CN203096163U - 一种磁场均匀镀膜调节装置 - Google Patents
一种磁场均匀镀膜调节装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN203096163U CN203096163U CN 201320089079 CN201320089079U CN203096163U CN 203096163 U CN203096163 U CN 203096163U CN 201320089079 CN201320089079 CN 201320089079 CN 201320089079 U CN201320089079 U CN 201320089079U CN 203096163 U CN203096163 U CN 203096163U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- magnet
- magnetic field
- adjusting device
- setting device
- model
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种磁场均匀镀膜调节装置，包括阴极底座，阴极底座上安装有阴极靶，其特征在于：阴极底座与磁铁相向隔离设置，磁铁上设有至少两块可移动的磁铁背板，磁铁背板外侧连接有调节装置。本实用新型通过设置多块可移动的磁铁背板和设置在其上带刻度标识的调节装置，可精确地调节磁铁到靶面的距离，保持靶面磁场强度的一致性，膜层性能均匀。本实用新型不仅结构简单，调节方便，镀膜效果好，而且提高了生产效率，简化了调节磁场的步骤。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空磁控溅射镀膜设备技术领域，特别是一种磁场均匀镀膜调节装置。
背景技术
近几十年来,磁控溅射技术已经成为最重要的沉积镀膜方法之一,广泛应用于工业生产和科学研究领域。如在现代机械加工工业中,利用磁控溅射技术在工件表面镀制功能膜、超硬膜、自润滑薄膜。在光学领域,利用磁控溅射技术制备增透膜、低辐射膜和透明导膜,隔热膜等。在微电子领域和光、磁记录领域磁控溅射技术也发挥着重要作用。
所谓溅镀指的是用荷能粒子(例如氢(氩）离子)轰击固体表面而引起诸如原子、分子或团束等的各种粒子从该固体表面逸出的现象，被轰击的固体通常称为靶材。在真空磁控溅射镀膜中，磁场均匀性非常重要，关乎着膜层厚度的均匀性，磁场在靶面要达到绝对的均匀是很难的，传统的方法为在磁铁上加铁片以达到弱化磁场的目的，该方式调节存在以下不足：一、在磁铁上加铁片需要停机破真空，将靶材拆卸下来才可以进行，操作繁琐，操作时间长；二、停机破真空加铁片后需进行磁场均匀性调试，而一次性加入铁片不能完成磁场均匀性调节，需多次调节，调节的过程需重新停机再开机调试，非常浪费时间，影响产量。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有技术的不足，提供一种磁场均匀镀膜调节装置，能够在不停机的情况下进行调节，甚至可以在镀膜生产过程中微调磁场均匀性而不影响生产，大大地提高了生产效率，简化了调节磁场的步骤。
一种磁场均匀镀膜调节装置，包括阴极底座，阴极底座上安装有阴极靶，其特征在于：阴极底座与磁铁相向隔离设置，磁铁上设有至少两块可移动的磁铁背板，磁铁背板外侧连接有调节装置。
所述的调节装置包括固定在磁体背板两端的调节螺栓和调节螺栓上的固定压板。
所述的调节螺栓上带有长度的刻度标识。
本实用新型具有以下优点：
1、本实用新型通过设置多块可移动的磁铁背板和设置在其上带刻度标识的调节装置，可精确地调节磁铁到靶面的距离，保持靶面磁场强度的一致性，膜层性能均匀；
2、本实用新型能够在不停机的情况下进行调节，甚至可以在镀膜生产过程中微调磁场均匀性而不影响生产，大大地提高了生产效率，简化了调节磁场的步骤。
附图说明
附图1为本实用新型所述磁场均匀镀膜调节装置的结构示意图。
图中：1-调节螺栓，2-固定板，3-磁铁背板，4-磁铁，5-阴极底座，6-阴极靶。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型做进一步说明：
在本实施例中，如图1所示，一种磁场均匀镀膜调节装置，包括阴极底座5，阴极底座5上安装有阴极靶6，阴极底座5与磁铁4相向隔离设置。
本实用新型做了进一步的改进，如图1所示，磁铁5上设有至少两块可移动的磁铁背板3，在本实施例中，磁铁5上设有两块磁铁背板3，磁铁背板3外侧连接有调节装置，调节装置包括固定在磁体背板3两端的调节螺栓1和调节螺栓1上的固定压板2，调节螺栓1上带有长度的刻度标识，调节螺栓1通过固定板2压紧。
本实用新型的工作原理：本实用新型可根据实际需要设置多个分开的磁铁背板，在生产ITO导电玻璃进行磁场的调节时，按照本实施例，该磁场均匀镀膜调节装置主要有两个分开的磁铁背板、四块固定板、四个调节螺栓进行调节。当发现ITO导电玻璃上半部分电阻过低或者过高时，就可以调节磁铁背板上面的调节螺栓，通过调节螺栓上的长度刻度标识，进行精准调节，使磁场远离或接近靶材，弱化或者增强磁场，达到升高或者降低ITO导电电阻的目的。
Claims (3)
1.一种磁场均匀镀膜调节装置，包括阴极底座，阴极底座上安装有阴极靶，其特征在于：阴极底座与磁铁相向隔离设置，磁铁上设有至少两块可移动的磁铁背板，磁铁背板外侧连接有调节装置。
2.根据权利要求1所述的磁场均匀镀膜调节装置，其特征在于：所述的调节装置包括固定在磁体背板两端的调节螺栓和调节螺栓上的固定压板。
3.根据权利要求1所述的磁场均匀镀膜调节装置，其特征在于：所述的调节螺栓上带有长度的刻度标识。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201320089079 CN203096163U (zh) | 2013-02-27 | 2013-02-27 | 一种磁场均匀镀膜调节装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201320089079 CN203096163U (zh) | 2013-02-27 | 2013-02-27 | 一种磁场均匀镀膜调节装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203096163U true CN203096163U (zh) | 2013-07-31 |
Family
ID=48847581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201320089079 Expired - Fee Related CN203096163U (zh) | 2013-02-27 | 2013-02-27 | 一种磁场均匀镀膜调节装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203096163U (zh) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103817662A (zh) * | 2014-02-14 | 2014-05-28 | 爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司 | 金属基片装卡工作台 |
| CN103849846A (zh) * | 2014-03-07 | 2014-06-11 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁体用调节机构 |
| CN103924200A (zh) * | 2013-12-30 | 2014-07-16 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种薄膜沉积装置 |
| CN104178741A (zh) * | 2013-05-23 | 2014-12-03 | Iruja有限公司 | 具有分割型磁体的溅射装置 |
