CN204009353U - 偏极化曝光装置 - Google Patents
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- 230000010287 polarization Effects 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 117
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims abstract description 65
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001550 time effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Abstract
本实用新型提供一种偏极化曝光装置是用以对一基板进行曝光并包含一基板承载单元、一温控单元以及一曝光单元。基板承载单元用以承载基板。温控单元控制基板达到一工艺温度。曝光单元提供一偏极化光，并对该基板进行曝光。以此，本实用新型可提高曝光效能并缩短工站时间。
Description
技术领域
本实用新型是关于一种曝光装置，特别关于一种偏极化曝光装置。
背景技术
液晶配向技术为决定一液晶显示装置所显示画面品质的关键技术之一。只有液晶显示面板内液晶材料具有稳定且均匀的初始排列，才能呈现高品质的画面。一般液晶显示装置内具有用来诱导液晶分子定向排列的薄层，称为液晶配向层（alignmentlayer）。
目前业界在广视角技术的应用中，如垂直配向型（VA）、平面内转换型（In-PlaneSwitching,IPS）与边缘电场转换型（Fringe Field Switching,FFS），已利用光配向（Photo-alignment）技术来控制液晶分子配置方向，以提高产品光学性能与良率。但光配向材料往往需要高曝光量，以致工站时间增加并且产出量（throughput）下降。
因此，如何提供一种偏极化曝光装置，能提高曝光效能并缩短工站时间进而提升产出量，实为当前重要课题之一。
实用新型内容
有鉴于上述课题，本实用新型的目的为提供一种偏极化曝光装置，能提高曝光效能并缩短工站时间进而提升产出量。
为达上述目的，依本实用新型的一种偏极化曝光装置用以对一基板进行曝光并包含一基板承载单元、一温控单元以及一曝光单元。基板承载单元用以承载基板。温控单元控制基板达到一工艺温度。曝光单元提供一偏极化光，并对该基板进行曝光。
在一实施例中，基板为一薄膜晶体管基板、一彩色滤光基板或一液晶显示面板。
在一实施例中，基板承载单元具有一基板平台以及一转动模块，基板设置于基板平台上，转动模块使基板平台转动。
在一实施例中，温控单元具有一热板、一热风提供模块、一红外线提供模块或一激光提供模块，以加热基板达到工艺温度。
在一实施例中，温控单元对设置于基板承载单元上的基板进行温控。
在一实施例中，偏极化曝光装置更包含一传送单元，其中该传送单元将经该温控单元的该基板传送至该基板承载单元。
在一实施例中，温控单元具有一第一温控单元及一第二温控单元，第一温控单元对基板进行温控，一传送单元将经该第一温控单元的基板传送至基板承载单元，第二温控单元对设置于基板承载单元上的基板进行温控。
在一实施例中，该基板进行该曝光时达到该工艺温度。
在一实施例中，该基板进行曝光后，于在基板产生一光配向层或一光程差层。
在一实施例中，曝光单元包含一偏极化光源，偏极化光源邻设于基板承载单元。
承上所述，依本实用新型的偏极化曝光装置包含一温控单元，其可控制基板达到一工艺温度，例如是利用加热手段使基板达到工艺温度。当基板在工艺温度时，其曝光效能会大幅提升，因而在同样的曝光光源下，能缩短基板的曝光时间。因此，本实用新型的偏极化曝光装置能缩短工站时间并提升产出量。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的一种偏极化曝光装置的示意图。
图2至图5为本实用新型的一偏极化曝光装置的不同实施态样的示意图。
附图标记
1：偏极化曝光装置
11：基板承载单元
111：基板平台
112：转动模块
12：温控单元
121：第一温控单元
122：第二温控单元
13：曝光单元
14：清洗单元
15：传送单元
S：基板
SD：扫描方向
具体实施方式
以下将参照相关附图，说明依本实用新型较佳实施例的一种偏极化曝光装置，其中相同的元件将以相同的元件符号加以说明。
图1为本实用新型一实施例的一种偏极化曝光装置1的示意图。如图1所示，偏极化曝光装置1用以对一基板S进行曝光并包含一基板承载单元11、一温控单元12以及一曝光单元13。本实用新型不特别限制偏极化曝光装置1的应用范围，其例如是应用于一光配向工艺的曝光以产生一光配向层、或是应用于3D显示面板的曝光以产生一光程差层（retardation layer）。基板S具有一光敏（photo-sensitive）材料以感测偏极化曝光装置1的曝光单元13所发出的光线。其中，基板S例如是一素玻璃基板（即一单纯的玻璃基材，尚未具有图案化的层别）、一素软性基板、一薄膜晶体管（TFT）基板、一彩色滤光（CF）基板或一液晶显示（LCD）面板。此外，本实施例的偏极化曝光装置1可应用于广视角技术，例如包含垂直配向型（VA）、平面内转换型（In-Plane Switching,IPS）与边缘电场转换型（Fringe Field Switching,FFS）显示面板等等。
