CN204342869U - 一种靶材组件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种靶材组件，其包括靶材和背板，所述靶材在背板上，所述靶材沿长度方向的两端末分别设有凸台，所述凸台与靶材等宽，凸台的高度为5-10mm，凸台的长度为60-80mm。由于在靶材沿长度方向的两端末设置凸台，这样可以保证在镀膜的过程中，不会因为材料损耗更快而产生击穿的现象，提高镀膜工作的顺畅性。另外，本实用新型结构简单、生产方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种异型结构靶材组件。
背景技术
磁控溅射是以一定能量的粒子（离子或中性原子、分子）轰击固体表面，使固体近表面的粒子获得足够大的能量而最终逸出固体表面，在此过程中，被轰击的固体称为靶材组件，靶材组件由靶材与背板组成。
靶材在溅射镀膜的过程中，位于靶材长度方向两端的磁感线强度较大，因此，靶材两端末的材料损耗速度比靶材中部快，而现有技术中靶材各处的厚度都是相同，这样会导致靶材两端末产生击穿，若靶材击穿了，镀膜设备就会停机，从而影响镀膜的工作。
发明内容
为了解决现有技术中的不足，本实用新型的目的在于提供一种结构简单，能保证镀膜工作顺利进行的一种异型结构靶材组件。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种异型结构靶材组件，包括靶材和背板，所述靶材在背板上，所述靶材沿长度方向的两端末分别设有凸台，所述凸台与靶材等宽，凸台的高度为5-10mm，凸台的长度为60-80mm。
所述凸台的高度为8mm。
所述凸台的长度为70mm。
所述靶材由至少两块以上的单元块靶型材组成，单元块靶型材沿背板的长边方向顺序拼接。
本实用新型采用以上技术方案，由于在靶材沿长度方向的两端末设置凸台，这样可以保证在镀膜的过程中，不会因为材料损耗更快而产生击穿的现象，提高镀膜工作的顺畅性。另外，本实用新型结构简单、生产方便。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细说明：
图1为本实用新型一种异型结构靶材组件的正视图；
图2为本实用新型一种异型结构靶材组件的俯视图。
具体实施方式
如图1或图2所示，本实用新型一种异型结构靶材组件，包括靶材1和背板2，所述靶材1在背板2上，所述靶材1沿长度方向的两端末分别设有凸台3，所述凸台3与靶材1等宽，凸台3的高度为5-10mm，凸台3的长度为60-80mm。
所述凸台3的高度为8mm。
所述凸台3的长度为70mm。
所述靶材1由至少两块以上的单元块靶型材11组成，单元块靶型材11沿背板2的长边方向顺序拼接。这样的结构，靶材1的生产工艺比较简单，制造成本低。
本实用新型由于在靶材1沿长度方向的两端末设置凸台3，凸台3可以增加靶材1两端末的材料量，这样可以保证在镀膜的过程中，不会因为材料损耗更快而产生击穿的现象，提高镀膜工作的顺畅性。
Claims (3)
1.一种靶材组件，包括靶材和背板，所述靶材在背板上，其特征在于：所述靶材沿长度方向的两端末分别设有凸台，所述凸台与靶材等宽，凸台的高度为5-10mm，凸台的长度为60-80mm；所述靶材由至少两块以上的单元块靶型材组成，单元块靶型材沿背板的长边方向顺序拼接。
2.根据权利要求1所述的一种靶材组件，其特征在于：所述凸台的高度为8mm。
3.根据权利要求1所述的一种靶材组件，其特征在于：所述凸台的长度为70mm。
Priority Applications (1)
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| CN201420574600.4U CN204342869U (zh) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 一种靶材组件 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201420574600.4U CN204342869U (zh) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 一种靶材组件 |
Publications (1)
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| CN204342869U true CN204342869U (zh) | 2015-05-20 |
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN204342869U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112902888A (zh) * | 2021-01-19 | 2021-06-04 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种靶材组件的厚度评价方法 |
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2014
- 2014-09-30 CN CN201420574600.4U patent/CN204342869U/zh not_active Expired - Fee Related
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