CN203787400U - 半导体晶片清洗花篮 - Google Patents

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CN203787400U CN201420217925.7U CN201420217925U CN203787400U CN 203787400 U CN203787400 U CN 203787400U CN 201420217925 U CN201420217925 U CN 201420217925U CN 203787400 U CN203787400 U CN 203787400U
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陆晓东
张鹏
周涛
赵洋
王泽来
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Abstract

一种半导体晶片清洗花篮,包括晶片陈放架和两个对称设置在晶片陈放架两侧的组合挡板,所述晶片陈放架是由底座、对称设于底座两侧的侧支架构成,所述底座上沿轴向方向设有多个晶片槽,所述侧支架是由平行于底座的横杆和两个顶部向上倾斜的立杆构成,立杆的内侧由上至下分别设有多个卡槽,所述两组侧支架上设有与卡槽相对应的晶片固定条,所述横杆与立杆的连接处设有轴孔,所述组合挡板是由压板手柄、顶部向内倾斜的斜支臂、轴套和搅动板构成,两个压板手柄之间设有弹簧,所述晶片陈放架和组合挡板通过设于轴套与轴孔之间的连接轴连接。该半导体晶片清洗花篮具有晶片篮静止、清洗液流动,避免晶片清洗过程损坏,节约成本,可保证清洗效果的优点。