| CN105714261A (zh) * | 2016-04-15 | 2016-06-29 | 河北物华天宝镀膜科技有限公司 | 一种旋转阴极磁棒装置 |
| CN108570648A (zh) * | 2017-03-08 | 2018-09-25 | 中国南玻集团股份有限公司 | 可调平面阴极机构及真空镀膜装置 |
| CN110885965A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-03-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 |
| CN111826623A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-10-27 | 浙江上方电子装备有限公司 | 用于实施磁控溅射的磁控管 |
| CN115537748A (zh) * | 2022-11-28 | 2022-12-30 | 中科纳微真空科技(合肥)有限公司 | 一种可调节磁场的旋转阴极磁棒和磁控溅射设备 |
-
2013
- 2013-02-27 CN CN 201320089079 patent/CN203096163U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104178741A (zh) * | 2013-05-23 | 2014-12-03 | Iruja有限公司 | 具有分割型磁体的溅射装置 |
| CN103924200A (zh) * | 2013-12-30 | 2014-07-16 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种薄膜沉积装置 |
| US9449799B2 (en) | 2013-12-30 | 2016-09-20 | Shanghai Tianma AM-OLED Co., Ltd. | Film deposition device |
| CN103924200B (zh) * | 2013-12-30 | 2017-07-04 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种薄膜沉积装置 |
| CN103817662A (zh) * | 2014-02-14 | 2014-05-28 | 爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司 | 金属基片装卡工作台 |
| CN103849846A (zh) * | 2014-03-07 | 2014-06-11 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁体用调节机构 |
| CN103849846B (zh) * | 2014-03-07 | 2015-12-09 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁体用调节机构 |
| CN105714261A (zh) * | 2016-04-15 | 2016-06-29 | 河北物华天宝镀膜科技有限公司 | 一种旋转阴极磁棒装置 |
| CN108570648A (zh) * | 2017-03-08 | 2018-09-25 | 中国南玻集团股份有限公司 | 可调平面阴极机构及真空镀膜装置 |
| CN110885965A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-03-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 |
| WO2021088658A1 (zh) * | 2019-11-04 | 2021-05-14 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 |
| CN110885965B (zh) * | 2019-11-04 | 2021-07-13 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 |
| US11732346B2 (en) | 2019-11-04 | 2023-08-22 | Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. | Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus |
| CN111826623A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-10-27 | 浙江上方电子装备有限公司 | 用于实施磁控溅射的磁控管 |
| CN115537748A (zh) * | 2022-11-28 | 2022-12-30 | 中科纳微真空科技(合肥)有限公司 | 一种可调节磁场的旋转阴极磁棒和磁控溅射设备 |
| CN115537748B (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-10 | 中科纳微真空科技(合肥)有限公司 | 一种可调节磁场的旋转阴极磁棒和磁控溅射设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN203096163U (zh) | 一种磁场均匀镀膜调节装置 | |
| CN103806042B (zh) | 碳纤维电镀铁镍合金的制备方法 | |
| CN104726822A (zh) | 一种基于CrC镀层的高速精密球轴承及其制作方法 | |
| CN202576553U (zh) | 磁控溅射靶材 | |
| CN108390013A (zh) | 一种锂离子电池电极材料表面纳米金属修饰方法 | |
| CN107946525A (zh) | 锂离子电池外置涂层的微孔隔膜及配套涂层浆料配方 | |
| CN202307784U (zh) | 一种磁控溅射用平面阴极 | |
| CN103938175A (zh) | Ecr基板前置过滤网控制下的电子照射加工碳膜方法 | |
| CN202148349U (zh) | 一种磁控溅射用阴极 | |
| CN106449890A (zh) | 一种太阳能光伏焊带的制备方法 | |
| CN203683652U (zh) | 一种磁控溅射镀膜装置 | |
| CN204779787U (zh) | 一种磁控溅射靶枪 | |
| CN102565180A (zh) | 一种钼同位素丰度负热电离质谱测量方法 | |
| CN204325486U (zh) | 一种用于氮化硅沉积的磁控溅射镀膜设备 | |
| CN203976900U (zh) | 一种溅射镀膜的靶材结构 | |
| CN203462120U (zh) | 一种矩形平面磁控溅射阴极 | |
| CN102230160B (zh) | 一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法 | |
| CN105714261A (zh) | 一种旋转阴极磁棒装置 | |
| CN105088140A (zh) | 一种铜铝合金晶振片镀膜工艺 | |
| CN204752843U (zh) | 磁控溅射镀膜设备 | |
| CN204727943U (zh) | 磁控溅射镀膜设备 | |
| CN208430226U (zh) | 一种连续镀膜工艺室 | |
| CN204342869U (zh) | 一种靶材组件 | |
| CN206902228U (zh) | 一种绝缘性好靶材利用率高的磁控溅射阴极装置 | |
| CN201670872U (zh) | 矩形平面磁控靶 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130731 Termination date: 20170227 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |