CN203530423U - 用于在真空处理设施中进行气体分离的设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及用于在真空处理设施中进行气体分离的设备。所述设备被设置为如下形式的气体流动有效的流动阻力:所述形式为在设施的其中能调节真空中的至少不同的压力的两个区域之间的把基板传送围住的横截面的纵向延伸的收缩部。并且所述设备具有:隧道,作为用于经过基板的收缩部;间壁,其横向于基板传送地在外部围住隧道并且与真空室的内部室壁相连接,使得在隧道之内在基板传送中或者与基板传送相反地设置透气;以及至少一个被称为传送装置的用于基板传送的装置,其在隧道之内构造用于承载基板和使基板运动的支承点。透气唯一地在隧道之内至少通过其纵向延伸部的部分被设置。传送装置和尤其是其驱动装置被安放为使得经过间壁的透气被抑制。

Description

用于在真空处理设施中进行气体分离的设备
技术领域
本实用新型涉及一种用于在真空处理设施中进行气体分离的设备。气体分离适于其中例如以连续流方法(Durchlaufverfahren)清洁和/或涂层、平坦地通常处理如玻璃板之类的矩形的盘式基板(Scheibensubstrate)的这种设施。该设备在这种情况下在连续的基板传送时支持在所述设施的位置相关的区域中的不同压力比。
背景技术
公知用于真空处理的方法、用于执行所述方法的设施和设备、以所谓的连续流方法工作的设施,并且也公知用于气体分离的设备。
等离子体刻蚀、溅射以及电子束蒸镀等属于真空处理的示例性代表。在其内部主要是次大气压的(subatmosphaerisch)压力比占主导的这样的设施首先由于其长度而由相互连接的真空室组成,所述长度可为直至100m。这些室在紧密连接的情况下可被抽真空直到高度真空和高真空(Feinvakuum),其中在几乎所有真空室中力求确切地说保持相同的真空。其例外情况是在该设施的输入处或者也在该设施的输出处的可选闸门,基板通过所述闸门到达该设施中或从该设施到达;空气对空气设施。
在用连续流方法进行真空处理的情况下,处理装置与该设施的各个区段固定关联,并且基板穿过处理装置运动。在此不重要的是,是否涉及如玻璃板之类的离散基板,或者也涉及如金属带或者薄膜之类的所谓的无穷的基板(Endlossubstrate)。对于后者不一定要求连续的入闸和出闸,因为为此也提供以所谓的批处理(Batch)方法进行处理,在批处理方法的情况下,基板储备在处理之前和之后整体地被带入到该设施中或被带出该设施。
针对用于所阐明的连续流方法的方法和设备已发现如下用于气体分离的设备,所述用于气体分离的设备基本上必须满足功能区域的气体解耦的功能。后者意指其中设置处理的区域(处理区域(Prozessbereich)),但是其中也设置基板的闸门的区域(闸门区域和输送区域)。“气体解耦”要被理解为在这些区域中要可调整不同的压力和/或尽最大可能地抑制气体、颗粒或者灰尘形式的材料的传输。这样使对工艺的高技术要求成为需要的,以便将处理的质量保持得高,但是这种也归功于如下事实:该设施形成所包含的真空容器,在所述真空容器中压力的在空间上可关联的变化紧靠技术边界。在概念上,处理气体包括通入到该室中的并且必要时反应性形成的气体以及所述的颗粒等。
简化地示出,在两个功能区域之间,基板通过尽可能窄的和长的隧道(Tunnel)在气体分离装置中被引导,以便在这些区域之间构造流动阻力,其中在其他情况下在这些区域之间的透气应是不可能的。在图1中示意性地描绘了根据现有技术的具有隧道6、基板4和此处仅局部示出的间壁7的这种设备1。基板4在传送方向20上穿过这种狭道运动。在隧道的内部横截面旁边,流动阻力按纵向延伸部19或者也简单地按隧道6的长度量定。
