CN203843665U - 一种机台以及研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种机台，用于承载基板，该机台包括底座和设置在所述底座上的第一支撑部、第二支撑部，所述第一支撑部和所述第二支撑部用于共同支撑所述基板，且所述第一支撑部和所述第二支撑部中的一个能够朝向或远离所述第一支撑部和所述第二支撑部中的另一个移动。相应地，本实用新型还提供一种研磨装置。本实用新型所提供的机台和研磨装置能够对不同尺寸的基板进行研磨。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃基板研磨领域，尤其涉及一种机台以及研磨装置。
背景技术
在液晶显示面板的生产过程中，进行切割完成后的玻璃基板的边角往往不规整，在弯曲等外力作用下容易产生破裂。因此，玻璃基板在切割完成后，通常需要对其边角进行研磨，使玻璃基板的边和角变得圆润光滑，能够更好的承受外力，从而加强玻璃基板的强度。
现有的玻璃研磨设备如图1所示，机台1用于承载玻璃基板，研磨机2用于研磨玻璃基板的各个边和角。现有的玻璃研磨设备中，机台通常和玻璃基板的尺寸对应，如果需要研磨不同尺寸的玻璃基板，则需要更换对应尺寸的机台。因此，当需要研磨较多不同尺寸的玻璃基板时，需要制备数量繁多的机台，耗资较多，且更换机台时需要拆卸旧机台，之后安装新机台并进行调整，工序繁琐，费时费力。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种机台以及研磨装置，以能够对不同尺寸的基板进行研磨。
为实现上述目的，本实用新型提供一种机台，用于承载基板，所述机台包括底座和设置在所述底座上的第一支撑部、第二支撑部，所述第一支撑部和所述第二支撑部用于共同支撑所述基板，且所述第一支撑部和所述第二支撑部中的一个能够朝向或远离所述第一支撑部和所述第二支撑部中的另一个移动。
优选地，所述底座上还设置有第三支撑部，所述第一支撑部和所述第二支撑部设置在所述第三支撑部的相对的两侧，所述第一支撑部和所述第二支撑部能够朝向或远离所述第三支撑部移动。
优选地，所述机台还包括电机，所述电机的输出轴与所述第三支撑部连接，用于带动所述第三支撑部旋转。
优选地，所述第一支撑部、所述第二支撑部和所述第三支撑部中的至少一个上设置有吸盘，用于吸附所述基板。
优选地，所述底座上还设置有升降件，所述升降件与所述第三支撑部连接，用于带动所述第三支撑部上下移动。
优选地，所述底座上还设置有升降件，所述升降件与所述第一支撑部和第二支撑部连接，用于带动所述第一支撑部和所述第二支撑部上下移动。
优选地，所述升降件包括活塞缸。
优选地，所述底座上还设置有滑轨，所述第一支撑部和所述第二支撑部设置在所述滑轨上，所述第一支撑部和所述第二支撑部能够沿所述滑轨移动。
优选地，所述机台还包括驱动机构，所述驱动机构用于带动所述第一支撑部和所述第二支撑部沿所述滑轨移动。
相应地，本实用新型还提供一种研磨装置，包括研磨机和机台，所述机台为上述本实用新型所提供的机台。
可以看出，本实用新型通过在底座上设置第一支撑部和第二支撑部，并通过调节两者之间的距离，使得在支撑不同尺寸的基板时，均能使基板的边缘超过第一支撑部和第二支撑部共同组成的支撑面的相对的两个边一定距离，从而能够对不同尺寸的基板进行研磨。本实用新型还可以在底座上设置可上下移动并且可旋转的第三支撑部，能够便捷地带动基板旋转，从而能够对基板的各个边均进行研磨。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1为现有的研磨装置及机台示意图；
图2为本实用新型实施例所提供的机台示例图；
图3为本实用新型实施例所提供的机台底座示例图；
附图标记说明
1-机台；2、30-研磨机；10-底座；11-滑轨；12-支撑杆；21-第一支撑部；22-第二支撑部；23-第三支撑部。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。
作为本实用新型的一个方面，提供一种机台，该机台可以用于在研磨装置中承载基板，以使研磨机能够对基板的边和角进行研磨。具体地，如图1至图3所示，该机台可以包括底座10，以及设置在底座10上的第一支撑部21和第二支撑部22，该第一支撑部21和第二支撑部22可以用于共同支撑基板，并且第一支撑部21和第二支撑部22中的一个能够朝向或远离第一支撑部21和第二支撑部22中的另一个移动。
