CN203367238U - 一种湿法刻蚀水膜赶液系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种湿法刻蚀水膜赶液系统,包括若干滚轮,滚轮上方设置有喷淋装置,喷淋装置的一侧设置有阻水装置,阻水装置位于滚轮上方。使得水膜覆盖均匀,保护硅片正面PN结,同时减少水纹片。
Description
技术领域
本实用新型涉及湿法刻蚀硅片技术,具体是一种湿法刻蚀水膜赶液系统,利用阻水设施,实现硅片表面不易形成水纹状色斑的目的。
背景技术
随着太阳能电池湿法刻蚀技术的发展,漏电问题得到较好解决,同时碎片率较干法刻蚀有较大改善,且背面刻蚀后形成抛光面,有利于电性能提升。但同时湿法刻蚀也易造成刻蚀不完全或者过刻等问题,致使正反面导通,扩散面PN结被破坏,受光面积减少,从而导致漏电较大,电池性能急剧下降等问题。所以,湿法刻蚀的关键是要保证刻蚀完全,同时扩散面PN结不被破坏,减小漏电并最大限度的增加受光面积。
现有技术的技术方案:刻蚀机利用水膜喷淋覆盖技术,在扩散面喷淋水膜,利用SiO2亲水性将水吸附在表面,使扩散面PN结不易遭到破坏,在减小漏电同时最大限度的增加受光面积,提升效率,增加成品外观直通率。
现有技术的缺点:硅片由DOD喷石蜡打印掩膜,经喷淋管喷水后,在上表面形成一层水膜,但由于石蜡的疏水性,水膜覆盖并不完整,硅片上表面较多区域没有水膜保护,刻蚀槽高浓度的酸液挥发破坏表面的PN结,影响电性能;同时,由于腐蚀作用,硅片表面易形成水纹状色斑,致使镀膜后外观不合格,影响直通率。为了减轻影响,通常会加大水膜喷水量,这样又造成水膜上的水溢流到刻蚀槽,导致刻蚀液浓度下降,酸耗量增加,成本上升,同时造成DI水浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种湿法刻蚀水膜赶液系统,使得水膜覆盖均匀,保护硅片正面PN结,同时减少水纹片。
本实用新型的目的主要通过以下技术方案实现:一种湿法刻蚀水膜赶液系统,包括若干滚轮,滚轮上方设置有喷淋装置,喷淋装置的一侧设置有阻水装置,阻水装置位于滚轮上方。
阻水装置为具有切口平整端的挡水板,挡水板的切口平整端面向滚轮。
挡水板的切口平整端面与滚轮的间距为0 mm-5mm。
滚轮上方放置有硅片。
硅片形成有水膜。
上述系统可使水膜覆盖完全,表面PN结不被破坏,确保电性能不受影响;同时不会造成水纹片等外观不合格片从而影响成品直通率。
可保证在水膜覆盖完全情况下减少水喷淋量,节约成本。
在喷淋装置一侧加装阻水装置。
优选的阻水装置的实现手段有2种,一种是具有切口平整端的挡水板,另一种是轴线与滚轮轴线平行的挡水滚轮。还有其他形式的挡水装置也可以替换使用。凡是利用阻挡、挤压等方式使水膜覆盖完整均可替代本方案,如在喷淋装置前段加装一根挡水滚轮,利用上下滚轮的挤压作用使水膜覆盖完整,同时去除多余的DI水。
固定一块塑料挡板作为挡水板,硅片经喷淋管喷水淋湿后,行进至挡水板处时,利用挡水板将硅片表面的水膜刮平,使水膜覆盖均匀,保护硅片表面的PN结,同时可以将多余的水刮掉,防止多余的水流入刻蚀槽。
使用时,所有的滚轮均朝一个方向旋转,带动硅片向前行走,由喷淋装置喷射出来的水,在硅片上方形成一层水膜,利用阻水装置抵挡多余的水,使得水膜在硅片表面刮涂均匀。
优选的,挡水板远离滚轮的一端与喷淋装置连接。
优选的,挡水板的轴线与水平线呈10度至80度的夹角。
优选的,挡水板的轴线与水平线呈30度至60度的夹角。
优选的,挡水板的轴线与水平线呈45度的夹角。
优选的,阻水装置为轴线与滚轮轴线平行的挡水滚轮。
本实用新型的优点在于:水膜覆盖均匀,保护硅片正面PN结,同时减少水纹片等不合格品,提高直通率;塑料挡水板剪裁平整,利用极少水量即可保证水膜覆盖完全,节约用水,亦可避免多余的水流入刻蚀槽;塑料挡水板成本低廉,可用胶带粘贴固定,简便易行。
附图说明
图1为本实用新型的侧视示意图。
图中的附图标记分别表示为:1-挡水板,2-喷淋装置,3-水膜,4-硅片,5-滚轮。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步的详细说明,但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例1:
如图1所示。
一种湿法刻蚀水膜赶液系统,包括若干滚轮5,滚轮5上方设置有喷淋装置2,喷淋装置2的一侧设置有阻水装置,阻水装置位于滚轮5上方。
阻水装置为具有切口平整端的挡水板1,挡水板的切口平整端面向滚轮5。
挡水板的切口平整端面与滚轮的间距为0 mm-5mm。
滚轮5上方放置有硅片4。
硅片4形成有水膜3。
上述系统可使水膜覆盖完全,表面PN结不被破坏,确保电性能不受影响;同时不会造成水纹片等外观不合格片从而影响成品直通率。
可保证在水膜覆盖完全情况下减少水喷淋量,节约成本。
在喷淋装置一侧加装阻水装置,
优选的阻水装置的实现手段有2种,一种是具有切口平整端的挡水板,另一种是轴线与滚轮5轴线平行的挡水滚轮。还有其他形式的挡水装置也可以替换使用。凡是利用阻挡、挤压等方式使水膜覆盖完整均可替代本方案,如在喷淋装置前段加装一根挡水滚轮,利用上下滚轮的挤压作用使水膜覆盖完整,同时去除多余的DI水。
固定一块塑料挡板作为挡水板,硅片经喷淋管喷水淋湿后,行进至挡水板处时,利用挡水板将硅片表面的水膜刮平,使水膜覆盖均匀,保护硅片表面的PN结,同时可以将多余的水刮掉,防止多余的水流入刻蚀槽。
使用时,所有的滚轮均朝一个方向旋转,带动硅片向前行走,由喷淋装置喷射出来的水,在硅片上方形成一层水膜,利用阻水装置抵挡多余的水,使得水膜在硅片表面刮涂均匀。
实施例2
本实施例与实施例1的区别在于:优选的,挡水板远离滚轮的一端与喷淋装置2连接。
实施例3
本实施例与实施例1的区别在于:优选的,挡水板的轴线与水平线呈10度至80度的夹角。
实施例4
本实施例与实施例1的区别在于:优选的,挡水板的轴线与水平线呈30度至60度的夹角。
实施例5
本实施例与实施例1的区别在于:优选的,挡水板的轴线与水平线呈45度的夹角。
