CN109234709B - 用于闸入基板的处理装置和方法 - Google Patents

Abstract

根据不同的实施形式，处理装置(100)可以具有如下：成形设备(102)，其具有成形区域(112)，用于在断续的成形过程中成形带式基板(120)；涂层设备(106)，其具有涂层区域(116)，用于在连续的涂层过程中对所述带式基板(120)涂层；缓冲设备(104)，具有缓冲区域(114)，用于容纳所述带式基板(120)的部段(122)；带运输设备(108)，用于断续地运输所述带式基板(120)穿过所述成形区域(112)进入所述缓冲区域(114)并且用于连续地运输带式基板(120)离开所述缓冲区域(114)进入所述涂层区域(116)；其中所述成形设备(102)构建为，在所述带式基板(120)中产生预定义的期望弯折部位(120k)并且其中所述缓冲设备(104)和带运输设备(108)构建为使得所述带式基板(120)在所述缓冲区域(114)中分别在预定义的所述期望弯折部位(120k)处被弯折。

Description

用于闸入基板的处理装置和方法

技术领域

不同的实施例涉及用于闸入基板的处理装置和方法。

背景技术

一般而言使用不同的方法来处理基板。作为基板例如可以使用玻璃片、塑料板、金属条、薄膜、晶片、工件等等。基板例如可以借助处理设备来处理，例如借助涂层设备来涂层，借助刻蚀设备来清洁或结构化，借助加热设备和/或冷却设备经受高温处理，等等。在此，基板传统上在处理腔室中的至少一个处理区域中被处理。作为处理腔室，例如可以使用真空处理腔室、大气压处理腔室或超压处理腔室。在此，基板可以单独地或组合地被处理。

发明内容

在下文中详细描述的不同的实施形式涉及压印的不锈钢基板例如以带或链形式进行真空涂层。所述基板可以用作燃料电池中的极性板。这种极性板可以形成在燃料电池(分别是电解质电池)中的重要的部件。它们负责反应气体的第一粗分配，如在阳极侧上的燃料和在阴极侧上的氧气或空气。它们本身必须具有极低的气体渗透率，同时有良好的电学和机械特性。此外，它们在其中间空间中允许冷却水流，以消除过程热量。

通常使用的实心石墨系统在厚度、重量和制造成本方面具有显著的缺点，使得使用更薄的、压印的和/或冲制的基板会是有益的。在此，基板可以具有小于100μm的厚度并且例如基于金属或基于不锈钢。例如薄的表面功能化对于足够好的且尤其长期稳定的燃料电池性能是有益的。例如，可以将涂层施加到基板上，所述涂层在导电性足够的情况下提供改进的防腐蚀。

根据不同的实施形式，可以对预压印的板形的基板涂层。然而，常规使用的片式和载体处理系统在生产率方面是费时的，并且因此随之带来高的制造成本。常规的用于涂层板状基板的设备的泵送和通气(基板成批地(例如时间上断续地)被闸入)会限制生产率并且因此例如会阻碍高速率涂层技术的高效利用。

此外，金属带可以用作基板，所述金属带首先被涂层并且金属带接着被压印。然而已看到的是，在此在层中会出现微裂纹，这些微裂纹助长了局部腐蚀，这会导致分层以及过度电阻的劣化(ICR、Interfacial Contact Resistance(界面接触电阻))并且由此会导致电池性能的暴降或更短的燃料电池的寿命。

不同的实施形式的方案直观上可看到，用于涂层带式基板的生产率与用于在压印之后表面功能化所需的层质量相协调，目的是，经济地即例如以批量制造的方式制造高质量的基于金属的极性板(也称作3D平面基板)。

根据不同的实施形式，提供处理装置，借助处理装置首先预先结构化带式基板(例如压印、冲制、打孔、穿孔、刮刻或其他方式成形)，这在断续的带运输中进行，并且接着可以在处理腔室中被处理(例如在处理腔室中涂层)，这在连续的带运输中进行。从断续的带运输到连续的带运输的过渡借助缓冲设备来进行，该缓冲设备维持带式基板的对应长度的部段，以便能够实现过渡。在此，带式基板的缓冲进行为使得在缓冲之前在带式基板中产生期望弯折部位，例如作为基板的预先结构化的部分。

根据不同的实施形式，处理装置(例如，用于压印基板和用于涂层被压印的基板)可以具有如下：成形设备，其具有成形区域，用于在断续的成形过程中成形带式基板；涂层设备，其具有涂层区域，用于在连续的涂层过程中对带式基板涂层；缓冲设备，具有缓冲区域，用于容纳带式基板的部段；带运输设备，用于断续地运输带式基板穿过成形区域进入缓冲区域并且用于连续地运输带式基板离开缓冲区域进入涂层区域，其中成形设备构建为，在带式基板中产生预定义的期望弯折部位并且其中缓冲设备和带运输设备构建为使得带式基板在缓冲区域中分别在预定义的期望弯折部位处被弯折。

根据不同的实施形式，处理装置(例如用于对压印的基板涂层)可以具有如下：处理腔室和处理设备，用于在处理腔室中的处理区域中处理基板；带式输入闸门和运输带，用于将基板运输到处理腔室中并且穿过处理区域；基板操作器，用于将基板与运输带联接(例如搁置或固定)，其中基板操作器构建为，使得基板在处理腔室之外可以与运输带联接，其中带式输入闸门和运输带构建为，使得基板与运输带一起可以被运输穿过带式输入闸门进入处理腔室中。

根据不同的实施形式，处理装置可以(例如用于对压印的基板涂层)具有如下：处理腔室和处理设备，用于在处理腔室中的处理区域中处理基板；带式输入闸门；带式输出闸门和运输带，用于将所述基板运输到处理腔室中，穿过处理区域并且离开处理腔室；基板操作器，用于将基板与运输带联接(例如搁置或固定)，其中基板操作器构建为，使得基板可以在处理腔室之外与运输带联接，其中带式输入闸门、带式输出闸门和运输带构建为，使得基板与运输带一起可以被运输穿过带式输入闸门进入处理腔室中并且穿过带式输出闸门离开处理腔室。

根据不同的实施形式，用于处理带式基板的方法可以具有如下：将带式基板沿着运输方向断续地运输并且(在其期间)借助将带式基板的预定义的部段成形来产生期望弯折部位，其中期望弯折部位横向于运输方向延伸并且在运输方向上看彼此间隔地设置；接着将带式基板断续地运输到缓冲区域中并且将带式基板在缓冲区域中借助在所产生的期望弯折部位处弯折带式基板来缓冲；和接着将带式基板从缓冲区域中运输到涂层设备中并且在涂层区域中涂层带式基板。

根据不同的实施形式，用于沿着运输方向将带式基板闸入到(einschleusen)处理腔室中或将带式基板从处理腔室中闸出的方法，其中带式基板具有带有槽的压印结构，所述槽以一定的长度沿着运输方向延伸，具有如下：将带式基板运输穿过带式闸门进入处理腔室中或离开处理腔室，其中带式基板的各一个部段穿过带式闸门的闸门区域，并且其中带式闸门具有至少一个密封结构；以及同时将密封结构挤压到带式基板上，使得压印结构的槽完全借助密封结构来遮盖。

根据不同的实施形式，用于将基板沿着运输方向连续闸入处理腔室中的方法可以具有如下：将基板与运输带联接，其中运输带引导穿过带式闸门；并且接着，使运输带运输并且由此使基板运输穿过带式闸门进入处理腔室。

附图说明

实施例在附图中示出并且以下更为详细地予以阐述。

在附图中：

图1示出了根据不同的实施形式的处理装置的示意性视图，

图2示出了根据不同的实施形式的处理设备的示意性视图，

图3A和图3B示出了根据不同的实施形式的闸门辊(Schleusenrollein)的示意性立体视图，

图3C示出了根据不同的实施形式的闸门装置的环形带的示意性视图，

图4示出了根据不同的实施形式的成形设备的示意性视图，

图5A和5B分别示出了根据不同的实施形式的成形的基板的示意性立体视图，

图6示出了根据不同的实施形式的缓冲设备的示意性视图，

图7示出了根据不同的实施形式的处理设备的示意性视图，

图8示出了根据不同的实施形式的用于分割和/或存放基板的设备的示意性视图，以及

图9示出了根据不同的实施形式的多个带形连接的单基板的示意性视图。

具体实施方式

在后续详细的描述中参考所附的附图，所述附图构成说明书的部分并且在所述附图中为了阐述而示出了特定的实施形式，在所述实施形式中可以施行本发明。在这方面，参照所描述的一个(多个)附图的定向而使用方向术语例如“上”、“下”、“前”、“后”、“向前”、“向后”等等。因为实施方式的部件能够以多个不同的定向来定位，所以方向术语用于说明而不无任何限定。要理解的是，可以使用其他的实施方式并且可以进行结构上的或逻辑上的改变，而不偏离本发明的保护范围。要理解的是，只要没有特殊地另外说明，就可以将在此描述的不同的示例性的实施方式的特征互相组合。因此，下面详细的描述不能够理解为受限制的意义，并且本发明的保护范围通过附上的权利要求来限定。

在本说明书的范围内，术语“连接”、“联接”、“耦合”以及“耦接”用于描述直接的和间接的连接、直接的或间接的联接以及直接的或间接的耦合。在附图中，只要是适当的，相同的或相似的元件设有相同的附图标记。

根据不同的实施形式，提供了用于高效地连续制造表面功能化的3D金属扁平基板的方法和设备。此外，提供相应构建的带式闸门，用以将3D金属平面基板连续地闸入真空处理腔室或涂层腔室。