气体分离首先利用如下作用原理:连续地少量分配剂量的量的如氩气和/或氧气之类的气体被导入到处理区域中,并且连续工作的真空泵负责在处理区域中要保持尽可能恒定的所需的压力。为了掌握所需的压力差以及也掌握迁移材料的问题,不同的解决方案负责在隧道中、在隧道上或者从隧道中借助真空泵吸走以及将隧道和基板传送设计为尽可能最优。
在提出有效的气体分离时的技术边界不仅取决于隧道的形状(高度、宽度、长度)和取决于也要安放在隧道中的传送装置连同其驱动器(Antrieb),而且取决于气体的抽出和输送。泵功率和例如氩气的还在经济方面可认为正当合理的气体消耗限制后者。非常长地实施的隧道明显由设备长度以及真空室的与其相联系的花费等等负担。基板在传送时的形状、偏斜、尺寸精度和位置可以在过窄的隧道中导致基板的堵塞或者折断。不利地添加,处理具有增加的宽度的基板;至约3m,这导致较大的隧道宽度。与隧道机械接触的基板在通常情况下此后是不能用的。
迄今发现的最有效的解决方案是在真空室中或者在这样的壳体中的两个功能区域之间设置隧道的这种解决方案,该壳体通过横向的经过隧道的间壁来划分。在这样形成的部分壳体上分别设置真空泵。真空室从部分壳体中吸出处理气体。这通过壳体中的穿通部(Durchbruch)从功能区域中以及通过在壳体与隧道之间的穿通部从隧道本身中进行。传送装置被安放为使得仅仅通过间隙按份额地使滚轮(Roll)或者O环伸入到隧道中,使得基板的支承点仅从隧道内壁提起数毫米。
现在已表明,显著的薄弱环节在如传动带(Riemen)或者链之类的用于力传递的装置不中断地经过间壁的地方形成,所述用于力传递的装置被设置用于驱动传送滚轮并且最后被设置用于基板传送。在该情况下不利地影响气体分离的效力。
实用新型内容
考虑这些缺陷将如下内容作为本实用新型的任务,设计用于驱动气体分离装置中的传送滚轮,使得这些驱动装置没有不中断地经过间壁。
该任务通过具有权利要求1的特征的设备来解决。本实用新型的有利的改进方案形式是从属权利要求的主题。
根据前序部分所述的用于基板的在用于包括至少一个真空室的真空处理设施中的气体分离的设备被设置为如下形式的气体流动有效的(gasflusswirksame)流动阻力:该形式为在该设施的两个区域之间的把基板传送装置围住的横截面的纵向延伸的收缩部(Verengung),在所述区域中可调整真空中的至少不同的压力。该设备具有作为用于基板的经过的收缩部的隧道、间壁和至少一个称为传送装置的用于基板传送的装置,所述间壁与基板传送横向地在外部围住隧道并且与真空室的内部室壁相连接,使得在基板传送中或者与基板传送相反地在隧道之内设置透气,所述用于基板传送的装置在隧道之内借助至少一个可转动的传送滚轮和至少一个用于转动运动的驱动装置来构造用于承载基板和使所述基板运动的支承点。
本实用新型的特征在于,透气唯一地在隧道之内至少通过其纵向延伸的部分来设置,其中传送装置并且尤其是其驱动装置被安放为使得经过间壁的透气被抑制。
为优点奠定基础的教导因此是不要穿过间壁引导驱动装置,因为正好在对此所需的穿通部上,所谓的短路高度减小期望的流动阻力的作用。从另一个角度来说,会依据电气等效电路可阐述这一点,其中在隧道中安放的阻力可以这样说被跨接并且由此减小其作用。
在本实用新型的第一改进方案中,一个或多个传送滚轮的驱动装置具有这样安放的通过滚轮引导的传动带和/或链,所述传动带和/或链分别在间壁的两侧被偏转,使得传动带和/或链不经过间壁。
在室中安放的传动带或者链驱动器因此要始终在间壁两侧结束。
在本实用新型的可替换的改进方案中,用于至少一个传送滚轮的驱动装置具有指示一个这样安放的轴,所述轴横向于基板传送装置布置地被穿透地安放到(回转接头(Drehdurchfuehrung)方式的)密封部、真空室的室壁上。因此,力传递路径被引导到真空室中或者从真空室被引导出来,而且间壁通过真空室的外侧被包围。
在本实用新型的其他改进方案中,传送装置沿着基板传送装置被划分为使得该传送装置通过如下方式具有至少一个传送带:传送滚轮在转动方向和转动速度方面被互相协调,使得基板通过传送带的所有传送滚轮的支承点以可恒定调节的传送速度是可运动的。