实施例6
本实施例与实施例1的区别在于:优选的,阻水装置为轴线与滚轮5轴线平行的挡水滚轮。
如上则可较好的实现本实用新型。
Claims (10)
1.一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:包括若干滚轮(5),滚轮(5)上方设置有喷淋装置(2),喷淋装置(2)的一侧设置有阻水装置,阻水装置位于滚轮(5)上方。
2.根据权利要求1所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:阻水装置为具有切口平整端的挡水板(1),挡水板的切口平整端面向滚轮(5)。
3.根据权利要求2所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:挡水板的切口平整端面与滚轮的间距为0 mm-5mm。
4.根据权利要求2所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:滚轮(5)上方放置有硅片(4)。
5.根据权利要求4所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:硅片(4)形成有水膜(3)。
6.根据权利要求2-5中任意一项所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:挡水板远离滚轮的一端与喷淋装置(2)连接。
7.根据权利要求2-5中任意一项所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:挡水板的轴线与水平线呈10度至80度的夹角。
8.根据权利要求2-5中任意一项所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:挡水板的轴线与水平线呈30度至60度的夹角。
9.根据权利要求2-5中任意一项所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:挡水板的轴线与水平线呈45度的夹角。
10.根据权利要求1所述的一种湿法刻蚀水膜赶液系统,其特征在于:阻水装置为轴线与滚轮(5)轴线平行的挡水滚轮。
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Cited By (6)
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CN106449492A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-02-22 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 刻蚀硅片水膜去水装置 |
CN106449865A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-22 | 泰州德通电气有限公司 | 一种光伏电池水膜刮水装置 |
CN106653656A (zh) * | 2016-12-19 | 2017-05-10 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 硅片水膜去水装置 |
CN106803481A (zh) * | 2017-03-20 | 2017-06-06 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 硅片去水膜设备 |
CN106992227A (zh) * | 2017-04-20 | 2017-07-28 | 通威太阳能(合肥)有限公司 | 一种太阳能电池板刻蚀水膜工艺 |
CN112436072A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-03-02 | 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 | 一种光伏电池水膜刮水装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN106449865A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-22 | 泰州德通电气有限公司 | 一种光伏电池水膜刮水装置 |
CN106449492A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-02-22 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 刻蚀硅片水膜去水装置 |
CN106653656A (zh) * | 2016-12-19 | 2017-05-10 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 硅片水膜去水装置 |
CN106803481A (zh) * | 2017-03-20 | 2017-06-06 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 硅片去水膜设备 |
CN106992227A (zh) * | 2017-04-20 | 2017-07-28 | 通威太阳能(合肥)有限公司 | 一种太阳能电池板刻蚀水膜工艺 |
CN112436072A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-03-02 | 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 | 一种光伏电池水膜刮水装置 |
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