根据不同的实施形式，3D金属平面基板以链形式提供，例如作为连贯的带式基板(例如来自一件)，所述带式基板利用压印和冲制结构在涂层之前被预先结构化。直观上，衔接的(串连的)被压印的单个部段在涂层之前从金属带中借助成形设备来产生。

根据不同的实施形式，平面基板例如3D平面基板(例如3D金属平面基板)以链形式提供，例如作为半组装的带(来自于各个件)来提供，其中完成压印的并且被分割的板被放置到引导带或引导链就位(以链形式的空气对空气单基板闸入)。

根据不同的实施形式，使用变形设备来压印/或冲制带式基板，例如金属带。在此，初始的带式基板可以以断续的加工模式通过压印和冲制设备引导。

根据不同的实施形式，基板缓冲器(也称作缓冲设备)用作在涂层之前的断续涂层过程与连续的涂层过程之间的接口。在第一实施形式中，可以将悬挂在链上的3D平面基板折叠(或弯折)。在此，借助压印和冲制设备产生用于折叠的期望折叠部位(或期望弯折部位)。在另一实施形式中，3D平面基板可以作为长悬链线保持可用。在另一实施形式中，3D平面基板可以卷绕到辊上，该辊的直径选择为使得仅出现3D平面基板的弹性形变。

根据不同的实施形式，提供压力隔离，用于闸入和/或闸出3D平面基板。为此，主动辊可以用作带式闸门，以便将基板过闸到涂层腔室中和/或以便将基板过闸离开涂层腔室。带式闸门的主动辊可以以挤压辊的形式提供或被提供，其中可以使用不同类型的挤压辊(即例如挤压辊的材料以及达标率是适配的或被适配，其中也可以考虑材料的初始特征)。因此，可以进行连续的涂层过程，其中可以借助一个或多个这种压力隔离级(以带式闸形式)引入到真空腔室中。

闸出例如可以与闸入同样地进行，例如经由各种压力隔离级。

可选地，代替主动的挤压辊也可以使用齿轮，所述齿轮借助接合到在带式基板中提供的与之匹配的引导孔来确定带张力。

在涂层之后，可以进行基板分割，例如借助剪切来进行。在此，在带式基板的相应相邻的基板部段之间的连接部位可以被分开。

图1阐明了根据不同的实施形式的处理装置100的示意性视图。

处理装置100例如具有成形设备102，其具有成形区域112。该成形设备102例如可以构建为使得带式基板120可以在断续的成形过程中成形。在此，成形设备102可以至少构建为使得该成形设备在带式基板120中产生对应的期望弯折部位120k。此外，成形设备102可以构建为使得在带式基板120中也产生预定义的压印结构，例如沿着运输方向101看在期望弯折部位120k之间。直观上，可以借助成形设备102产生结构化的(例如压印的)平面的基板(称作3D平面基板)，所述基板彼此连接，使得它们可以作为带式基板被处理，譬如在图5A和图5B中所阐明的那样。

此外，处理装置100具有涂层设备106(或类似地其他处理设备)，其带有涂层区域116。该涂层设备106例如可以构建为使得带式基板120在连续的涂层过程中可以在涂层区域116内被涂层。

此外，处理设备100具有缓冲设备104，其具有缓冲区域114。该缓冲设备104例如可以构建为使得带式基板120的部段122可以容纳在缓冲区域114中。在此，例如在缓冲区域114中容纳附加的带长度。直观上，在缓冲区域114中容纳的部段的带长度长于对于不带缓冲的带引导所需的带长度。带基板120的在缓冲区域114中容纳的部段122的带长度例如长于缓冲腔室104的输入区域距缓冲腔室104的输出区域的间距，带式基板120穿过该入口区域被引导进入缓冲腔室104或缓冲区域114中，带式基板120穿过该输出区域被从缓冲腔室104或缓冲区域114引导出来。

此外，处理装置100具有带运输设备108。该带运输设备108可以借助多个运输辊、转向辊、驱动辊等进行。根据不同的实施形式，带运输设备108例如可以构建为，带式基板120断续地(即带式基板120按预定义的时间间距被停止或带运行速度以预定义的时间间距改变)穿过成形区域112可以被运输到缓冲区域114中并且带式基板120连续地(即带式基板120以基本上恒定的带运行速度运动或在涂层期间不停止)可以从缓冲区域114离开运到到涂层区域116中。

根据不同的实施形式，成形设备102可以构建为使得在带式基板120中产生预定义的期望弯折部位120k。在此，缓冲设备104和带运输设备108可以构建为使得带式基板120在缓冲区域114中分别在预定义的期望弯折部位120k处弯折。

图2阐明了根据不同的实施形式的处理设备206(例如处理装置100的涂层设备106)的示意性视图，该处理设备具有处理区域216(例如处理装置100的涂层区域116)。