在真空处理中的被证明有效的技术手段是形成所谓的具有可恒定调节的传送速度的传送带。
在本实用新型的另一改进方案中,至少在隧道的长度上安放传送带。在气体分离装置和这种隧道中,所阐述的传送速度是该设施的无中断运行的前提。
在本实用新型的另一改进方案中,传送带通过被安放在真空室外部的机械耦合装置来形成。
在本实用新型的另一改进方案中,隧道具有穿通部。
在本实用新型的另一改进方案中,对于间壁适当地在隧道的输入和/或输出上安放中间壁,使得在间壁与中间壁之间(通过室壁围住地)构造至少一个部分壳体。
在本实用新型的另一改进方案中,借助至少一个真空泵可对部分壳体抽真空。
在本实用新型的另一改进方案中,中间壁具有穿通部。
在本实用新型的另一改进方案中,间壁被分成为使得间壁以及隧道的至少一个上部部分可拆卸地与室壁相连接。
在本实用新型的另一改进方案中,间壁的上部部分可插接地被建造,并且与真空室的盖相连接,使得所述上部部分随着盖的打开和闭合可被拔出或可被插入,其中在盖闭锁的情况下连接和不连接间壁的部分。
附图说明
随后要依据实施例进一步描述本实用新型。为此,在附图中如下示出在设施的局部的传送方向上的截面图:
图1示出了根据现有技术的设备1。
图2示出了垂直纵视图,
图3示出了水平纵视图-传动带/链驱动器,
图4示出了水平纵视图-单个驱动器。
具体实施方式
如在图2中所示,同时被安放在真空室2中的用于气体分离的设备1在传送方向20上来观察地基本上按隧道6的长度量定。真空室2是明显比所示的更长的设施3的部分,双箭头要勾画这一点。区域5处于设备1的两侧并且因此在隧道的输入或输出上。通常,涉及其中基板4例如被涂层的处理区域。为此在基板之下和之上需要位置,以便例如设置涂层源和/或加热装置。气体分离但是也可(如所绘出的那样)邻接闸门区域和输送区域。真空室这样构造通过室壁21形成的通道。任意壁首先细分这些真空室,其中所述壁横向于基板传送并且由此横向于传送方向20,其中存在如下壁,所述壁如此处为两个中间壁12那样形真空室2的壳体,并且存在被设置为功能壁的这种壁,如此处为间壁7。壁的这样的划分但是绝不是限制性的,使得横向的壁仅是为功能区中的室稳定性或者分开而准备的,而且这两者的组合是常见的。
在对图2的补充方案中也有利的是,在隧道6之下利用单独的壳体包围每个传送滚轮10,使得气体结合在隧道之下被抑制。为此适合的是类似于中间壁12但是在隧道6之下被安放在所述隧道6与下部室壁21之间的这种壁。
从图3得知,其位置借助箭头绘出的两个中间壁12在如下地方具有穿通部14和开口:在那个地方安放隧道6的输入或输出。被据成弧形的夹板使设备1连同其隧道6以及在其两侧使区域5明显。在传送方向20上,室壁21包围设备1。通常,传送装置8负责基板4的运动,这通过多于一个的具有支承点9的传送滚轮10来实现。在此处所示的解决方案中,传动带23(必要时也为链23)被用作驱动装置11,并且其在间壁7的两侧如此,使得驱动装置分别首先在间壁7结束,而且通过经由回转接头16穿透室壁21的轴从真空室被引出而且在那利用另一传动带使两个轴相互连接。
就这点而言,图4与其前任方案(图3)的区别在于,不是传动带驱动器而是所谓的单个驱动器被示为驱动装置11。这样的驱动器可以是如下电动机:所述电动机将轴22与传送滚轮10相连接,其中轴22经由回转接头16穿透室壁21。
附图标记列表
1设备
2真空室
3设施
4基板
5区域
6隧道(收缩部)
7间壁
8传送装置
9支承点
10传送滚轮
11驱动装置
12中间壁
13穿通部(隧道)
14穿通部(中间壁)
15真空泵
16密封部(回转接头)
17盖
18上部部分
19纵向延伸部(隧道)
20传送方向
21室壁
22轴
23传动带/链

Claims (13)

1.一种用于基板(4)的在包括至少一个真空室(2)的真空处理设施(3)中的气体分离的设备(1),其特征在于, 