基板承载单元11用以承载基板S。基板承载单元11例如包含一基板平台111，基板S可设置于基板平台111上。在一实施例中，基板平台111可平移及或转动。在本实施例中，基板承载单元11更包含一转动模块112，其使基板平台111转动以致基板S可被旋转至一特定方位适合于后续的工艺。转动模块112例如包含一驱动电机、一转轴或其他合适的元件。由于转动模块112可利用已知技艺来达成，故于此不再赘述。
温控单元12控制基板S达到一工艺温度。于此，当基板S达到工艺温度时，其有利于曝光工艺的效能的提升。温控单元12可使基板S升温、降温或升温及降温。本实施例的温控单元12可应用多种手段来达到，例如温控单元12具有一热板、一热风提供模块、一红外线提供模块或一激光提供模块，以加热基板S达到工艺温度。另外，温控单元12对基板S进行温控的时间点可有多种态样。在一态样中，温控单元12可对设置于基板承载单元11上的基板S进行温控。在另一态样中，温控单元12可对基板S进行温控，已温控的基板S再通过一传送单元传送至基板承载单元11上。在另一态样中，温控单元12具有一第一温控单元121及一第二温控单元122，第一温控单元121对基板S进行温控，一传送单元将已温控的基板S传送至基板承载单元11，第二温控单元122对设置于基板承载单元11上的基板S进行温控以使基板S达到所需的工艺温度。据此，温控单元12可与基板承载单元11整合、或是设置于基板承载单元11之外、或是一部分与基板承载单元11整合且另一部分设置于基板承载单元11之外。
另外，上述的工艺温度可指有利于曝光工艺产生最大效能的温度。或者，考虑到曝光时也会对基板提供一些热能，因此工艺温度也可比有利于曝光工艺产生最大效能的温度再低一些的温度。然而，本实用新型不限于此。
曝光单元13对达到工艺温度的基板S进行一偏极化曝光。曝光单元13包含一偏极化光源，偏极化光源例如具有至少一灯管或其他发光元件。偏极化光源例如发出线偏振、圆偏振或椭圆偏振的光线，可视实际需求而实施。偏极化光源例如为一紫外光光源，当然，依据实际需求，其也可发出其他波长的光线。在一实施例中，偏极化光源邻设于基板承载单元11的至少一部分。如此，当基板S在基板平台111上受温控单元12的控制而使其达到工艺温度时，可立即进入曝光单元13的操作范围而被曝光，藉此可使基板S维持在工艺温度时进行曝光，进而提升曝光效能。
另外，在本实施例中，偏极化曝光装置1可更包含一清洗单元14，其用以清洗基板S。于此，基板S先经过清洗单元14再经过温控单元12。换言之，基板S先由清洗单元14除去不必要的杂质之后，再由温控单元12进行加热。藉此可避免杂质也被加热而影响后续的曝光工艺。清洗单元14可利用干式或湿式来进行清洗。
相较于已知技艺中基板不受温度控制而直接进行曝光，基板通过本实用新型的一实施例的温控单元12控制在工艺温度再进行曝光时，依据验证可使曝光时间缩短至少50％，进而大幅减少工站时间并提升产出量。
本实施例的偏极化曝光装置1具有多个实施态样，以下以图2至图5举例说明之，图2至图5为本实用新型的一偏极化曝光装置1的不同实施态样的示意图。
如图2所示，基板S设置于偏极化曝光装置1的一基板平台111上，并且温控单元12与基板承载单元11连接、或是与基板承载单元11一同整合。藉此，当基板S设置于基板平台111上时，温控单元12可对基板S进行温控，而使其达到工艺温度。在其他态样中，温控单元12可设置于基板平台111之外，例如其上方，以对基板S加热。然后，基板S被传送至曝光单元13以进行曝光。由于基板平台111与曝光单元13相当接近，因此基板S可在维持于工艺温度的情况下进行曝光，进而提升曝光效能。
如图3所示，温控单元12设置于基板平台111之外。于此，温控单元12以包含一热板为例。基板S先设置于温控单元12上以受温控单元12加热至一工艺温度。然后，一传送单元15将已温控的基板S传送至基板平台111上。传送单元15例如包含一机械手臂及一驱动电机，驱动电机驱动机械手臂以将基板S传送至基板平台111上。由于传送单元15可利用已知技艺来达成，故于此不再赘述。基板S设置于基板平台111上之后，可直接送入曝光单元13进行曝光、或是先由上述的转动模块转动至一特定角度再进入曝光单元13进行曝光。由于温控单元12设置于基板平台111之外，故可避免加热至一工艺温度所需的时间影响工站时间与产出量。
如图4所示，基板S设置于基板平台111上，温控单元12设置于基板平台111之外，例如其上方。于此，温控单元12以包含一激光提供模块为例，激光提供模块发射一激光光以对基板S加热。在此态样中，激光提供模块可移动以对基板S的不同地方加热，例如沿一扫描方向SD移动以对基板S均匀加热，等温控完成之后，基板S再送入曝光单元13进行曝光。或者，激光提供模块被固定，而基板平台111可沿扫描方向SD的反方向朝曝光单元13前进，使得基板S一面受激光提供模块加热，一面进入曝光单元，藉此可缩短整体工艺时间并使基板S更能维持在工艺温度的情况下进行曝光。
如图5所示，温控单元12包含一第一温控单元121及一第二温控单元122。第一温控单元121先对基板S进行温控。于此，第一温控单元121设置于基板平台111之外。第一温控单元121将基板S加热至一工艺温度或接近该工艺温度之后，传送单元15将基板S传送至基板平台111上，第二温控单元122再对基板S进行温控。于此，第二温控单元122与基板承载单元11连接、或是与基板承载单元11一同整合。通过第二温控单元122对基板S的温控，可使基板S更精确地维持在工艺温度，以进一步提升曝光效能。
需注意者，上述实施态样的技术特征可单独实施或合并实施。
