CN203588247U - 触摸面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种触摸面板及显示装置，属于显示技术领域。其中，所述触摸面板包括位于基板上的第一透明导电层、位于所述第一透明导电层上的绝缘层和位于所述绝缘层上的第二透明导电层，其中，所述第一透明导电层包括有第一传感电极图形，第二透明导电层有包括第二传感电极图形，所述绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，使得所述第二传感电极图形的部分位于所述过孔中。通过本实用新型的技术方案，能够增加触摸面板的电容，提高触摸面板的抗干扰能力。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，特别是指一种触摸面板及显示装置。
背景技术
触摸屏(touch screen)又称为“触控屏”，是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌，极大的方便了人们的生活，是极富吸引力的全新多媒体交互设备。
触摸屏主要是通过触摸面板实现触摸功能，如图1-图4所示，现有的触摸面板包括设置在基板上的多排沿第一方向的第一传感电极图形Rx1以及多排沿第二方向的第二传感电极图形Tx2，其中，第一传感电极图形Rx1用作接收信号线，第二传感电极图形Tx2用作发射信号线，第一传感电极图形Rx1和第二传感电极图形Tx2之间通过绝缘层进行隔离，两者之间形成一个固有电容，发射信号线给出信号以后，接收信号线通过收集固有电容上的电压信号，进行触摸感应：如果外界有触摸产生，固有电容会并入一个对地的触摸电容，接收信号线收集到的电压信号会有所不同，由此来判断哪一点发生了触摸。
发射信号线和接收信号线之间的电容大小决定了触摸面板的触摸精度和抗干扰能力，但是现有触摸面板发射信号线和接收信号线之间的电容有限，使得触摸面板的抗干扰能力不是很强。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种触摸面板及显示装置，能够增加触摸面板的电容，提高触摸面板的抗干扰能力。
为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供技术方案如下：
一方面，提供一种触摸面板，包括位于基板上的第一透明导电层、位于所述第一透明导电层上的绝缘层和位于所述绝缘层上的第二透明导电层，其中，所述第一透明导电层包括有第一传感电极图形，第二透明导电层有包括第二传感电极图形，所述绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，使得所述第二传感电极图形的部分位于所述过孔中。
进一步地，所述过孔与所述第一传感电极图形不相接触。
进一步地，所述触摸面板具体包括：
位于所述基板上由第一透明导电层形成的所述第一传感电极图形；
位于所述第一传感电极图形上的包括有过孔的绝缘层的图形；
位于所述绝缘层上的由第二透明导电层形成的所述第二传感电极图形。
进一步地，所述第一透明导电层还包括对应所述过孔的第三导电图形。
进一步地，所述触摸面板具体包括：
位于所述基板上由第一透明导电层形成的所述第一传感电极图形和所述第三导电图形；
位于所述第一传感电极图形和所述第三导电图形上的包括有过孔的绝缘层的图形；
位于所述绝缘层上的由第二透明导电层形成的所述第二传感电极图形，所述第三导电图形通过所述过孔与所述第二传感电极图形相连。
本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的触摸面板。
本实用新型的实施例具有以下有益效果：
上述方案中，第一传感电极图形和第二传感电极图形之间的绝缘层并不是完整的一层，绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，这样可以使得部分第二传感电极图形落入绝缘层的过孔中，增大第一传感电极图形与第二传感电极图形之间的互容，提高触摸面板的抗干扰能力。
附图说明
图1为现有触摸面板第一传感电极图形和第二传感电极图形的示意图；
图2为现有触摸面板第一传感电极图形和第二传感电极图形的局部示意图；
图3为图2中A-A’的截面示意图；
图4为图2中B-B’的截面示意图；
图5为本实用新型实施例触摸面板第一传感电极图形和第二传感电极图形的局部示意图；
图6为本实用新型一实施例图5中A-A’的截面示意图；
图7为本实用新型一实施例图5中B-B’的截面示意图；
图8为本实用新型另一实施例图5中A-A’的截面示意图；
图9为本实用新型另一实施例图5中B-B’的截面示意图。
附图标记
1 第一传感电极图形 2 第二传感电极图形
3 过孔 4 第三导电图形
具体实施方式
为使本实用新型的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本实用新型的实施例提供一种触摸面板及显示装置，能够增加触摸面板的电容，提高触摸面板的抗干扰能力。
本实用新型实施例提供了一种触摸面板，包括位于基板上的第一透明导电层、位于所述第一透明导电层上的绝缘层和位于所述绝缘层上的第二透明导电层，所述第一透明导电层包括有第一传感电极图形，第二透明导电层有包括第二传感电极图形，其中，所述绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，使得所述第二传感电极图形的部分位于所述过孔中。
