CN203708646U - 一种基板强碱退洗槽 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种基板强碱退洗槽，包括架体、进水管，架体上焊接有三个槽体，强碱槽中放置有加热装置，强碱槽的宽度比浸泡槽的宽度宽，浸泡槽和强碱槽的高度一致，冲洗槽的高度比浸泡槽和强碱槽的高度低，强碱槽和浸泡槽中均设有卡槽，卡槽中放置有提升架，提升架由提手、底架、支撑架，所述底架安装在卡槽中，底架上固定有提手和复数个支撑架，复数个相邻的支撑架之间形成基板支撑槽，进水管上设有三个出水头，每个出水头分别三个槽体相对应。本实用新型能够长期使用对基板进行强碱退洗，提升架能够有效保护基板，防止药水进入、防止强碱溅射对人员造成伤害，结构简单但实用，节约经济，提高工作效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及用于基板生产的退洗槽，尤其涉及一种基板强碱退洗槽。
背景技术
印制电路板，又称印刷电路板、印刷线路板，简称印制板，常使用英文缩写PCB（Printed circuit board）或写PWB（Printed wire board），以绝缘板为基材，切成一定尺寸，其上至少附有一个导电图形，并布有孔（如元件孔、紧固孔、金属化孔等），用来代替以往装置电子元器件的底盘，并实现电子元器件之间的相互连接。由于这种板是采用电子印刷术制作的，故被称为“印刷”电路板。在一种电路板的生产过程中，需要对基板进行强碱退洗，一般的退洗槽多为铁制品，强碱对铁制品有强腐蚀性，设备损耗大，并不适用于对基板进行强碱退洗，而且批量退洗时，有些设备会使基板之间有接触、碰撞，也会对基板质量造成影响。
发明内容
为解决上述问题本实用新型提供能够长期使用对基板进行强碱退洗的一种基板强碱退洗槽。
本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：一种基板强碱退洗槽，包括架体、进水管，所述架体上焊接有三个槽体，分别为强碱槽、浸泡槽和冲洗槽，所述强碱槽中放置有加热装置，所述强碱槽的宽度比浸泡槽的宽度宽，所述浸泡槽和强碱槽的高度一致，所述冲洗槽的高度比浸泡槽和强碱槽的高度低，所述强碱槽和浸泡槽中均设有卡槽，所述卡槽中放置有提升架，所述提升架由提手、底架、支撑架，所述底架安装在卡槽中，所述底架上固定有提手和复数个支撑架，所述复数个相邻的支撑架之间形成基板支撑槽，所述进水管上设有三个出水头，所述每个出水头分别与强碱槽、浸泡槽和冲洗槽相对应。
进一步的，所述支撑架的数量为十一个，所述基板支撑槽的数量为十个。
进一步的，所述支撑架为半圆环体。
本实用新型的有益效果：本实用新型能够长期使用对基板进行强碱退洗，提升架能够有效保护基板，防止药水进入、防止强碱溅射对人员造成伤害，结构简单但实用，节约经济，提高工作效率。
附图说明
下面结合附图对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型提升架的结构示意图。
具体实施方式
如图1和图2所示的一种基板强碱退洗槽，包括架体1、进水管2，所述架体1上焊接有三个槽体，分别为强碱槽4、浸泡槽5和冲洗槽6，所述强碱槽4中放置有加热装置41，所述强碱槽4的宽度比浸泡槽5的宽度宽，所述浸泡槽5和强碱槽4的高度一致，所述冲洗槽6的高度比浸泡槽5和强碱槽6的高度低，所述强碱槽4和浸泡槽5中均设有卡槽7，所述卡槽7中放置有提升架8，所述提升架8由提手81、底架82、支撑架83，所述底架82安装在卡槽7中，所述底架82上固定有提手81和复数个支撑架83，所述复数个相邻的支撑架83之间形成基板支撑槽84，所述进水管2上设有三个出水头21，所述每个出水头21分别与强碱槽4、浸泡槽5和冲洗槽6相对应。
进一步的，所述支撑架83的数量为十一个，所述基板支撑槽84的数量为十个。
更进一步的，所述支撑架83为半圆环体。
需要强调的是，以上是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型在外观上作任何形式的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (3)
1.一种基板强碱退洗槽，包括架体（1）、进水管（2），其特征在于：所述架体（1）上焊接有三个槽体，分别为强碱槽（4）、浸泡槽（5）和冲洗槽（6），所述强碱槽（4）中放置有加热装置（41），所述强碱槽（4）的宽度比浸泡槽（5）的宽度宽，所述浸泡槽（5）和强碱槽（4）的高度一致，所述冲洗槽（6）的高度比浸泡槽（5）和强碱槽（6）的高度低，所述强碱槽（4）和浸泡槽（5）中均设有卡槽（7），所述卡槽（7）中放置有提升架（8），所述提升架（8）由提手（81）、底架（82）、支撑架（83），所述底架（82）安装在卡槽（7）中，所述底架（82）上固定有提手（81）和复数个支撑架（83），所述复数个相邻的支撑架（83）之间形成基板支撑槽（84），所述进水管（2）上设有三个出水头（21），所述每个出水头（21）分别与强碱槽（4）、浸泡槽（5）和冲洗槽（6）相对应。
2.根据权利要求1所述的一种基板强碱退洗槽，其特征在于：所述支撑架（83）的数量为十一个，所述基板支撑槽（84）的数量为十个。
3.根据权利要求1或2所述的一种基板强碱退洗槽，其特征在于：所述支撑架（83）为半圆环体。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN116525497A (zh) * | 2023-05-15 | 2023-08-01 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种引线框架卷式蚀刻工艺 |
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2014
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Cited By (2)
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| CN116525497A (zh) * | 2023-05-15 | 2023-08-01 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种引线框架卷式蚀刻工艺 |
| CN116525497B (zh) * | 2023-05-15 | 2023-09-29 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种引线框架卷式蚀刻工艺 |
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