综上所述，依本实用新型的偏极化曝光装置包含一温控单元，其可控制基板达到一工艺温度，例如是利用加热手段使基板达到工艺温度。当基板在工艺温度时，其曝光效能会大幅提升，因而在同样的曝光光源下，能缩短基板的曝光时间。因此，本实用新型的偏极化曝光装置能缩短工站时间并提升产出量。
以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本实用新型的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于上附的权利要求书范围中。
Claims (10)
1.一种偏极化曝光装置，用以对一基板进行曝光，其特征在于，所述偏极化曝光装置包含：
一基板承载单元，所述基板设置于所述基板承载单元上；
一温控单元，与所述基板对应设置并控制所述基板达到一工艺温度；以及
一曝光单元，与所述基板对应设置并提供一偏极化光，并对所述基板进行曝光。
2.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述基板为一薄膜晶体管基板、一彩色滤光基板或一液晶显示面板。
3.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述基板承载单元具有一基板平台以及一转动模块，所述基板设置于所述基板平台上，所述转动模块使所述基板平台转动。
4.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述温控单元具有一热板、一热风提供模块、一红外线提供模块或一激光提供模块，以加热所述基板达到所述工艺温度。
5.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述温控单元对设置于所述基板承载单元上的所述基板进行温控。
6.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述偏极化曝光装置还包含：
一传送单元，其中所述传送单元将经所述温控单元的所述基板传送至所述基板承载单元。
7.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述温控单元具有一第一温控单元及一第二温控单元，所述第一温控单元对所述基板进行温控，一传送单元将经所述第一温控单元的所述基板传送至所述基板承载单元，所述第二温控单元对设置于所述基板承载单元上的所述基板进行温控。
8.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述基板进行所述曝光时达到所述工艺温度。
9.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述基板进行曝光后，于所述基板产生一光配向层或一光程差层。
10.根据权利要求1所述的偏极化曝光装置，其特征在于，所述曝光单元包含一偏极化光源，所述偏极化光源邻设于所述基板承载单元。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420065727.3U CN204009353U (zh) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 偏极化曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420065727.3U CN204009353U (zh) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 偏极化曝光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204009353U true CN204009353U (zh) | 2014-12-10 |
Family
ID=52049329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201420065727.3U Expired - Lifetime CN204009353U (zh) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 偏极化曝光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204009353U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112198761A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-08 | 中国科学院微电子研究所 | 载片系统及物料传递方法 |
-
2014
- 2014-02-14 CN CN201420065727.3U patent/CN204009353U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112198761A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-08 | 中国科学院微电子研究所 | 载片系统及物料传递方法 |
| CN112198761B (zh) * | 2020-09-07 | 2023-09-01 | 中国科学院微电子研究所 | 载片系统及物料传递方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20141210 |
|
| CX01 | Expiry of patent term |