根据不同的实施形式，处理设备206具有处理腔室206k，用于在处理腔室206k中在处理区域216中处理基板。根据不同的实施形式，处理腔室206k可以是真空腔室。为了将基板闸入到处理腔室206k中，例如可以使用带式输入闸门202e。为了将基板从处理腔室206k闸出，例如可以使用带式输出闸门202a。

根据不同的实施形式可以如上文所描述的那样借助带式输入闸门202e将带式基板120闸入而(例如可选地)借助带式输出闸门202a将带式基板闸出。在此，带式基板120可以在闸入过程中和/或在闸出过程中连续地运动，使得带式基板120也可以在处理区域216中连续地运动。

对此替选地，运输带220可以用于运输一个(例如板形的、单独的)基板或多个(板形的、单独的)基板进入处理腔室206k，穿过处理区域216并且从处理腔室206k出来。在此，基板可以在处理腔室206之外与运输带220联接，例如借助基板操作器(参见例如图9)来联接。带式输入闸门202e、带式输出闸门202a和运输带220可以构建为，使得基板或基板连同运输带220一起通过带式输入闸门202e可以被运输到处理腔室206k中并且通过带式输出闸门202a可以从处理腔室206k运输出来。

根据不同的实施形式，带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a可以构建为使得带式基板120或运输带220与联接到运输带220上的基板一起可以被引导穿过在两个闸门辊之间并且可以在两个闸门辊之间在平面的区域中接触。

图3A阐明了根据不同的实施形式的闸门辊302的示意性视图(带式输入闸门202e或带式输出闸门202a的闸门辊，如上文中所描述的那样)。

在此，闸门辊302可以柔性地构建，使得当闸门辊302被挤压到要闸入的基板120、320上时闸门辊的原始的圆形横截面形状302k改变成椭圆形横截面形状302e。挤压到基板上的辊例如限定了主动的密封区域308，在该密封区域中闸门辊302和基板120、320彼此实体接触。

在此，基板120、320可以具有压印结构322(例如槽、孔等)。压印结构322例如可以借助成形设备102产生，如上文所描述的那样。

当压印结构具有一个或多个槽(即，长形的加深部)，所述槽一起沿着运输方向101延伸，则带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a的至少一个闸门辊302可以构建为使得该基板120、302在平面的区域308中可以被密封，该区域在运输方向101上具有大于槽沿着该方向的长度的长度。

如在图3A和图3B中所阐述的那样，椭圆形柔性的辊(例如相对于基板120、320在两侧/镜像对称地设置)可以用于密封过闸。因此，3D平面基板可以借助形状改变的密封滚筒302高效地闸入。密封302作用于基板120、320的压力选择为使得有效的接触面308(即在滚筒与基板之间的接触面)在运行方向101上大于3D平面基板的例如曲折形的通道的轮廓，使得本身上大大地降低泄漏率。

根据不同的实施形式，形状改变的压力滚筒302的柔软度(或硬度)可以选择或被选择为使得不出现3D平面基板(例如塑性)变形。例如，可以使用空气或气体填充的压力滚筒302。其例如可以设置在两个运输辊之间，其中间空间被主动地泵空。此外，实心辊可以用作压力辊302，其具有相应软的材料，由此减小在横截面中有效的泄漏通道。

在可考虑的如下情况：为了实现相同的有效密封面(在最小的压力的情况下(近似零))，滚筒没有形成椭圆形形状，密封辊必须相应大地选择。

对前面所描述的压力滚筒替选地，也可以使用双辊330a、330b连带循环带332，如例如在图3C中根据不同的实施形式以示意性视图所示的那样。该装置例如可以相对于基板120、320在两侧/镜像对称地设置或被设置。在该情况下，环形带332可以确保压力隔离的功能。被环形带332包围的区域333例如可以施加以压力，使得环形带332密封地靠置到基板120、320上。

在另一实施形式中，环形带332可以在基板侧成型(例如镶嵌(genoppt))，其横向形状(例如垂直于运行方向)可以以同步方式插入3D平面基板的横向定向的通道中，并且因此可以减小潜在的泄漏通道的横截面。

图4阐明了根据不同的实施形式的处理装置100的成形设备102的示意性视图。

根据不同的实施形式，可以使用成形设备102，以便在带式基板120中产生两个彼此不同的结构化部。在第一成形步骤402a中，可以压印带式基板120或不同地冷成形带式基板120。直观上，在此可以产生所希望的结构，所述结构用于被涂层的基板的以后的功能。

在第二成形步骤402b中，带式基板120可以预先结构化，使得带式基板可以在缓冲腔室104中被一次或多次弯折或折叠。在第二成形步骤402b中，带式基板120例如可以被压印、刮刻、冲制或其他方式结构化。直观上，在此产生所期望的辅助结构，其并不用于所描述的基板的功能，而是所述辅助结构只在涂层室106中处理期间和/或在涂层之后分割期间起作用。