现有的研磨设备的机台中，机台的尺寸和基板的尺寸相对应，使得将基板放置在机台上后，基板的边缘能够超过机台的边缘一定尺寸，从而使得研磨机能够对基板的边和角进行研磨。然而当需要研磨不同尺寸的玻璃基板，则需要更换对应尺寸的机台，耗费成本，且工序繁琐。
上述本实用新型所提供的机台中，设置在底座10上的第一支撑部21和第二支撑部22能够共同支撑基板，且第一支撑部21和第二支撑部22中的一个能够朝向或远离另一个移动，从而在承载不同尺寸的基板时，能够调节第一支撑部21和第二支撑部22共同组成的支撑面的相对两个边的距离，使得基板的边沿能够超过第一支撑部21和第二支撑部22共同组成的支撑面的边沿特定的距离，以使研磨机30能够对基板的边和角进行研磨。可见，本实用新型所提供的机台能够应用于不同尺寸的基板，与现有技术相比，显著减少了成本，简化了工序。
可以理解的是，应用上述本实用新型所提供的机台对基板进行研磨时，可以先对基板超过第一支撑部21和第二支撑部22共同组成的支撑面的相对的两边进行研磨，之后可以旋转基板，对其余两边进行研磨。
更进一步地，如图2所示，底座上还可以设置有第三支撑部23，第一支撑部21和第二支撑部22设置在第三支撑部23的相对的两侧，且第一支撑部21和第二支撑部22能够朝向或远离所述第三支撑部23移动。具体地，可以在底座10的中部上设置第三支撑部23，将第一支撑部21和第二支撑部22设置在第三支撑部23的相对的两侧，并使第一支撑部21和第二支撑部22能够朝向或远离第三支撑部23移动。采用上述结构，可以通过第一支撑部21、第二支撑部22和第三支撑部23组成的支撑面更加稳定的支撑基板。
更进一步地，本实用新型的所提供的机台还可以包括电机，该电机的输出轴可以与第三支撑部23连接，用于带动第三支撑部23旋转。具体地，电机可以设置在第三支撑部23下方，其输出轴与第三支撑部23连接，以带动第三支撑部23旋转。采用上述结构，可以在对基板研磨时，完成初始两个边的研磨后，通过第三支撑部23带动基板旋转，对其余两个边进行研磨。
更进一步地，第一支撑部21、第二支撑部22和第三支撑部23中的至少一个上可以设置有吸盘，用于吸附基板。具体地，可以在第一支撑部21、第二支撑部22和第三支撑部23上均设置能够吸附基板的吸盘，从而更加稳定地固定基板。
更进一步地，底座10上还可以设置有升降件，该升降件可以与第三支撑部23连接，以用于带动第三支撑部23上下移动。具体地，可以在底座10上设置升降件，以使第三支撑部23能够更加便捷地带动基板旋转。研磨时，可以先调整第一支撑部21和第二支撑部22间的距离，并对露出的基板的相对的两边以及四个角进行研磨，之后，可以上升第三支撑部23，从而使得基板与第一支撑部21和第二支撑部22分离，可以将第三支撑部23旋转90°（或-90°）后，下降第三支撑部23，再次将基板放置在第一支撑部21和第二支撑部22上，并对基板上剩余的两边进行研磨。可以理解的是，该升降件可以配合上述电机使用。
现有的机台通常是旋转整个底座来带动基板旋转，从而对基板上不同的边进行研磨，这样导致底座加工较为复杂。上述本实用新型所提供的结构，通过电机以及升降件即可实现对基板的旋转，较为便捷。
更进一步地，底座10上还可以设置有升降件，该升降件可以与第一支撑部21和第二支撑部22连接，用于带动第一支撑部21和第二支撑部22上下移动。即，可以通过升降件带动第三支撑部23上下移动，或者，也可以采用上述结构，通过升降件带动第一支撑部21和第二支撑部22上下移动。若采用上述结构，在需要旋转基板时，可以下降第一支撑部21和第二支撑部22，使得基板与第一支撑部21和第二支撑部22分离，通过第三支撑部23带动基板旋转后，再升起第一支撑部21和第二支撑部22，使得第一支撑部21和第二支撑部22再次支持基板。
更进一步地，上述带动第三支撑部23上下移动，或者带动第一支撑部21和第二支撑部22上下移动的升降件可以包括活塞缸，即，可以通过活塞缸带动第三支撑部23上下移动，或者带动第一支撑部21和第二支撑部22上下移动。该活塞缸可以为气缸，也可以为液缸。
