CN203715790U - 一种多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室 - Google Patents
一种多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型提供一种多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室,其包括硅锭冷却室和坩埚存放室,所述硅锭冷却室和坩埚存放室之间通过若干传热风机连接,所述坩埚存放室内放置有若干坩埚放置台,所述坩埚存放室的墙壁上设置有除湿机。所述硅锭冷却室和坩埚存放室内部都设置有温度感应器和湿度感应器,并且都设置有进门和出门。本实用新型的有益效果是:由于采用上述技术方案,坩埚存放室达到一定的温度和湿度,使坩埚与涂层结合更加致密,减少粘埚现象,降低硅锭中的杂质,进而提高硅锭利用率。由于坩埚存放室是封闭的空间,减少灰尘和其他杂质进入坩埚内部,进而减少硅锭中的杂质。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室。
背景技术
在生产晶体硅太阳能电池时,会经过铸锭工艺,将硅料融化铸成硅锭,而盛放硅料至加热融化的是坩埚,坩埚内表面喷涂一层氮化硅溶液,使得表面形成一层保护层,从而在硅料融化过程中防止硅料向坩埚渗透,防止坩埚中的杂质渗透到硅锭中,减少粘埚,保证硅锭利用率。目前涂层的烘干采用坩埚洪箱或者旋转加热器,通过电能转化为热能,对涂层进行除湿,达到涂层烘干的目的。但其电能损耗很大,造成极大的浪费;由于烘烤完的坩埚是放在普通的环境下,当湿度相对较大的情况下储存坩埚会造成涂层与坩埚的致密程度下降,造成粘埚现象,降低了硅锭的利用率;并且由于储存的环境不是密闭的,灰尘和替他杂质会进入坩埚内部,增加硅锭中的杂质。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种有效烘干坩埚涂层、节能环保的多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室。
本实用新型的技术方案是:一种多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室,其包括硅锭冷却室和坩埚存放室,所述硅锭冷却室和坩埚存放室之间通过若干传热风机连接,所述坩埚存放室内放置有若干坩埚放置台,所述坩埚存放室的墙壁上设置有除湿机。
优选地,所述硅锭冷却室和坩埚存放室内部都设置有温度感应器和湿度感应器,并且都设置有进门和出门。
优选地,所述硅锭冷却室和坩埚存放室的墙壁由保温材料制成。
优选地,所述坩埚存放室的进门和出门都为上下推拉门。
本实用新型具有的优点和积极效果是:
由于采用上述技术方案,采用出炉的硅锭余热代替坩埚烘箱或者旋转加热器释放的能量,从而达到烘烤坩埚涂层的目的,而且节约坩埚烘箱或旋转加热器的能源消耗,达到了节能环保,避免能源浪费。利用除湿机去除干燥室的湿气,使坩埚存放室达到一定的温度和湿度,达到坩埚涂层除湿的作用,使坩埚与涂层结合更加致密,减少粘埚现象,降低硅锭中的杂质,进而提高硅锭利用率。由于坩埚存放室是封闭的空间,减少灰尘和其他杂质进入坩埚内部,进而减少硅锭中的杂质。具有烘干、除湿、储存坩埚、降低硅锭杂质的作用。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施方式中的附图,对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分表现形式,而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型,但是本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的况下做类似推广,因此本实用新型不受下面公开的具体实施方式的限制。
其次,本实用新型结合示意图进行详细描述,在详述本实用新型实施方式时,为便于说明,表示装置件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大,而且所述示意图只是示例,其在此不应限制本实用新型保护的范围。此外,在实际制作中应包含长度、宽度及高度的三维空间尺寸。
如图1所示,本实用新型包括墙壁由保温材料制成的硅锭冷却室1和坩埚存放室2,保温材料制成的墙壁可以避免热量散发所造成的能量损失,所述硅锭冷却室1和坩埚存放室2之间通过若干传热风机3连接,所述坩埚存放室2内放置有若干坩埚放置台4,所述坩埚存放室2的墙壁上设置有除湿机5。所述硅锭冷却室1和坩埚存放室2内部都设置有温度感应器和湿度感应器,并且都设置有上下推拉门的进口和出口。
使用时,把刚出炉的硅锭(400℃左右)放置在所述硅锭冷却室1中,所述传热风机3将所述硅锭冷却室1的热量传送到所述坩埚存放室2,在所述硅锭冷却室1的温度降低的同时,使所述坩埚存放室2的温度达到60-150℃,利用除湿机保证其湿度为40%以下;将刚喷涂完的坩埚放置在所述坩埚放置台4上,经过在所述坩埚存放室2内部两个小时以上的存放,可以增加涂层致密性,然后就可以进行下一道工序。
所述坩埚存放室2还具有长时间存储带有涂层坩埚的功能,避免了由于在普通环境中存放坩埚,湿度对其涂层所造成的影响,使其涂层致密度降低。坩埚存放在一个封闭的环境中,也可以减少了外界灰尘和其他杂质对涂层的影响。
本实用新型减少粘埚几率,降低硅锭中的杂质,进而提高硅锭利用率。具有烘干、除湿、储存坩埚、降低硅锭杂质的作用。
以上实施方式对本实用新型进行了详细说明,但所述内容仅为本实用新型的较佳实施方式,不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
Claims (4)
1.一种多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室,其特征在于:包括硅锭冷却室(1)和坩埚存放室(2),所述硅锭冷却室(1)和坩埚存放室(2)之间通过若干传热风机(3)连接,所述坩埚存放室(2)内放置有若干坩埚放置台(4),所述坩埚存放室(2)的墙壁上设置有除湿机(5)。
2.根据权利要求1所述的多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室,其特征在于:所述硅锭冷却室(1)和坩埚存放室(2)内部都设置有温度感应器和湿度感应器,并且都设置有进门和出门。
3.根据权利要求1或2所述的多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室,其特征在于:所述硅锭冷却室(1)和坩埚存放室(2)的墙壁由保温材料制成。
4.根据权利要求2所述的多晶硅坩埚涂层保护烘干存放室,其特征在于:所述坩埚存放室(2)的进门和出门都为上下推拉门。
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