CN203990469U - Ito蚀刻用草酸溶液的配制装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种ITO蚀刻用草酸溶液的配制装置。使用该配制装置时，过量草酸晶体和去离子水投放于溶解装置中，通过加温，形成浓缩的过饱和溶液，再经第一出液管内高温过滤、进入缓存装置，最后从缓存装置进入稀释装置再按比例稀释即可配制成所需浓度的草酸溶液。上述配制装置实现了ITO蚀刻用草酸溶液的高效配制、且不易引入杂质。稀释时只需按照比例稀释，无需进行检测浓度、只需温控，生产效率得以提高。另外，与直接配制成所需成品浓度相比，通过浓缩液稀释，大大增加了生产能力、降低了装置容量要求。
Description
技术领域
本实用新型涉及化工领域，具体涉及一种ITO蚀刻用草酸溶液的配制装置。
背景技术
ITO蚀刻用草酸溶液用于TFT-LCD、LED、OLED等行业用作面板制程中ITO层的蚀刻剂。该溶液中草酸的浓度通常为3.2~3.6%。其配制方法通常是将草酸晶体与纯水按照某一浓度在混合筒内直接混合配制。这种配制装置的缺点在于：第一、草酸晶体可能含有微量不溶杂质，通过混合配制也会分散于溶液中；第二、生产的效率低，由于物质的溶解度是一个与温度有着很强相关性的参数，环境温度的变化会引起溶液中溶解量的改变；比如在某一温度下，以对应该温度的饱和溶解量投放草酸晶体，若温度发生波动如下降，将导致溶液浓度下降，因此生产中需要对溶液的浓度不断地进行检测。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种生产效率高、不易引入杂质的ITO蚀刻用草酸溶液的配制装置。
本实用新型提供的一种用上述配制方法所用的配制装置，包括溶解装置、缓存装置和稀释装置；溶解装置内设有第一搅拌器，溶解装置的上端连接有进料管和第一进水管，第一进水管上设有第一进水阀；溶解装置的下端与缓存装置的上端连接有第一出液管，第一出液管上沿出液方向依次设有第一出液阀、第一抽液泵和过滤器，所述缓存装置的下端与稀释装置的上端连接有第二出液管，第二出液管沿出液方向依次设有第二出液阀和第二抽液泵；稀释装置的上端还连接有第二进水管，第二进水管上设有第二进水阀，稀释装置的下端设有放液管，放液管上设有放液阀；第一、第二进水管各经第一、第二进水阀与去离子水贮存装置连接；所述溶解装置、缓存装置及其第一、第二出液管分别设有相应的加热夹套。
为了便于观察溶解装置，优选的技术方案是，所述溶解装置的下端部设有观察机构。所述观察机构可以为至少有一截为透明材质的管体。观察机构设计为透明材质的管体的优点在于，管体结构易于安装连接。由于草酸晶体含有一定的杂质，进一步优选的技术方案是，所述管体的一端与所述溶解装置连接，另一端为卸渣口，管体上设置有卸渣阀。当溶解装置底部在沉积未溶解草酸晶体的同时沉积了足够的不溶杂质时，通过开启卸渣阀，可以使不溶杂质卸出。
为了使稀释装置混合均匀，优选的技术方案是，所述稀释装置内设有第二搅拌器。
溶解装置、缓存装置及其第一、第二出液管的温度下降会影响草酸溶液的浓度。为了使溶解装置、缓存装置或第一、第二出液管出现温度意外情况下可以采取补救措施，优选的技术方案是，所述第二出液管还连接有取样支管；取样支管设有取样口，取样支管与所述第二出液管连接处至所述取样口之间设有取样阀。
优选地，所述溶解装置为溶解罐，所述缓存装置为缓存罐，所述稀释装置为稀释罐；所述去离子水贮存装置为去离子水贮存槽。为减少去离水贮存槽的动力消耗，优选的，所述去离子水贮存槽为高位槽。
本实用新型的优点和有益效果在于：使用该配制装置时，过量草酸晶体和去离子水投放于溶解装置中，通过加温，形成浓缩的过饱和溶液，再经第一出液管内高温过滤、进入缓存装置，最后从缓存装置进入稀释装置再按比例稀释即可配制成所需浓度的草酸溶液。上述配制装置实现了ITO蚀刻用草酸溶液的高效配制、且不易引入杂质。稀释时只需按照比例稀释，无需进行检测浓度、只需温控，生产效率得以提高。另外，与直接配制成所需成品浓度相比，通过浓缩液稀释，大大增加了生产能力、降低了装置容量要求。
附图说明
图1是本实用新型ITO蚀刻用草酸溶液的配制装置的结构示意图。
图中：1、溶解装置；2、缓冲装置；3、稀释装置；4、去离子水贮存装置；5、进料管；6、第一进水管；7、第一出液管；8、第二出液管；9、第二进水管；10、观察管；11、第一搅拌器；15、第一加热夹套；25、第二加热夹套；31、第二搅拌器；32、放液管；60、第一进水阀；70、第一出液阀；71、第一抽液泵；72、过滤器；75、第一管道加热夹套；80、第二出液阀；81、第二抽液泵；82、取样支管；85、第二管道加热夹套；90、第二进水阀；320、放液阀；820、取样阀；100、卸渣阀。
具体实施方式
下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