图5A和图5B分别示例性地示出了根据不同的实施形式的在已借助成形设备102结构化带式基板之后的带式基板120。

直观上，带式基板120的相应的板形的部段522彼此连接，其方式是在相应相邻的板形的部段522之间保留有连接部位524。连接部位524可以借助冲制来产生，参见图4。在带式基板120的相应的板形的部段522中可以各产生一个压印结构322(例如具有加深部、槽、曲折部等)，如上文所描述的那样。

此外，引导轮廓526可以在带式基板120的边缘区域中产生，例如借助冲制。引导轮廓526可以用于借助相应接合的齿轮来运输带式基板120。

此外，也可以在带式基板120中产生穿通孔528，例如借助冲制。穿通孔528可以设置在带式基板120的板状的部段522中。

图6示出了根据不同的实施形式的处理装置100的缓冲腔室104的示意性视图。在此，预先结构化的带式基板120被多次弯折或折叠，以便在缓冲腔室104中形成对带式基板长度的相应储备。

图7阐明了根据不同的实施形式的处理设备206(例如处理装置100的涂层设备106)的示意性视图。根据不同的实施形式，可以多级地进行压力隔离702，即带式基板120的闸入和闸出。为此，在运输方向101上看可以将多个带式闸门202e、202a相继地连接或被连接。

根据不同的实施形式，带式基板120的部段可以处于期望弯折部位120k之间，在涂层或处理之后借助相应的设备802被分割并且存放或对此替选地，叠合并且存放。

分割可以在相应压印的基板部段522之间的连接部位524处进行，参见例如图5A和图5B。

根据不同的实施形式，直观上借助成形设备102产生彼此联接的板状的基板522的复合件，该复合件可以如带式基板那样被处理。

在类似的设计方案中，已分割的极性板(例如呈一个半板的形式或者呈两个半板的形式，其接合和焊接成完整板)922(也参见图3中的基板320)或还有压印的半板922在涂层之前可以彼此连接，使得它们作为基板带连续地被引导进入涂层设备中并且可以从涂层设备中引导出来，如例如在图9中以示意性视图所示的那样。

根据不同的实施形式，各个板状的基板922例如可以配备有连接元件924或被配备有连接元件，所述连接元件将板状的基板922彼此机械链接。连接元件924例如可以借助点焊、粘合或夹持固定或被固定在板状的基板922上。在连接元件924与板状的基板922之间的联接可以以任意方式进行，例如也可以借助在相应的连接部位924v处的形状配合进行。

在分割时，又可以分开相应的连接元件924并且必要时移除。在此，也以将多个板状的基板922固定或被固定在共同的连接元件924上，其中共同的连接元件924沿着运输方向101延伸并且与多个板状的基板922一起形成基板链。

直观上，可以使用运输带924(参见图2中的运输带220)，多个板状的基板922可以联接到运输带上，使得形成所期望的基板链。在此，运输带924可以与多个板状的基板922一起闸入和/或闸出，如上文中所描述的那样。

相应地，处理装置可以具有带有处理腔室206k的处理设备206，用于在处理腔室206k之内的处理区域216中处理一个基板922(或多个基板922)(参见例如图2和图7)。此外，处理装置可以具有带式输入闸门202e、带式输出闸门202a和运输带924，用于将基板922运输到处理腔室206k中、穿过处理区域216和离开处理腔室206k。处理装置例如可以具有基板操作器(例如机器人臂等，未示出)，用于将基板922与运输带924联接(例如搁置或固定)。基板操作器例如可以构建为或者被构建为，使得基板922在处理腔室206k之外可以与运输带924联接。此外，带式输入闸门202e、带式输出闸门202a和运输带924可以构建为，使得基板922与运输带924一起可以运输穿过带式输入闸门202e进入处理腔室206k中并且穿过带式输出闸门202a离开处理腔室206k。

根据不同的实施形式，在处理腔室或涂层腔室中可以执行真空调节，其中带式基板120在真空调节期间可以未被压印穿过。

应理解的是，为了实现相应的带拉紧可以使用被驱动的辊(所谓的主动辊)。此外，辊也可以至少部分接合到引导轮廓526(参见图5B)中，其中引导轮廓526是边角料，即例如未变成极性板的一部分。

根据不同的实施形式，极性板在使用在燃料电池时可以由两个彼此焊接的半板构成。根据不同的实施形式，用于冷成形和冲制的另一分支(例如与图1中所示的第一分支并行地)同步运行。顺序连接在其间的附加的基板缓冲器例如可以用于将两个半板定向和接合(例如借助激光焊接、钎焊等)。有利地，仅一个半板保持在带复合件中并且焊接的半板在工作步骤中被分割。两个半板由此可以针对焊接准确地相继地被调节。完成焊接的极性板的带可以在所述板之间的连接部位处相对好地运动，而极性板不弯曲。为了改进带的真空兼容性，首先在真空涂层过程下游的步骤中打开用于在半板之间的中间空间的穿通部。