Description

半导体晶片清洗花篮
技术领域
本实用新型涉及一种具有搅拌功能的半导体工艺各步骤中实验用半导体晶片清洗花篮。
背景技术
晶片清洗是半导体晶片工艺加工中最常使用的工艺步骤。晶片清洗采用晶片清洗槽,晶片清洗的主要作用包括:获得清洁的晶片表面(如去除附着在晶片表面的原子、离子、分子、有机沾污或颗粒)、晶片抛光和晶片定向腐蚀。晶片清洗过程中,晶片表面的溶液浓度不断降低,反应速率将逐渐下降,从而严重影响清洗工艺的质量。为确保晶片清洗的质量,需要使反应槽中的溶液处于不断流动的状态,从而带动晶片表面溶液的流动,补充反应液浓度的消耗,获得一致的反应过程。
现有的半导体晶片清洗装置为以下三种结构:第一种结构是由清洗槽本体、设置在清洗槽本体内的晶片花篮和设在清洗槽本体下部的氮气输入装置构成。清洗时,在清洗槽本体内加入清洗液,晶片花篮内放入晶片,通过输入氮气使清洗槽中清洗液产生自下而上的搅动,进行清洗晶片。这种结构存在的问题是:在清洗晶片时需要清洗二十分钟左右,利用氮气成本高。第二种结构由清洗槽本体、设置在清洗槽本体内的晶片花篮和设有一个用于提拉晶片花篮的提拉装置构成。清洗时在清洗槽本体内加入清洗液,晶片花篮内放入晶片,利用人工提拉晶片花篮,使晶片花篮上下运动。这种结构存在的问题是:利用人工提拉晶片花篮,晶片花篮上下运动距离、液体流动的方向和速度很难控制,清洗过程中易发生机械碰撞和承受很大的应力,导致晶片的破损,造成晶片清洗过程中成品率的降低。第三种结构由清洗槽本体和晶片花篮构成。在清洗时,在清洗槽本体内加入清洗液,在清洗槽本体内放入晶片花篮,晶片花篮内放入晶片,通过浸泡来清洗晶片,晶片花篮静止会造成晶片表面反应不均匀,且清洗掉的沾污物质,很可能重新附着到晶片表面,产生二次沾污的问题。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种晶片篮静止、清洗液流动,避免晶片清洗过程损坏,节约成本,可保证清洗效果的半导体晶片清洗花篮。
本实用新型的技术解决方案是:
一种半导体晶片清洗花篮,其特殊之处是:包括晶片陈放架和两个对称设置在晶片陈放架两侧的组合挡板,所述晶片陈放架是由底座、对称设于底座两侧的侧支架构成,所述底座上沿轴向方向设有多个彼此对应的晶片槽,所述侧支架是由平行于底座的横杆和两个顶部向上倾斜的立杆构成,所述立杆的内侧由上至下分别设有多个卡槽,所述两组侧支架上设有与卡槽相对应的晶片固定条,所述横杆与立杆的连接处设有轴孔,所述组合挡板是由由上至下设置的压板手柄、顶部向内倾斜的斜支臂、轴套和搅动板构成,两个压板手柄之间设有弹簧,所述晶片陈放架和组合挡板通过设于轴套与轴孔之间的连接轴连接。
本实用新型的有益效果是:
半导体晶片花蓝内的晶片位置通过晶片固定条固定,通过手压压板手柄人工控制组合挡板来回搅拌清洗液体,使清洗液体稳定流动,代替了氮气输入装置,节约成本,这种结构有效避免晶片花篮静止过程中的反应速率不均匀和提拉晶片花篮过程中产生碰撞,以及防止晶片在清洗过程中与晶片清洗液体发生反应使晶片表面产生气泡,受到气泡的浮力时晶片脱离晶片卡槽影响清洗效果,避免晶片直接受到清洗液体的浮力使其脱离晶片卡槽影响晶片清洗效果,从而保证了清洗过程中的清洗效果和成品率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是图1的左视图;
图3是图1中组合挡板的结构示意图;
图4是体1中晶片陈放架的结构示意图;
图5是图1中晶片固定条的结构示意图。
图中:1-组合挡板,101-压板手柄,102-斜支臂,103-轴套,104-搅动板,2-晶片陈放架,201-底座,201a-晶片槽,202-立杆,202a-卡槽,203-横杆,204-轴孔,3-连接轴,4-晶片固定条,5-弹簧。
具体实施方式
如图所示,本实用新型涉及的半导体晶片清洗花篮,包括晶片陈放架2和两个对称设置在晶片陈放架2两侧的组合挡板1,所述晶片陈放架2是由底座201、对称设于底座201两侧的侧支架构成,所述底座201上沿轴向方向设有多个彼此对应的晶片槽201a,所述侧支架是由平行于底座的横杆203个和两个顶部向上倾斜的立杆202构成,所述立杆202的内侧由上至下分别设有多个卡槽202a,所述两组侧支架上设有与卡槽202a相对应的晶片固定条4,所述横杆203与立杆202的连接处设有轴孔204,所述组合挡板1是由由上至下设有的压板手柄101、顶部向内倾斜的斜支臂102、轴套103和搅动板104构成,所述两个压板手柄101之间设有弹簧5,所述晶片陈放架2和组合挡板1通过设于轴套103与轴孔204之间的连接轴3连接。
操作时,将半导体晶片放入晶片陈放架2的卡槽202a内,利用晶片固定条4将晶片固定,人工控制压板手柄101来回搅拌清洗液体,使清洗液体稳定流动,进行清洗半导体晶片的操作。

Claims (1)

1.一种半导体晶片清洗花篮,其特征是:包括晶片陈放架和两个对称设置在晶片陈放架两侧的组合挡板,所述晶片陈放架是由底座、对称设于底座两侧的侧支架构成,所述底座上沿轴向方向设有多个彼此对应的晶片槽,所述侧支架是由平行于底座的横杆和两个顶部向上倾斜的立杆构成,所述立杆的内侧由上至下分别设有多个卡槽,所述两组侧支架上设有与卡槽相对应的晶片固定条,所述横杆与立杆的连接处设有轴孔,所述组合挡板是由由上至下设置的压板手柄、顶部向内倾斜的斜支臂、轴套和搅动板构成,两个压板手柄之间设有弹簧,所述晶片陈放架和组合挡板通过设于轴套与轴孔之间的连接轴连接。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019148534A1 (zh) * 2018-02-01 2019-08-08 通威太阳能(合肥)有限公司 一种具有搅拌功能的半导体清洗反应槽

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