本实用新型的触摸面板与现有技术不同，第一传感电极图形和第二传感电极图形之间的绝缘层并不是完整的一层，绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，这样可以使得部分第二传感电极图形落入绝缘层的过孔中，增大第一传感电极图形与第二传感电极图形之间的互容，从而提高触摸面板的抗干扰能力。
其中，绝缘层中的过孔与所述第一传感电极图形不相接触，这样第一传感电极图形不会通过过孔与第二传感电极图形连接，从而不会影响触摸面板的正常工作。
具体的，所述触摸面板包括：
位于所述基板上由第一透明导电层形成的所述第一传感电极图形；
位于所述第一传感电极图形上的包括有过孔的绝缘层的图形；
位于所述绝缘层上的由第二透明导电层形成的所述第二传感电极图形，所述第二传感电极图形的部分位于所述过孔内。
进一步地，所述第一透明导电层还包括对应所述过孔的第三导电图形，这样第二传感电极图形通过过孔与第三导电图形连接组成新的导电结构，该导电结构的厚度大于第二传感电极图形的厚度，从而进一步增加了触摸面板的边缘电容。
具体的，所述触摸面板包括：
位于所述基板上由第一透明导电层形成的所述第一传感电极图形和所述第三导电图形；
位于所述第一传感电极图形和所述第三导电图形上的包括有过孔的绝缘层的图形；
位于所述绝缘层上的由第二透明导电层形成的所述第二传感电极图形，所述第三导电图形通过所述过孔与所述第二传感电极图形相连。
本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的触摸面板。所述显示装置可以为液晶显示器、电子纸、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器等具有触摸功能的显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有触摸功能的产品或者部件。
本实用新型实施例还提供了一种触摸面板的制作方法，所述触摸面板包括位于基板上的第一透明导电层、位于所述第一透明导电层上的绝缘层和位于所述绝缘层上的第二透明导电层，其中，所述第一透明导电层包括有第一传感电极图形，第二透明导电层有包括第二传感电极图形，所述制作方法包括：在所述绝缘层对应所述第二传感电极图形的位置形成过孔，使得所述第二传感电极图形的部分位于所述过孔中。
本实用新型制作的触摸面板，与现有技术不同，第一传感电极图形和第二传感电极图形之间的绝缘层并不是完整的一层，绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，这样可以使得部分第二传感电极图形落入绝缘层的过孔中，增大第一传感电极图形与第二传感电极图形之间的互容，提高触摸面板的抗干扰能力。
进一步地，所述在所述绝缘层对应所述第二传感电极图形的位置形成过孔包括：在所述绝缘层对应所述第二传感电极图形且与所述第一传感电极图形不相接触的位置形成过孔。这样第一传感电极图形不会通过过孔与第二传感电极图形连接，从而不会影响触摸面板的正常工作。
具体的，所述制作方法包括：
在所述基板上沉积第一透明导电层，通过构图工艺形成所述第一传感电极图形；
在形成有所述第一传感电极图形的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺在对应所述第二传感电极图形的位置形成过孔；
在形成有过孔的绝缘层上沉积第二透明导电层，通过构图工艺形成所述第二传感电极图形。
进一步地，所述制作方法还包括：利用第一透明导电层形成对应所述过孔的第三导电图形。这样第二传感电极图形通过过孔与第三导电图形连接组成新的导电结构，该导电结构的厚度大于第二传感电极图形的厚度，从而进一步增加了触摸面板的边缘电容。
具体的，所述制作方法包括：
在所述基板上沉积第一透明导电层，通过构图工艺形成所述第一传感电极图形和所述第三导电图形；
在形成有所述第一传感电极图形的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺在对应所述第二传感电极图形的位置形成过孔；
在形成有过孔的绝缘层上沉积第二透明导电层，通过构图工艺形成所述第二传感电极图形，第三导电图形通过过孔与第二传感电极图形相连。
下面结合具体的实施例对本实用新型的触摸面板及其制作方法进行详细介绍：
实施例一
如图1-图4所示，现有的触摸面板中，第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间隔有绝缘层，在与基板垂直的方向上，第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间形成有互容；在其他方向上，第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间形成有边缘电容，所述互容和边缘电容组成了第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间的固有电容。为了提高触摸面板的抗干扰能力，本实施例在绝缘层对应第二传感电极图形2的位置制作过孔，能够增加第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间的固有电容。
具体的，本实施例的触摸面板的制作方法包括以下步骤：
步骤a：在基板上沉积第一透明导电层，通过构图工艺形成第一传感电极图形；
具体的，在基板上通过沉积的方式形成第一透明导电层，其中，第一透明导电层可以采用ITO或IZO，还可以采用ZnO(氧化锌)或AZO(参杂有铝的氧化锌)等。