在图1和图6中所示的3D平面基板缓冲器104确保了将带式基板120或基板922的复合件连续地闸入相应的真空腔室中。

根据不同的实施形式，也可以同时从上部和下部进行涂层，要么通过涂层技术从上部和下部同时进行要么相继地或通过将由极性板构成的链反向到第二涂层平面中或转动基板带来进行。在转动或考虑第二涂层平面(例如在另一真空腔室中)时，也可以利用电子束蒸镀技术作为用于金属层的高速率工艺。

根据不同的实施形式，涂层设备106可以具有涂层宽度(横向于运输方向101)，所述涂层宽度大于/等于带式基板120或板状基板922的宽度的两倍。因此，例如多个这样的基板带可以聚拢并且并排地通过涂层设备106导向，由此可以最优地利用可能的涂层宽度。

根据不同的实施形式，也可以将运输带924如在图9中示例性地示出的那样构建为使得，使得板状的基板922也可以横向于运输方向101地并排设置，由此可以最优地利用可能的涂层宽度。

在下文中描述了不同的实施例，所述实施例与上文的描述和所示有关。

实例1是处理装置100，其具有：成形设备102，其带有成形区域112，用于以断续的成形过程成形带式基板120；涂层设备106，其具有涂层区域116，用于以连续的涂层过程对带式基板120涂层；缓冲设备104，其具有缓冲区域114，用于容纳带式基板120的部段122；带运输设备108，用于断续地运输带式基板120穿过成形区域112进入缓冲区域114中并且用于连续地将带式基板120从缓冲区域114运输到涂层区域116中，其中成形设备102构建为使得在带式基板120中产生预定义的期望弯折部位120k并且在此缓冲设备104和带运输设备108构建为使得带式基板120在缓冲区域114中分别在预定义的期望弯折部位120k处被弯折。

在实例2中，根据实例1的处理装置100可以可选地具有：成形设备102构建为使得预定义的期望弯折部位120k横向于带式基板120的运输方向101地延伸并且在运输方向101上彼此间隔开地设置。

在实例3中，根据实例1或2的处理装置100可以可选地具有：成形设备102构建为，使得预定义的期望弯折部位120k借助压印、穿孔和/或分部段的冲制来产生。

在实例4中，根据实例1至3中任一项所述的处理装置100可以可选地具有：成形设备102还构建为使得在带式基板120中分别在两个彼此邻接的预定义的期望弯折部位120k之间产生压印结构322。

在实例5中，根据实例4的处理装置100可以可选地具有：涂层设备106构建为，使得总是至少涂层带式基板120的压印结构322。

在实例6中，根据实例1至5中任一项所述的处理装置100可以可选地具有：涂层设备106构建为用于执行化学或物理气相沉积的真空涂层设备。

在实例7中，根据实例1至6中任一项所述的处理装置100可以可选地具有：涂层设备106具有处理腔室206k，涂层区域116设置在处理腔室中，并且涂层设备106具有带式输入闸门202e用以运输带式基板120进入至少一个处理腔室206k和/或涂层设备106具有带式输出闸门202a，用于将带式基板120运输离开至少一个处理腔室206k。

在实例8中，根据实例7的处理装置100可以可选地具有：带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a构建为使得带式基板120可以在两个闸门辊302之间引导穿过并且在两个闸门辊302之间可以在平面的区域308中接触。

在实例9中，根据实例7的处理装置100可以具有：带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a构建为使得密封带332可以在两个辊330a、330b之间连续环绕地引导并且密封带332可以在平面的区域308中接触带式基板120。

在实例10中，根据实例8或9的处理装置100可以可选地具有：平面的区域308沿着运输方向101具有大于10cm的长度。

在实例11中，根据实例7至10中任一项所述的处理装置100可以可选地具有：成形设备102还构建为，使得在带式基板120中分别在两个彼此相邻的预定义的期望弯折部位120k之间可以产生压印结构322，其中相应的压印结构322具有纵向延伸的加深部(例如槽)，其以第一长度(例如在大约5cm到大约30cm的范围中)沿着运输方向101延伸，并且其中带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a构建为使得带式基板120在平面的区域308中可以被密封，所述区域沿着运输方向101具有第二长度，第二长度大于第一长度。

实例12是如下处理装置，其具有：处理设备206，带有处理腔室206，用于在处理腔室206k之内的处理区域216中处理基板922；带式输入闸门202e和运输带220、924，用于将基板922运输到处理腔室206k中；基板操作器，用于将基板922与运输带220、924联接例如搁置或固定，其中基板操作器构建为，使得基板922可以在处理腔室206k之外与运输带220、924联接，其中带式输入闸门202e和运输带220、924构建为使得联接到运输带220、924上的基板922与运输带一起可以被运输穿过带式输入闸门202e进入处理腔室206k中。

