150欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为80欧姆~120欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为60欧姆~80欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为40欧姆~60欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为35欧姆~50欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为30欧姆~45欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为20欧姆~30欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为17欧姆~25欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为14欧姆~20欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为12欧姆~17欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为10欧姆~15欧姆,ITO层70的厚度为对应ITO导电玻璃的电阻范围为5欧姆~7欧姆,ITO层70的厚度为
上述方法制得的ITO导电玻璃,通过以第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50和第三低折射率层60替代传统的SiO2层,透过率高低结合的膜层结构增加了ITO层70的透过率,可以提升ITO玻璃的透过率至90%以上,个别ITO膜层处ITO透过率提升10%以上。
相对于传统的ITO导电玻璃,这种ITO导电玻璃的视觉效果较好,同时由于透过率的提高,降低了光线的反射,提高了使用寿命。
此外,通过多层高低折射率材料间膜层的匹配,还可以保证ITO膜层的颜色比较浅,减少ITO和打底层之间的颜色对比,应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视觉效果。
下面为具体实施例。
实施例1
将浮法玻璃洗净后干燥。
在工作压强为2×10-3mbar的条件下,在浮法玻璃表面依次沉积厚度为的SiO2层、厚度为的Nb2O5层、厚度为的SiO2层、厚度为的Nb2O5层、厚度为的SiO2层和厚度为的ITO层,得到550nm处透过率≥93%、几近无色的ITO导电玻璃。
实施例2
将浮法玻璃洗净后干燥。
在工作压强为3×10-3mbar的条件下,在浮法玻璃表面依次沉积厚度为的SiO2层、厚度为的TiO2层、厚度为的SiO2层、厚度为的TiO2层、厚度为的SiO2层和厚度为的ITO层,得到透过率≥93%、几近无色的ITO导电玻璃。
实施例3
将浮法玻璃洗净后干燥。
在工作压强为8×10-4mbar的条件下,在浮法玻璃表面依次沉积厚度为的Nb2O5层、厚度为的SiO2层、厚度为的Nb2O5层、厚度为的SiO2层和厚度为的ITO层,得到透过率≥93%、几近无色的ITO导电玻璃。
实施例4
将浮法玻璃洗净后干燥。
在工作压强为1×10-3mbar的条件下,在浮法玻璃表面依次沉积厚度为的ZrO2层、厚度为的MgF2层、厚度为的Si3N4层、厚度为的SiO2层和厚度为的ITO层,得到透过率≥88%、几近无色的ITO导电玻璃。
实施例5
将浮法玻璃洗净后干燥。
在工作压强为1×10-3mbar的条件下,在浮法玻璃表面依次沉积厚度为的SiO2层、厚度为的TiO2层、厚度为的SiO2层、厚度为的ZrO2层和厚度为的ITO层,得到透过率≥88%、几近无色的ITO导电玻璃。
实施例6
将浮法玻璃洗净后干燥。
在工作压强为1×10-3mbar的条件下,在浮法玻璃表面依次沉积厚度为的SiO2层、厚度为的ZrO2层、厚度为的SiO2层、厚度为的ZrO2层和厚度为的ITO层,得到透过率≥84%、几近无色的ITO导电玻璃。
对实施例1~6制备得到的ITO导电玻璃,利用UV2450分光光度计进行550nm透过率测试,结果如下表1所示。
表1:实施例1~6制备得到的ITO导电玻璃的550nm下的透过率测试结果。
由表1可以看出,实施例1~6制备得到的ITO导电玻璃的透过率得到较高的提升。
实施例1~6制备得到的ITO导电玻璃,通过多层高低折射率材料间膜层的匹配,还可以保证ITO膜层的颜色比较浅,减少ITO和打底层之间的颜色对比,应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视觉效果。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (8)
1.一种ITO导电玻璃,用于LCD,其特征在于,包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层;
所述第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2;
所述第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2;
所述第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2;
所述第一低折射率层的厚度为
所述第一高折射率层的厚度为
2.根据权利要求1所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述第一低折射率层的厚度为
3.根据权利要求1所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述第一高折射率层的厚度为
4.根据权利要求1所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述第二低折射率层的厚度为
5.根据权利要求1所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述第二高折射率层的厚度为
6.根据权利要求1所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述第三低折射率层的厚度为
7.根据权利要求1所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述ITO导电玻璃的面电阻为5欧姆~7欧姆、10欧姆~15欧姆、12欧姆~17欧姆、14欧姆~20欧姆、17欧姆~25欧姆、20欧姆~30欧姆、30欧姆~45欧姆、35欧姆~50欧姆、40欧姆~60欧姆、60欧姆~80欧姆、80欧姆~120欧姆、100欧姆~150欧姆或125欧姆~200欧姆。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的ITO导电玻璃,其特征在于,所述ITO层的厚度为
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Cited By (3)
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CN109212646A (zh) * | 2018-10-19 | 2019-01-15 | 苏州文迪光电科技有限公司 | 一种滤光片镀膜工艺 |
CN109212645A (zh) * | 2018-10-18 | 2019-01-15 | 苏州文迪光电科技有限公司 | 一种新型梯形滤光片 |
CN109212642A (zh) * | 2018-10-19 | 2019-01-15 | 苏州文迪光电科技有限公司 | 一种新型滤光片结构 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109212645A (zh) * | 2018-10-18 | 2019-01-15 | 苏州文迪光电科技有限公司 | 一种新型梯形滤光片 |
CN109212646A (zh) * | 2018-10-19 | 2019-01-15 | 苏州文迪光电科技有限公司 | 一种滤光片镀膜工艺 |
CN109212642A (zh) * | 2018-10-19 | 2019-01-15 | 苏州文迪光电科技有限公司 | 一种新型滤光片结构 |
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