所述设备(1)被设置为如下形式的气体流动有效的流动阻力:所述形式为在设施(3)的两个区域(5)之间的把基板传送围住的横截面的纵向延伸的收缩部,在所述区域(5)中能调节真空中的至少不同的压力, 
并且所述设备(1)具有: 
隧道(6),作为用于经过基板(4)的收缩部, 
间壁(7),所述间壁(7)横向于基板传送地在外部围住隧道(6)并且与真空室(2)的内部室壁(21)相连接,使得在隧道(6)之内在基板传送中或者与基板传送相反地设置透气,以及 
至少一个被称为传送装置(8)的用于基板传送的装置, 
所述用于基板传送的装置借助至少一个可转动的传送滚轮和至少一个用于转动运动的驱动装置(11)在隧道(6)之内构造用于承载基板(4)和使基板(4)运动的支承点(9), 
其特征在于, 
透气唯一地在隧道(6)之内至少通过其纵向延伸部(19)的部分被设置, 
其中传送装置(8)被安放为使得经过间壁(7)的透气被抑制。 
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,驱动装置(11)具有针对一个或多个传送滚轮(10)被这样安放的通过滚轮引导的传动带和/或链,所述传动带和/或链分别在间壁两侧被偏转,使得传动带和/或链(23)不经过间壁(7)。 
3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述驱动装置(11)针对至少一个传送滚轮(10)具有至少一个这样安放的轴(22),所述轴(22)横向于基板传送布置地通过回转接头(16)方式的密封部、真空室(2)的室壁(21)穿透地被安放。 
4.根据权利要求1、2或3所述的设备,其特征在于,传送装置(8)沿着基板传送被划分,使得所述传送装置(8)通过如下方式具有至少一个传送带:传送滚轮(10)在转动方向和转动速度方面相互协调,使得基板(4)通过传送带的所有传送滚轮(10)的支承点(9)能以恒定可调节的传送速度来运动。 
5.根据权利要求4所述的设备,其特征在于,传送带至少在隧道(6,19)的长度上被安放。 
6.根据权利要求4所述的设备,其特征在于,传送带通过机械耦合装置来形成,所述机械耦合装置被安放在真空室(2)之外。 
7.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述隧道具有穿通部(13)。 
8.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,对于间壁(7)适当地,中间壁(12)被安放在隧道的输入和/或输出上,使得在间壁(7)与中间壁(12)之间通过室壁(21)围住地构造至少一个部分壳体。 
9.根据权利要求8所述的设备,其特征在于,部分壳体借助至少一个真空泵(15)能被抽真空。 
10.根据权利要求8或9所述的设备,其特征在于,中间壁(12)具有穿通部(14)。 
11.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,间壁(7)被分为使得间壁(7)的至少一个上部部分(18)以及隧道(6)可拆卸地与室壁(21)相连接。 
12.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,间壁(7)的上部部分(18)可插接地被建造并且与真空室的盖(17)相连接,使得上部部分(18)随着盖(17)的打开和闭合能被引出或能被插入,其中在盖(17)闭锁时连接和不连接间壁(7)的部分。 
13.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,传送装置(8)和其驱动装置(11)被安放为使得经过间壁(7)的透气被抑制。 
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