在实例13中，根据实例12的处理装置可以可选地具有：带式输入闸门202e构建为运输带220、924和与运输带220、924联接的基板922在两个闸门辊302之间可以引导穿过并且在两个闸门辊302之间在平面的区域308中接触。

在实例14中，根据实例12的处理装置可以可选地具有：带式输入闸门202e构建为，使得密封带332可以在两个辊330a、330b之间连续环绕地运输并且密封带332在平面的区域308中接触运输带220、924和与运输带220、924联接的基板922。

实例15是如下处理装置，其具有：处理设备206，其具有处理腔室206k，用于在处理腔室206k之内的处理区域216中处理基板922；带式输入闸门202e；带式输出闸门202a和运输带220、924，用于将所述基板922运输到处理腔室206k中，穿过处理区域216并且离开处理腔室206k；基板操作器，用于将基板922与运输带220、924联接，例如搁置或固定，其中基板操作器构建为，使得基板922可以在处理腔室206k之外与运输带220、924联接，其中带式输入闸门202e、带式输出闸门202a和运输带220、924构建为，使得基板922与运输带220、924一起可以被运输穿过带式输入闸门202e进入处理腔室206k中并且穿过带式输出闸门202a离开处理腔室206k。

在实例16中，根据实例15的处理装置可以可选地具有：带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a构建为，使得运输带220、924和与运输带220、924联接的基板922在两个闸门辊302之间引导穿过并且在这两个闸门辊302中在平面的区域308中接触。

在实例17中，根据实例15的处理装置可以可选地具有：带式输入闸门202e和/或带式输出闸门202a构建为使得密封带332可以在两个辊330a、330b之间连续环绕地运输并且密封带332可以在平面的区域308中接触运输带220、924和与运输带220、924联接的基板922。

根据实例12至17中任一项所述的运输带例如可以以至少两个平行并排例如连续环绕地引导的链或带的形式提供，所述链或带将各个基板分别保持在其彼此相对置的边缘区域中并且形成与带式基板类似的复合件。根据不同的实施形式，基板可以形状配合地与运输带联接或被联接。根据不同的实施形式，基板可以借助夹持连接与运输带联接或被联接。

根据不同的实施形式，运输带可以借助多个连接元件提供，其中多个连接元件将多个基板以链形式或以带形式彼此连接并且因此形成类似带式基板的复合件。

在实例18中，根据实例12至17中任一项所述的处理装置可以可选地具有：平面的区域308(在该区域中基板与密封结构接触)沿着运输方向101具有大于10cm的长度。

在实例19中，根据实例12至18中任一项所述的处理装置可以可选地具有：运输带220、924分别具有联接结构，用于形状配合地将基板922与运输带220、924联接。

在实例20中，根据实例12至19中任一项所述的处理装置可以可选地具有：运输带220、924由两个带分段924形成，所述带分段横向于运输方向101彼此间隔地设置，用于将基板922保持在基板922的两个彼此相对置的边缘区域中。

实例21是用于处理带式基板120的方法，该方法具有：沿着运输方向101断续地运输130带式基板120并且借助对带式基板120的预定义的部段成形产生期望弯折部位120k，其中期望弯折部位120k横向于运输方向101延伸并且沿着运输方向101彼此间隔地设置；将带式基板120断续地运输130到缓冲区域114中并且在缓冲区域114中借助在产生的期望弯折部位120k处弯折带式基板120缓冲带式基板120；以及连续地运输132带式基板120离开缓冲区域114进入涂层设备106中并且在涂层设备106的涂层区域116中对带式基板120涂层。

实例22是用于沿着运输方向101将带式基板120闸入处理腔室206k中或将带式基板120闸出离开处理腔室206k的方法，其中带式基板120具有带有槽的压印结构322，所述槽沿着运输方向101延伸，该方法具有：将带式基板120运输穿过带式闸门202e、206a进入处理腔室206k中或离开处理腔室206k，其中带式基板120的各一个部段穿过带式闸门202e、202a的闸门区域并且其中带式闸门202e、202a具有至少一个密封结构302、332；以及同时将密封结构302、332挤压到带式基板120上，使得压印结构322的槽借助密封结构302、332来完全遮盖。

在实例23中，根据实例22的方法可以可选地具有：密封结构具有形状改变的可弹性形变的闸门辊302，所述闸门辊旋转并且分别接触带式基板120并且完全遮盖压印结构322的槽。

在实例24中，根据实例22的方法可以可选地具有：密封结构具有密封带332，所述密封带在两个辊330a、330b之间循环环绕地引导并且分别接触带式基板120并且完全遮盖压印结构322的槽。

实例25是用于将基板922沿着运输方向101连续地闸入到处理腔室206k中的方法，该方法包括：将基板922与运输带220、924联接，其中运输带220、924引导穿过带式闸门202e、202a；和接着使运输带220、924运动并且由此将基板922运输穿过带式闸门202e、202a进入处理腔室206k中和/或离开处理腔室206k。