在第一透明导电层上涂布光刻胶，利用掩膜板对涂布有光刻胶的第一透明导电层进行曝光和显影，若采用的光刻胶为正性光刻胶，显影后的光刻胶保留部分对应第一传感电极图形，其余部分的光刻胶被完全去除。刻蚀第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域，并去除剩余的光刻胶，形成第一透明导电层组成的第一传感电极图形。具体的，第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；还可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
步骤b：在形成有第一传感电极图形的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺在对应第二传感电极图形的位置形成过孔；
具体的，可以是在形成有所述第一传感电极图形的基板上经过沉积的方式形成绝缘层，其中，形成绝缘层的材料可以是氮的氧化物或硅的氧化物或SiNx（氮化硅）。
在绝缘层上涂布光刻胶，利用掩膜板对涂布有光刻胶的绝缘层进行曝光和显影，若采用的光刻胶为负性光刻胶，在与基板垂直的方向上，显影后的光刻胶保留部分对应第二传感电极图形，或者显影后的光刻胶保留部分包括第二传感电极图形但比第二传感电极图形略大，但显影后的光刻胶保留部分与第一传感电极图形不发生重叠，其余部分的光刻胶被完全去除。刻蚀绝缘层覆盖光刻胶的区域，形成包括有过孔的绝缘层的图形。具体的，绝缘层覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将绝缘层覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；还可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将绝缘层覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
步骤c：在形成有过孔的绝缘层上沉积第二透明导电层，通过构图工艺形成第二传感电极图形。
具体的，在基板上通过沉积的方式形成第二透明导电层，其中，第二透明导电层可以采用ITO或IZO，还可以采用ZnO或AZO等。
在第二透明导电层上涂布光刻胶，利用掩膜板对涂布有光刻胶的第二透明导电层进行曝光和显影，若采用的光刻胶为正性光刻胶，显影后的光刻胶保留部分对应第二传感电极图形，其余部分的光刻胶被完全去除。刻蚀第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域，并去除剩余的光刻胶，形成第二透明导电层组成的第二传感电极图形。具体的，第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；还可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
经过上述步骤即可形成如图5-图7所示的第一传感电极图形1和第二传感电极图形2，在与基板垂直的方向上，过孔3可以与第二传感电极图形2完全重合，也可以略大于第二传感电极图形2，但过孔3不会与第一传感电极图形1发生重叠。可以看出，第二传感电极图形2的部分落入绝缘层的过孔3中，这样第二传感电极图形2的部分与第一传感电极图形1位于同一层，可以增大第二传感电极图形2与第一传感电极图形1之间的互容，从而增加第二传感电极图形2与第一传感电极图形1之间的固有电容，提高触摸面板的抗干扰能力。
利用ismo软件模拟电容，如图1所示，设置T1、T2、T3、T4之间的间距为1500um，R1、R2、R3、R4之间的间距为1500um，A-A’间距60um（即图1中菱形图案从一边到相对的另一边的垂直距离），B-B’所在线宽50um，设置R2为主导体，计算得到R2与R1、R3以及T1、T2、T3、T4之间的电容为2.23pF；之后在绝缘层中设置过孔，得到如图5的结构，同样对电容进行模拟，得出R2与R1、R3以及T1、T2、T3、T4之间的电容为2.44pF，电容增加了9.4%。可以看出，通过本实用新型的技术方案，使得发射信号线和接收信号线之间的电容增加量为10%左右。
本实施例中，是将发射信号线制作在绝缘层的过孔中，同样的，根据工艺顺序的不同或者信号输入的方式不同，也可以将接收信号线制作于绝缘层的过孔之中。
实施例二
如图1-图4所示，现有的触摸面板中，第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间隔有绝缘层，在与基板垂直的方向上，第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间形成有互容；在其他方向上，第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间形成有边缘电容，所述互容和边缘电容组成了第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间的固有电容。为了提高触摸面板的抗干扰能力，本实施例在绝缘层对应第二传感电极图形2的位置制作过孔，能够增加第一传感电极图形1和第二传感电极图形2之间的固有电容。
具体的，本实施例的触摸面板的制作方法包括以下步骤：
步骤a：在基板上沉积第一透明导电层，通过构图工艺形成第一传感电极图形和第三导电图形；
具体的，在基板上通过沉积的方式形成第一透明导电层，其中，第一透明导电层可以采用ITO或IZO，还可以采用ZnO或AZO等。
