CN203451609U - 一种蒸镀坩埚 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种蒸镀坩埚，包括：容置装置、坩埚盖、阻挡装置；其中，所述坩埚盖安装于所述容置装置的开口处且所述坩埚盖设有蒸发孔；所述阻挡装置设于所述蒸发孔的下方位置，且所述阻挡装置的中心穿过有轴，所述轴安装于所述容置装置的内壁且与所述坩埚盖所处平面平行。本实用新型提供的一种蒸镀坩埚，通过阻挡装置阻挡蒸镀材料从容置装置中剧烈喷发及溅射，而且阻挡装置的表面可以粘附气态的蒸镀材料，避免了气态蒸镀材料由于冷却，在坩埚盖上的堆积现象，为一进步使蒸镀材料的蒸发速度均匀可控提供了可行的技术方案。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种蒸镀坩埚。
背景技术
在对显示装置的显示器件中的有机发光二极管（OLED，OrganicLight Emitting Diode）进行加工制造时，一般采用点源的半封闭口的蒸镀坩埚，图1为现有技术的蒸镀坩埚的结构图。如图1所示，所述蒸镀坩埚具有容置装置1，容置装置放置于加热源（例如点源）中，容置装置的开口处安装有坩埚盖2，坩埚盖设有蒸发孔201。其工作原理为：将蒸镀材料放入容置装置，蒸镀材料包括有机材料；将蒸镀坩埚置于点源中，点源加热蒸镀坩埚使气态蒸镀材料从坩埚盖的蒸发孔均匀蒸发出；坩埚盖的上方设有传感器，传感器用于检测所述气态蒸镀材料的蒸发速度；传感器将检测信号反馈回所述点源，使点源根据蒸镀材料的蒸发速度控制对蒸镀坩埚的加热强度。坩埚盖能够避免除蒸镀材料外的其他材料进入蒸镀坩埚造成污染；同时，所述坩埚盖也能够防止蒸镀材料从蒸镀坩埚中剧烈喷发及溅射，造成传感器损坏。
然而，现有技术的蒸镀坩埚具有如下缺点：在蒸镀时，容易造成蒸镀材料在坩埚盖上堆积，导致蒸镀材料的蒸发速率控制不稳，影响OLED器件的制作工艺。
实用新型内容
本实用新型提供一种蒸镀坩埚，用于解决现有技术中的蒸镀坩埚的蒸镀材料容易在坩埚盖堆积的问题。
本实用新型提供的一种蒸镀坩埚，包括：容置装置、坩埚盖、阻挡装置；
其中，所述坩埚盖安装于所述容置装置的开口处且所述坩埚盖设有蒸发孔；所述阻挡装置设于所述蒸发孔的下方位置，且所述阻挡装置的中心穿过有轴，所述轴安装于所述容置装置的内壁且与所述坩埚盖所处平面平行。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置在所述坩埚盖上的投影区域覆盖所述蒸发孔的面积区域。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为实心金属材料的阻挡装置。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为表面光滑的阻挡装置。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为球形，所述轴穿过所述阻挡装置的球心。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为椭球形，所述椭球形的阻挡装置的赤道半径相等，所述轴与所述阻挡装置的赤道半径重合或者所述轴与所述阻挡装置的极半径重合。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为圆柱形，所述轴与所述阻挡装置的轴心线重合。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为锥形，所述轴与所述阻挡装置的轴心线重合。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述容置装置顶部的横截面在所述容置装置底面的投影区域小于所述容置装置底面的面积区域。
进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述容置装置为钛合金圆桶。
本实用新型提供的一种蒸镀坩埚，通过阻挡装置阻挡蒸镀材料从容置装置中剧烈喷发及溅射，而且阻挡装置的表面可以粘附气态的蒸镀材料，避免了气态蒸镀材料由于冷却，在坩埚盖上的堆积现象，为一进步使蒸镀材料的蒸发速度均匀可控提供了可行的技术方案。
附图说明
图1为现有技术的蒸镀坩埚的结构图；
图2为本实用新型所述的蒸镀坩埚的结构图；
图3为本实用新型所述球形的阻挡装置；
图4为本实用新型所述椭球形的阻挡装置；
图5为本实用新型所述圆柱形的阻挡装置；
图6为本实用新型所述锥形的阻挡装置；
图7为本实用新型实施例的容置装置顶部面积小于底部面积的侧面剖视示意图；
图8为本实用新型实施例的容置装置顶部面积小于底部面积的俯视示意图。
具体实施方式
为了更好地理解本实用新型，下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步描述。
本实用新型实施例提供的一种蒸镀坩埚，图2为本实用新型所述的蒸镀坩埚的结构图，如图2所示，所述蒸镀坩埚包括：容置装置1、坩埚盖2、阻挡装置3；
其中，所述坩埚盖2安装于所述容置装置1的开口处101且所述坩埚盖2设有蒸发孔201；所述阻挡装置3设于所述蒸发孔201的下方位置，且所述阻挡装置3的中心穿过有轴301，所述轴301安装于所述容置装置的内壁102且与所述坩埚盖2所处平面平行。
坩埚盖位于最顶部，通过丝扣可以固定在容置装置上，主要是用来阻挡其他物体进入坩埚，造成污染；坩埚盖的中心位置设有蒸发孔，气态蒸镀材料从蒸发孔向上蒸发。
阻挡装置位于蒸镀坩埚内，其位置位于蒸发孔下方，阻挡装置的位置对应于所述蒸发孔的位置，阻挡装置的位置以不阻挡蒸镀材料的蒸汽流动为佳；阻挡装置通过轴置放于蒸镀坩埚内部，位于蒸镀材料的上方；阻挡装置在轴上的位置固定，即无法沿所述轴的方向运动，但是阻挡装置可以沿所述轴的轴向自由旋转。
当使用所述蒸镀坩埚进行蒸镀时，要使所述蒸镀坩埚的顶部、即开口位置处的温度高于所述蒸镀坩埚的底部温度、即容置装置底部的温度，这样才能使蒸镀坩埚的顶部的气态蒸镀材料达到均匀稳定的蒸发速度。如果没有采用所述阻挡装置，在蒸发孔的周围容易出现蒸镀材料的堆积现象。一般蒸镀坩埚的加热控制是在底部，对于顶部的温度一般不进行加热控制，因此，堆积的蒸镀材料有可能会因为高温而再次蒸发，从所述蒸发孔喷溅出而损坏上方的传感器，或者会增加气态蒸镀材料的蒸发量，而使蒸镀材料的蒸发速率不稳定、不均匀。