应理解的是，涉及方法的实施形式可以相应地以同从对应的设备的功能所得到的那样类似的方式构成，反之亦然。

Claims (13)

1.一种处理装置(100)，具有：

·成形设备(102)，其具有成形区域(112)，用于在断续的成形过程中成形带式基板(120)；

·涂层设备(106)，其具有涂层区域(116)，用于在连续的涂层过程中对所述带式基板(120)涂层；

·缓冲设备(104)，具有缓冲区域(114)，用于容纳所述带式基板(120)的部段(122)；

·带运输设备(108)，用于断续地运输所述带式基板(120)穿过所述成形区域(112)进入所述缓冲区域(114)并且用于连续地运输带式基板(120)离开所述缓冲区域(114)进入所述涂层区域(116)；

·其中所述成形设备(102)构建为，在所述带式基板(120)中产生预定义的期望弯折部位(120k)并且其中所述缓冲设备(104)和带运输设备(108)构建为使得所述带式基板(120)在所述缓冲区域(114)中分别在预定义的所述期望弯折部位(120k)处被弯折。

2.根据权利要求1所述的处理装置(100)，其中，所述成形设备(102)构建为使得所述预定义的期望弯折部位(120k)横向于所述带式基板(120)的运输方向(101)地延伸并且在运输方向(101)上彼此间隔开地设置。

3.根据权利要求1或2所述的处理装置(100)，其中，所述成形设备(102)构建为使得所述预定义的期望弯折部位(120k)借助压印、穿孔和/或分部段地冲制来产生。

4.根据权利要求1所述的处理装置(100)，其中，所述成形设备(102)还构建为，使得分别在两个相邻的预定义的期望弯折部位(120k)之间在所述带式基板(120)中产生压印结构(322)。

5.根据权利要求4所述的处理装置(100)，其中，所述涂层设备(106)构建为使得分别至少所述带式基板(120)的相应的所述压印结构(322)被涂层。

6.根据权利要求1所述的处理装置(100)，其中，所述涂层设备(106)构建为真空涂层设备用以执行化学或物理气相沉积。

7.根据权利要求1所述的处理装置(100)，其中，所述涂层设备(106)具有处理腔室(206k)，所述涂层区域(116)设置在所述处理腔室中，并且其中所述涂层设备(106)具有带式输入闸门(202e)用以运输所述带式基板(120)进入所述至少一个处理腔室(206k)并且所述涂层设备(106)具有带式输出闸门(202a)，用于将所述带式基板(120)运输离开所述至少一个处理腔室(206k)。

8.根据权利要求7所述的处理装置(100)，其中，所述带式输入闸门(202e)和/或所述带式输出闸门(202a)构建为使得所述带式基板(120)能够在两个闸门辊(302)之间引导穿过并且在两个闸门辊(302)之间能够在平面的区域(308)中被接触。

9.根据权利要求7所述的处理装置(100)，其中，所述带式输入闸门(202e)和/或所述带式输出闸门(202a)构建为使得密封带(332)能够在两个辊(330a，330b)之间连续环绕地引导并且所述密封带(332)能够在平面的区域(308)中接触所述带式基板(120)。

10.根据权利要求8或9所述的处理装置(100)，其中，所述平面的区域(308)沿着运输方向(101)具有大于10cm的长度。

11.根据权利要求7所述的处理装置(100)，其中，所述成形设备(102)还构建为，使得在所述带式基板(120)中分别在两个彼此相邻的预定义的期望弯折部位(120k)之间可以产生压印结构(322)，其中相应的压印结构(322)具有纵向延伸的加深部，其以第一长度沿着运输方向(101)延伸，并且其中所述带式输入闸门(202e)和/或所述带式输出闸门(202a)构建为使得带式基板(120)在平面的区域(308)中能够被密封，所述区域沿着运输方向(101)具有第二长度，第二长度大于第一长度。

12.一种用于处理带式基板(120)的方法，所述方法具有：

·沿着运输方向(101)断续地运输(130)所述带式基板(120)和借助对所述带式基板(120)的预定义的部段成形来产生期望弯折部位(120k)，其中所述期望弯折部位(120k)横向于所述运输方向(101)延伸并且在运输方向(101)上间隔地设置；

·将所述带式基板(120)断续地运输(130)到缓冲区域(114)并且将所述带式基板(120)在所述缓冲区域(114)借助在所产生的期望弯折部位(120k)处弯折所述带式基板(120)来缓冲；以及

·将所述带式基板(120)连续运输(132)离开所述缓冲区域(114)进入涂层设备(106)中并且将所述带式基板(120)在所述涂层设备(106)的涂层区域(116)中涂层。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，对所述带式基板(120)涂层具有将表面功能化施加到所述带式基板(120)上，用以制造燃料电池。

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