本实用新型是一种ITO蚀刻用草酸溶液的配制装置，包括溶解装置1、缓存装置2和稀释装置3；溶解装置1内设有第一搅拌器11，溶解装置1的上端连接有进料管5和第一进水管6，第一进水管6上设有第一进水阀60；溶解装置1的下端与缓存装置2的上端连接有第一出液管7，第一出液管7上沿出液方向依次设有第一出液阀70、第一抽液泵71和过滤器72，缓存装置2的下端与稀释装置3的上端连接有第二出液管8，第二出液管8沿出液方向依次设有第二出液阀80和第二抽液泵81；稀释装置3的上端还连接有第二进水管9，第二进水管9上设有第二进水阀90，稀释装置3的下端设有放液管32，放液管上设有放液阀320；第一、第二进水管6、9各经第一、第二进水阀80、90与去离子水贮存装置4连接；溶解装置1外设有第一加热夹套15，缓存装置2外设有第二加热夹套25，第一出液管7设有第一管道加热夹套75；第二出液管8也设有第二管道加热夹套85。为了使稀释装置3混合均匀，稀释装置3内可以设有第二搅拌器31。
为了便于观察溶解装置1，溶解装置1的下端部设有观察机构。观察机构可以为至少有一截为透明材质的观察管10。观察机构设计为透明材质的管体的优点在于，管体结构易于安装连接。由于草酸晶体含有一定的杂质，可以设计为，观察管10的一端与溶解装置1连接，另一端为卸渣口，观察管10上设置有卸渣阀100。当溶解装置1底部在沉积未溶解草酸晶体的同时沉积了足够的不溶杂质时，可以通过可以开启卸渣阀100，使不溶杂质卸出。
还可以在第二出液管8还连接取样支管82；取样支管82设有取样口，取样支管82与第二出液管8的连接处至取样口之间设有取样阀820。
用上述配制装置配制ITO蚀刻用草酸溶液的方法包括以下步骤：
S1. 恒温溶解：将草酸晶体投料于溶解装置1中，并从第一进水管6往溶解装置1中通入去离子水，通过溶解装置1的第一加热夹套15加热溶解装置并恒温至40~80℃之间的某一溶解温度，并搅拌使草酸晶体以过饱和量溶解；
S2. 过滤缓存：将溶解装置1内过饱和溶解得到的草酸溶液在第一抽液泵71的作用下经过第一出液管7过滤，并调节第一管道加热夹套75，使第一出液管7内的溶液温度在不低于上述溶解温度；将过滤得到的滤液通入缓存装置2内，调节第二加热夹套25使缓存装置2的温度不低于上述溶解温度；
S3. 比例稀释：在不低于上述溶解温度情况下，将缓存装置2内的滤液在第二抽液泵81的作用下经第二出液管8通入稀释装置3中，并调节第二管道加热夹套85，使第二出液管8内的溶液温度在不低于上述溶解温度；并根据上述溶解温度下草酸晶体的溶解度和所需调配的草酸溶液浓度，从第二进水管9往稀释装置3中通入去离子水进行稀释，配制得到所需浓度的ITO蚀刻用草酸溶液。
常用的酸性配制管道为PP材质，从PP材质的耐温性考虑，最好步骤S1中将溶解装置1恒温至47~50℃。从提高生产能力、降低生产装置成本角度考虑，最好步骤S1中将溶解装置1恒温至50℃
第一、第二出液管7、8以及缓存装置2可以保持高于溶解装置内的溶解温度，以避免草酸晶体析出。不过最好是第一、第二出液管路7、8以及缓存装置28均保持与溶解装置1内的溶解温度相同的温度，以降低对第一、第二出液管7以及缓存装置2的材质要求。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种ITO蚀刻用草酸溶液的配制装置，其特征在于，所述配制装置包括溶解装置、缓存装置和稀释装置；溶解装置内设有第一搅拌器，溶解装置的上端连接有进料管和第一进水管，第一进水管上设有第一进水阀；溶解装置的下端与缓存装置的上端连接有第一出液管，第一出液管上沿出液方向依次设有第一出液阀、第一抽液泵和过滤器，所述缓存装置的下端与稀释装置的上端连接有第二出液管，第二出液管沿出液方向依次设有第二出液阀和第二抽液泵；稀释装置的上端还连接有第二进水管，第二进水管上设有第二进水阀，稀释装置的下端设有放液管，放液管上设有放液阀；第一、第二进水管各经第一、第二进水阀与去离子水贮存装置连接；所述溶解装置、缓存装置以及第一、第二出液管分别设有相应的加热夹套。
2.如权利要求1所述的配制装置，其特征在于，所述溶解装置的下端部设有观察机构。
3.如权利要求2所述的配制装置，其特征在于，所述观察机构为至少有一截为透明材质的管体，管体的一端与所述溶解装置连接，另一端为卸渣口，管体上设置有卸渣阀。
4.如权利要求1至3任意一项所述的配制装置，其特征在于，所述稀释装置内设有第二搅拌器。
5.如权利要求1至3任意一项所述的配制装置，其特征在于，所述第二出液管还连接有取样支管；取样支管设有取样口，取样支管与所述第二出液管连接处至所述取样口之间设有取样阀。
6.如权利要求1至3任意一项所述的配制装置，其特征在于，所述溶解装置为溶解罐，所述缓存装置为缓存罐，所述稀释装置为稀释罐；所述去离子水贮存装置为去离子水贮存槽。
7.如权利要求6所述的配制装置，其特征在于，所述去离子水贮存槽为高位槽。
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