阻挡装置可以阻挡蒸镀材料直接从所述蒸发孔中喷溅，损坏蒸发孔上方的传感器。而且当蒸镀材料的蒸汽在阻挡装置上冷却、凝结从而造成堆积时，阻挡装置会因为堆积的蒸镀材料的重力作用而翻转，翻转后阻挡装置上带有堆积的蒸镀材料的一面会朝向地面，由于蒸镀坩埚自下而上的温度是升高的，因此下方的堆积的蒸镀材料不容易再次蒸发，保持蒸镀材料的蒸发速度均匀。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置在所述坩埚盖上的投影区域覆盖所述蒸发孔的面积区域。
阻挡装置在所述坩埚盖上的投影区域覆盖所述蒸发孔的面积区域是指阻挡装置的横截面面积大于蒸发孔面积，可以提高阻挡蒸镀材料喷溅的效果和保持蒸镀材料蒸发速度稳定的效果。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为实心金属材料的阻挡装置。
由于所述阻挡装置为实心金属材料，使所述阻挡装置的温度受周边温度影响变化小，因此所述阻挡装置对蒸镀材料的蒸发速率影响有限，即使有少量的蒸镀材料凝结在阻挡装置的表面，也不会很快挥发。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为表面光滑的阻挡装置。
由于阻挡装置的表面光滑，因此不容易造成蒸镀材料堆积于所述阻挡装置上。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，图3为本实用新型所述球形的阻挡装置，如图3所示，所述阻挡装置3为球形，所述轴301穿过所述阻挡装置3的球心。
球形对称均匀，如果表面光滑，更不易使蒸镀材料堆积，而且更容易旋转，采用球形阻挡装置可以达到最优的技术效果。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，图4为本实用新型所述椭球形的阻挡装置，如图4所示，所述阻挡装置3为椭球形，所述椭球形的阻挡装置的赤道半径（可以是长轴半径）相等，所述轴301与所述阻挡装置3的赤道半径重合或者所述轴301与所述阻挡装置3的极半径（可以是短轴半径）重合。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，图5为本实用新型所述圆柱形的阻挡装置，如图5所示，所述阻挡装置3为圆柱形，所述轴301与所述阻挡装置3的轴心线重合。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，图6为本实用新型所述锥形的阻挡装置，如图6所示，所述阻挡装置3为两端细中间粗的锥形，所述轴301与所述阻挡装置3的轴心线重合。
所述锥形的阻挡装置的横截面为圆形，所述锥形的阻挡装置的横截面为垂直于所述轴的面。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，所述容置装置顶部103的横截面在所述容置装置底面104的投影区域小于所述容置装置底面104的面积区域。
图7为本实用新型实施例的容置装置顶部面积小于底部面积的侧面剖视示意图，图8为本实用新型实施例的容置装置顶部面积小于底部面积的俯视示意图。如图7和图8所示，所述容置装置1的容置装置顶部103的横截面的面积小于所述容置装置底面104的横截面的面积，可以防止材料堆积在蒸镀坩埚的顶部，导致坩埚盖无法打开。
进一步，本实用新型实施例所述的蒸镀坩埚，所述容置装置为钛合金圆桶。
所述容置装置为圆柱形可以使其受热面积更加均匀，有利于精确控制蒸镀材料的蒸发速度，而钛合金材料为耐高温材料，不容易在高温下损坏。
以上仅为本实用新型的优选实施例，当然，本实用新型还可以有其他多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型做出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：容置装置、坩埚盖、阻挡装置；
其中，所述坩埚盖安装于所述容置装置的开口处且所述坩埚盖设有蒸发孔；所述阻挡装置设于所述蒸发孔的下方位置，且所述阻挡装置的中心穿过有轴，所述轴安装于所述容置装置的内壁且与所述坩埚盖所处平面平行。
2.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置在所述坩埚盖上的投影区域覆盖所述蒸发孔的面积区域。
3.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置为实心金属材料的阻挡装置。
4.如权利要求3所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置为表面光滑的阻挡装置。
5.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置为球形，所述轴穿过所述阻挡装置的球心。
6.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置为椭球形，所述椭球形的阻挡装置的赤道半径相等，所述轴与所述阻挡装置的赤道半径重合或者所述轴与所述阻挡装置的极半径重合。
7.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置为圆柱形，所述轴与所述阻挡装置的轴心线重合。
8.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述阻挡装置为锥形，所述轴与所述阻挡装置的轴心线重合。
9.如权利要求1～8任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述容置装置顶部的横截面在所述容置装置底面的投影区域小于所述容置装置底面的面积区域。
10.如权利要求1～8任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述容置装置为钛合金圆桶。
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| CN106191785A (zh) * | 2016-09-27 | 2016-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 坩埚、蒸镀装置及蒸镀系统 |
| CN110029311A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-07-19 | 新冶高科技集团有限公司 | 一种蒸镀装置及方法 |
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