在第一透明导电层上涂布光刻胶，利用掩膜板对涂布有光刻胶的第一透明导电层进行曝光和显影，若采用的光刻胶为正性光刻胶，显影后的光刻胶保留部分对应第一传感电极图形和第三导电图形，其余部分的光刻胶被完全去除，其中，第三导电图形与绝缘层的过孔相对应。刻蚀第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域，并去除剩余的光刻胶，形成第一透明导电层组成的第一传感电极图形和第三导电图形。具体的，第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；还可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将第一透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
步骤b：在形成有第一传感电极图形的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺在对应第二传感电极图形的位置形成过孔；
具体的，可以是在形成有所述第一传感电极图形的基板上经过沉积的方式形成绝缘层，其中，形成绝缘层的材料可以是氮的氧化物或硅的氧化物或SiNx。
在绝缘层上涂布光刻胶，利用掩膜板对涂布有光刻胶的绝缘层进行曝光和显影，若采用的光刻胶为负性光刻胶，在与基板垂直的方向上，显影后的光刻胶保留部分对应第二传感电极图形，或者显影后的光刻胶保留部分包括第二传感电极图形但比第二传感电极图形略大，但显影后的光刻胶保留部分与第一传感电极图形不发生重叠，其余部分的光刻胶被完全去除。刻蚀绝缘层覆盖光刻胶的区域，形成包括有过孔的绝缘层的图形。具体的，绝缘层覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将绝缘层覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；还可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将绝缘层覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
步骤c：在形成有过孔的绝缘层上沉积第二透明导电层，通过构图工艺形成第二传感电极图形。
具体的，在基板上通过沉积的方式形成第二透明导电层，其中，第二透明导电层可以采用ITO或IZO，还可以采用ZnO或AZO等。
在第二透明导电层上涂布光刻胶，利用掩膜板对涂布有光刻胶的第二透明导电层进行曝光和显影，若采用的光刻胶为正性光刻胶，显影后的光刻胶保留部分对应第二传感电极图形，其余部分的光刻胶被完全去除。刻蚀第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域，并去除剩余的光刻胶，形成第二透明导电层组成的第二传感电极图形。具体的，第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；还可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将第二透明导电层未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
经过上述步骤即可形成如图5、图8和图9所示的第一传感电极图形1和第二传感电极图形2，在与基板垂直的方向上，过孔3可以与第二传感电极图形2完全重合，也可以略大于第二传感电极图形2，但过孔3不会与第一传感电极图形1发生重叠。可以看出，第二传感电极图形2的部分通过绝缘层的过孔3与第三传感图形4连接组成新的导电结构，该导电结构的部分与第一传感电极图形1位于同一层，可以增大第二传感电极图形2与第一传感电极图形1之间的互容；另外该导电结构的厚度大于第二传感电极图形2的厚度，可以增加第二传感电极图形2与第一传感电极图形1之间的边缘电容，综上所述，本实施例能够增加第二传感电极图形2与第一传感电极图形1之间的固有电容，提高触摸面板的抗干扰能力。
本实施例中，是先形成接收信号线再形成发射信号线，同样的，根据工艺顺序的不同或者信号输入的方式不同，也可以先形成发射信号线再形成接收信号线。
以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种触摸面板，包括位于基板上的第一透明导电层、位于所述第一透明导电层上的绝缘层和位于所述绝缘层上的第二透明导电层，其中，所述第一透明导电层包括有第一传感电极图形，第二透明导电层有包括第二传感电极图形，其特征在于，所述绝缘层在对应所述第二传感电极图形的位置设置有过孔，使得所述第二传感电极图形的部分位于所述过孔中。
2.根据权利要求1所述的触摸面板，其特征在于，所述过孔与所述第一传感电极图形不相接触。
3.根据权利要求2所述的触摸面板，其特征在于，所述触摸面板具体包括：
位于所述基板上由第一透明导电层形成的所述第一传感电极图形；
位于所述第一传感电极图形上的包括有过孔的绝缘层的图形；
位于所述绝缘层上的由第二透明导电层形成的所述第二传感电极图形。
4.根据权利要求2或3所述的触摸面板，其特征在于，所述第一透明导电层还包括对应所述过孔的第三导电图形。
5.根据权利要求4所述的触摸面板，其特征在于，所述触摸面板具体包括：
位于所述基板上由第一透明导电层形成的所述第一传感电极图形和所述第三导电图形；
位于所述第一传感电极图形和所述第三导电图形上的包括有过孔的绝缘层的图形；
位于所述绝缘层上的由第二透明导电层形成的所述第二传感电极图形，所述第三导电图形通过所述过孔与所述第二传感电极图形相连。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的触摸面板。
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| CX01 | Expiry of patent term |
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