CN203064798U - 吸盘 - Google Patents

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Abstract

一种吸盘,由硬质骨架和软质外包层组成,软质外包层包裹硬质骨架形成吸盘,吸盘呈长方体板状,分为上表面和下表面,上表面有至少两个通气孔,下表面有至少两组通气孔,上表面的通气孔和下表面的通气孔通过通气道相连,通气道靠近上表面的横截面面积小于靠近下表面的横截面面积,吸盘有至少两个固定穿孔,吸盘的上表面形成一个平面,在环绕吸盘的上表面的通气孔位置有至少一圈均匀凸起,吸盘的下表面有多条通道,并且沿着吸盘的下表面边缘有一个连续的裙边。本实用新型产生的有益效果是:吹气孔的设计可以形成由中间向四周的气流,可以有效地减少片状物品表面的粉尘和碎片堆积,降低片状物品异常掉落的概率。

Description

吸盘
技术领域
本实用新型涉及自动化设备技术领域,具体涉及吸盘。
背景技术
在自动化技术中,对于表面光滑的片状物品往往采用真空吸盘吸附的方法进行抓取。当片状物品表面有粉尘和碎片的时候,粉尘和碎片往往会被吸入抽气泵,导致气泵的损坏,另外,片状物品表面残留的粉尘和碎片在真空吸盘吸附过程中会吸附到真空吸盘的接触部位,导致漏气,杂质在片状物品表面形成空隙导致不能形成真空,无法吸取片状物品。
由此可见,上述现有真空吸盘仍存在缺陷,而亟待加以改进。
有鉴于上述现有真空吸盘存在的缺陷,本设计人基于从事此类产品设计制造多年,积有丰富的实务经验及专业知识,积极加以研究创新,以期创设一种吸盘,能够改进一般市面上现有真空吸盘的成型结构,使其更具有竞争性。经过不断的研究、设计,并经反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本实用新型。
发明内容
本实用新型所要解决的主要技术问题在于,克服现有的真空吸盘存在的缺陷,而提供吸盘,克服了现有真空吸盘存在的缺陷,降低了粉尘和碎片对自动化进程的影响,减小了片状物品被抓取过程中脱落的概率。
本实用新型解决其主要技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本实用新型提出的吸盘,由硬质骨架和软质外包层组成,软质外包层包裹硬质骨架形成吸盘,吸盘呈长方体板状,分为上表面和下表面,上表面有至少两个通气孔,下表面有至少两组通气孔,上表面的通气孔和下表面的通气孔通过通气道相连,通气道靠近上表面的横截面面积小于靠近下表面的横截面面积,吸盘有至少两个固定穿孔,吸盘的上表面形成一个平面,在环绕吸盘的上表面的通气孔位置有至少一圈均匀凸起,吸盘的下表面有多条通道,并且沿着吸盘的下表面边缘有一个连续的裙边。
更好地,所述下表面有方形凸起阵列,各个方形凸起的表面在同一个平面,相邻方形凸起的间隙形成多条通道。
更好地,所述通气道截面呈等腰梯形。
更好地,所述上表面的通气孔的直径越靠近上表面几何中心越小。
本实用新型所述的吸盘,其产生的有益效果是:吹气孔的设计可以形成由中间(心)向四周的气流,气流沿着下表面的多条通道流动,可以有效地减少片状物品表面的粉尘和碎片堆积,提高吸盘抓取片状物品的力度,降低片状物品异常掉落的概率。
附图说明
图1为本实用新型的实施例的下表面的俯视示意图。
图2为本实用新型的实施例的侧视示意图。
图3为本实用新型的实施例的上表面的俯视示意图。
图4为本实用新型的实施例的上表面的整体立体结构示意图。
图5为本实用新型的实施例的下表面的整体立体结构示意图。
图6为本实用新型的实施例的通气道部位的截面示意图。
附图标记说明:1、上表面;2、下表面;3、通气孔;4、固定穿孔;5、一圈均匀凸起;6、方形凸起;7、裙边;8、通气道。
具体实施方式
以下结合附图及较佳实施例,对依据本实用新型提出的其具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。
请参阅图1到图6所示,本实用新型的吸盘,由硬质骨架和软质外包层组成,软质外包层包裹硬质骨架形成吸盘,吸盘呈长方体板状,分为上表面1和下表面2,上表面1有至少两个通气孔3,下表面2有至少两组通气孔3,上表面1的通气孔3和下表面2的通气孔3通过通气道相连,通气道靠近上表面1的横截面面积小于靠近下表面2的横截面面积,吸盘有四个固定穿孔4,吸盘的上表面1形成一个平面,在环绕吸盘的上表面1的通气孔3位置有一圈均匀凸起5,吸盘的下表面2有多条通道,并且沿着吸盘的下表面2边缘有一个连续的裙边7。下表面2有方形凸起6阵列,各个方形凸起6的表面在同一个平面,相邻方形凸起6的间隙形成多条通道。通气道8截面呈等腰梯形。
上表面1的通气孔3的直径越靠近上表面1几何中心越小。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (4)

1.一种吸盘,由硬质骨架和软质外包层组成,软质外包层包裹硬质骨架形成吸盘,其特征在于:所述吸盘呈长方体板状,分为上表面和下表面,所述上表面有至少两个通气孔,所述下表面有至少两组通气孔,所述上表面的通气孔和下表面的通气孔通过通气道相连,所述通气道靠近上表面的横截面面积小于靠近下表面的横截面面积,所述吸盘有至少两个固定穿孔,所述吸盘的上表面形成一个平面,在环绕吸盘的上表面的通气孔位置有至少一圈均匀凸起,所述吸盘的下表面有多条通道,并且沿着吸盘的下表面边缘有一个连续的裙边。
2.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于:所述下表面有方形凸起阵列,各个方形凸起的表面在同一个平面,相邻方形凸起的间隙形成多条通道。
3.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于:所述通气道截面呈等腰梯形。
4.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于:所述上表面的通气孔的直径越靠近上表面几何中心越小。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109331334A (zh) * 2018-10-24 2019-02-15 彭凯 一种电极吸盘
CN110779472A (zh) * 2018-07-30 2020-02-11 由田新技股份有限公司 载台装置与平面度检测调整设备
US11309209B2 (en) 2017-03-31 2022-04-19 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. Wafer holder and wafer transfer apparatus, system and method

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Patentee after: Shenzhen hero Automation Technology Co., Ltd.

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Patentee before: Peng Kaixiong

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