CN203254079U - 等离子切割屏蔽罩 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种等离子切割屏蔽罩,所述等离子切割屏蔽罩呈现为由外圆锥面和内圆锥面组成的锥体结构,所述锥体结构的顶端设置有一个气流出口,所述锥体结构的四周设置有贯通所述外圆锥面和内圆锥面的通孔,所述内圆锥面的母线为曲线。本实用新型通过改进屏蔽罩的锥体结构,使保护气的气流方向不会突变,保护气气流沿屏蔽罩的轮廓逐渐变向,过度平稳,使等离子束更平稳,提高了切割质量,可广泛应用于等离子切割领域中。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种等离子切割部件,具体地,涉及一种等离子切割屏蔽罩。
背景技术
等离子切割利用高温等离子电弧的热量使工件切口处的金属局部熔化和蒸发,并借高速等离子的动量排除熔融金属以形成切口的一种加工方法。等离子切割系统主要由供气装置、电源以及割枪组成,等离子切割具有切割厚度大、切割灵活、装夹工件简单及可以切割曲线等优点,可以广泛应用于所有的金属材料和非金屑材料的切割。
现有屏蔽罩的出口内都有一段圆锥面,保护气从圆锥面向出口流动中,在交界处气流方向变化显著,保护气气流的速度和方向的突变会对等离子束产生冲击,引起等离子束的不确定性,影响了等离子束的稳定性,降低了等离子切割的质量,缩短了易损件的寿命,如图1和图2所示。
因此,开发出一种新型的等离子切割屏蔽罩成为当务之急。
实用新型内容
本实用新型的目的在于为了减少保护气的速度和方向的突变对等离子束的冲击而提供了一种等离子切割屏蔽罩,本实用新型通过改进屏蔽罩的锥体结构,使保护气的气流方向不会突变,保护气气流沿屏蔽罩的轮廓逐渐变向,过度平稳,使等离子束更平稳,提高切割质量。
本实用新型的目的通过以下技术方案实现,一种等离子切割屏蔽罩,所述等离子切割屏蔽罩呈现为由外圆锥面和内圆锥面组成的锥体结构,所述锥体结构的顶端设置有一个气流出口,所述锥体结构的四周设置有贯通所述外圆锥面和内圆锥面的通孔,所述内圆锥面的母线为曲线。
优选的,所述外圆锥面的母线为曲线;进一步优选的,所述通孔的数目为12个。优选的,所述曲线呈圆弧型、抛物线型、双曲线型、正弦线型或余弦线型,更优选的,所述等离子切割屏蔽罩的材料为铜。
与现有技术相比,本实用新型具有如下的有益效果:本实用新型将气流出口内的锥体的母线改为曲线,使保护气气流在锥体和出口交点处不会发生速度和方向的剧变,使保护气气流过渡更平稳,等离子束更稳定集中,提高了等离子束的质量,从而提高了等离子切割质量,延长了易损件的寿命。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1是现有技术中的等离子切割屏蔽罩的结构示意图。
图2是现有技术中的等离子切割屏蔽罩与喷嘴组合使用的结构示意图。
图3是本实用新型提供的等离子切割屏蔽罩的结构示意图。
图4是本实用新型提供的等离子切割屏蔽罩与喷嘴组合使用的结构示意图。
图中,1为锥体结构,2为外圆锥面,3为内圆锥面,4为通孔,5为气流出口。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本实用新型,但不以任何形式限制本实用新型。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本实用新型的保护范围。
实施例1、等离子切割屏蔽罩
如图3和图4所示的等离子切割屏蔽罩,所述等离子切割屏蔽罩呈现为由外圆锥面2和内圆锥面3组成的锥体结构1,所述锥体结构1的顶端设置有一个气流出口5,所述锥体结构1的四周设置有贯通所述外圆锥面和内圆锥面的通孔4,所述内圆锥面3的母线和所述外圆锥面2的母线均为曲线,所述通孔4的数目为12个,所述曲线呈抛物线型或双曲线型,所述等离子切割屏蔽罩的材料为铜。
实施例2、等离子切割屏蔽罩
一种等离子切割屏蔽罩,所述等离子切割屏蔽罩呈现为由外圆锥面和内圆锥面组成的锥体结构,所述锥体结构的顶端设置有一个气流出口,所述锥体结构的四周设置有贯通所述外圆锥面和内圆锥面的通孔,所述内圆锥面的母线和所述外圆锥面的母线均为曲线,所述通孔的数目为6个,所述曲线呈正弦线型或余弦线型,所述等离子切割屏蔽罩的材料为铜。
实施例3、等离子切割屏蔽罩
一种等离子切割屏蔽罩,所述等离子切割屏蔽罩呈现为由外圆锥面和内圆锥面组成的锥体结构,所述锥体结构的顶端设置有一个气流出口,所述锥体结构的四周设置有贯通所述外圆锥面和内圆锥面的通孔,所述内圆锥面的母线和所述外圆锥面的母线均为曲线,所述通孔的数目为3个,所述曲线呈圆弧型,所述等离子切割屏蔽罩的材料为铜。
以上对本实用新型的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本实用新型并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本实用新型的实质内容。
Claims (7)
1.一种等离子切割屏蔽罩,所述等离子切割屏蔽罩呈现为由外圆锥面和内圆锥面组成的锥体结构,所述锥体结构的顶端设置有一个气流出口,所述锥体结构的四周设置有贯通所述外圆锥面和内圆锥面的通孔,其特征在于,所述内圆锥面的母线为曲线。
2.根据权利要求1所述的等离子切割屏蔽罩,其特征在于,所述外圆锥面的母线为曲线。
3.根据权利要求2所述的等离子切割屏蔽罩,其特征在于,所述通孔的数目为12个。
4.根据权利要求1所述的等离子切割屏蔽罩,其特征在于,所述曲线呈圆弧型。
5.根据权利要求1所述的等离子切割屏蔽罩,其特征在于,所述曲线呈抛物线型或双曲线型。
6.根据权利要求1所述的等离子切割屏蔽罩,其特征在于,所述曲线呈正弦线型或余弦线型。
7.根据权利要求4或5或6所述的等离子切割屏蔽罩,其特征在于,所述等离子切割屏蔽罩的材料为铜。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102015101532A1 (de) * | 2015-02-03 | 2016-08-04 | Kjellberg Stiftung | Düse für Plasmalichtbogenbrenner |
CN110446324A (zh) * | 2019-08-23 | 2019-11-12 | 常州汉劼生物科技有限公司 | 电极组件及使用该电极组件的等离子体发生装置 |
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2013
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