更进一步地，如图3所示，底座上还可以设置有滑轨11，第一支撑部21和第二支撑部22可以设置在滑轨11上，使得第一支撑部21和第二支撑部22能够沿滑轨11移动。具体地，可以在滑轨11上设置支撑杆12，并将第一支撑部21和第二支撑部22设置在支撑杆12上。采用上述结构，可以稳定地控制第一支撑部21或第二支撑部22移动，从而能够稳定调节第一支撑部21和第二支撑部22共同组成的支撑面的相对两个边的距离，以对应不同尺寸的基板。
更进一步地，本实用新型所提供的机台还可以包括驱动机构，该驱动机构可以用于带动第一支撑部21和第二支撑部22沿滑轨移动。具体地，该驱动机构可以包括电机以及对应的齿轮和皮带结构，以能够带动第一支撑部21和第二支撑部22沿滑轨移动。采用上述驱动机构，能够更加精确稳定地控制第一支撑部21和第二支撑部22的移动。
作为本实用新型的再一方面，提供一种研磨装置，如图2所示，该研磨装置包括研磨机30和上述本实用新型所提供的机台。
上述为对本实用新型所提供的机台以及研磨装置进行的描述，可以看出，本实用新型通过在底座上设置第一支撑部和第二支撑部，并通过调节两者之间的距离，使得在支撑不同尺寸的基板时，均能使基板的边缘超过第一支撑部和第二支撑部共同组成的支撑面的相对的两个边一定距离，从而能够对不同尺寸的基板进行研磨。本实用新型还可以在底座上设置可上下移动并且可旋转的第三支撑部，能够便捷地带动基板旋转，从而能够对基板的各个边均进行研磨。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种机台，用于承载基板，其特征在于，所述机台包括底座和设置在所述底座上的第一支撑部、第二支撑部，所述第一支撑部和所述第二支撑部用于共同支撑所述基板，且所述第一支撑部和所述第二支撑部中的一个能够朝向或远离所述第一支撑部和所述第二支撑部中的另一个移动。
2.根据权利要求1所述的机台，其特征在于，所述底座上还设置有第三支撑部，所述第一支撑部和所述第二支撑部设置在所述第三支撑部的相对的两侧，所述第一支撑部和所述第二支撑部能够朝向或远离所述第三支撑部移动。
3.根据权利要求2所述的机台，其特征在于，所述机台还包括电机，所述电机的输出轴与所述第三支撑部连接，用于带动所述第三支撑部旋转。
4.根据权利要求2所述的机台，其特征在于，所述第一支撑部、所述第二支撑部和所述第三支撑部中的至少一个上设置有吸盘，用于吸附所述基板。
5.根据权利要求2所述的机台，其特征在于，所述底座上还设置有升降件，所述升降件与所述第三支撑部连接，用于带动所述第三支撑部上下移动。
6.根据权利要求1所述的机台，其特征在于，所述底座上还设置有升降件，所述升降件与所述第一支撑部和第二支撑部连接，用于带动所述第一支撑部和所述第二支撑部上下移动。
7.根据权利要求5或6所述的机台，其特征在于，所述升降件包括活塞缸。
8.根据权利要求1至6中任意一项所述的机台，其特征在于，所述底座上还设置有滑轨，所述第一支撑部和所述第二支撑部设置在所述滑轨上，所述第一支撑部和所述第二支撑部能够沿所述滑轨移动。
9.根据权利要求8所述的机台，其特征在于，所述机台还包括驱动机构，所述驱动机构用于带动所述第一支撑部和所述第二支撑部沿所述滑轨移动。
10.一种研磨装置，包括研磨机和机台，其特征在于，所述机台为权利要求1至9中任意一项所述的机台。
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Cited By (1)
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- 2014-03-11 CN CN201420108358.1U patent/CN203843665U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
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| US20170113318A1 (en) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Grinding table apparatus, liquid crystal display glass grinder and grinding method |
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