CN203012303U

CN203012303U - 一种新型转印板

Info

Publication number: CN203012303U
Application number: CN 201220380346
Authority: CN
Inventors: 邵勇
Original assignee: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Priority date: 2012-08-01
Filing date: 2012-08-01
Publication date: 2013-06-19
Anticipated expiration: 2022-08-01

Abstract

本实用新型公开了一种新型转印板，包括转印层（9）和基膜（10）；所述转印板活性区域（11）的边缘设置为圆弧形。本实用新型可解决目前PI膜的光晕区域（Haro area）明显、PI膜边缘与Seal胶交叠所引起的显示不良的问题。

Description

一种新型转印板

技术领域

本实用新型涉及薄膜场效应晶体管（TFT）-液晶显示器（LCD）工艺中的聚酰亚胺（PI）液转印技术，尤其涉及一种新型转印（APR）板。

背景技术

在现有TFT-LCD的制作工艺中，为了得到亮度均匀、对比度高、以及响应速度快的产品，必须使液晶盒内的液晶分子沿着某一特定的方向排列，为此必须在氧化铟锡（ITO）玻璃基板上形成一层均匀的PI液，制作工艺中所使用的涂布装置如图1所示，工艺流程如下：首先，将PI液通过分液器（Dispenser）3滴加到网纹辊（Anilox Roll）1与刀辊（Blade Roll）2接触的位置，刀辊（Blade Roll）2把网纹辊（Anilox Roll）1上的PI液涂布均匀，网纹辊（Anilox Roll）1与挂有形成图形的APR板4的版胴7相接触，将PI液转印到APR板4上，最后通过APR板4把PI液印刷到玻璃基板5的表面形成取向膜。如图2所示，所述APR板4由APR层9和基膜10两部分构成，APR层9较厚的位置为APR板的活性区域11。

在实际生产过程中，APR板与玻璃基板之间的作用力，也就是涂布压力作用在APR板的末端，使得PI液向玻璃基板的四周扩散，导致APR板边缘的PI液以过于饱和的状态印刷到玻璃基板活性区域（Active area）的四周，导致PI膜的膜质不均匀，且过厚，产生光晕区域（Haro area）。所述玻璃基板的活性区域（Active area）为图3中15所示，所述光晕区域（Haro area）为图3中14所示，光晕区域（Haro area）14的PI膜厚度要大于活性区域（Active area）15的PI膜厚度。因光晕区域（Haro area）的液晶不能正常取向，所以光晕区域（Haro area）不能出现在玻璃基板的活性区域（Active Area）内。此外，光晕区域（Haro area）还会引起液晶盒间隙增加，导致异物进入，影响液晶显示器的品质。

为了解决上述问题，目前工业上主要通过扩大PI膜的边缘余量（Edge Margin）来控制光晕区域（Haro area）对液晶显示器品质的影响，所述边缘余量（Edge Margin）如图3中a所示，即活性区域（Active area）15到PI膜边缘的距离。事实上，光晕区域（Haro area）的尺寸并没有减小，只是远离了活性区域（Active area）。这样，又会引起PI液与密封（Seal）胶的交叠，特别是在生产小尺寸产品的时候该问题尤为突出，严重影响液晶的显示品质。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种新型APR板，从而解决目前PI膜的光晕区域（Haro area）明显、PI膜边缘与Seal胶交叠所引起的显示不良的问题。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种新型转印板，包括转印层（9）和基膜（10）；所述转印板活性区域（11）的边缘设置为圆弧形。

上述方案中，所述圆弧的终点d位于转印板活性区域的边缘，终点d处的切线与转印板平面之间成一夹角Φ。

上述方案中，所述夹角Φ设置为：30°≤Φ≤60°。

上述方案中，所述圆弧区域中的网点比非圆弧处理区域中的网点排列稀疏。

本实用新型提供的新型APR板，对APR板活性区域的边缘进行圆弧处理，应用这种新型的APR板转印PI液时，因为APR板末端过于饱和的PI液被吸附在凹槽内，而这些凹槽与玻璃基板的距离比非圆弧处理区域与玻璃基板的距离大一些，所以APR板末端与玻璃基板之间的涂布压力就小一些，因此，本实用新型的APR板在转印PI液时，在玻璃基板上几乎不会形成光晕区域（Haro area），也就是说，光晕区域（Haro area）的尺寸将大幅降低，应用这种新型的APR板在转印PI液的过程中，即便在APR板的末端有较强的涂布压力，也能在玻璃基板上形成厚度均匀的取向膜，提高了PI液的涂覆精度。

另外，因本实用新型APR板末端与玻璃基板之间的涂布压力相对较小，所以本实用新型在玻璃基板上所形成的边缘余量（Edge Margin）比现有的边缘余量（Edge Margin）小，可在一定程度上节省PI液的用量。

此外，本实用新型圆弧处理区中所设置的网点比非圆弧处理区中的网点稀疏，所以圆弧处理区可吸附更多的PI液，同样降低光晕区域（Haro area）形成的可能性。

附图说明

图1为现有TFT-LCD制作工艺中所使用的涂布装置结构示意图；

图2为现有APR板的剖视图和平面图；

图3为现有APR板转印PI液时的剖视图和玻璃基板的平面图；

图4为本实用新型APR板的剖视图和平面图；

图5为本实用新型APR板转印PI液时的剖视图和玻璃基板的平面图。

附图标记说明：

1网纹辊（Anilox Roll）；2刀辊（Blade Roll）；3分液器（Dispenser）；4APR板；5玻璃基板；6基台；7版胴；8PI液；9APR层；10基膜；11活性区域；12假想线；13圆弧处理区；点c为圆弧的起点；点d为圆弧的终点；Φ为点d的切线与基膜的夹角；14光晕区域（Haro area）；15活性区域（Active area）；16凹槽；a、b为边缘余量（Edge Margin）。

具体实施方式

本实用新型的基本思想是：将APR板活性区域的边缘设置为圆弧形，使得在转印PI液时，能在玻璃基板上形成均匀的PI液涂层。

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

图4为本实用新型APR板的剖视图和平面图，对APR板活性区域的边缘做圆弧处理，如图4所示，在假想线12以外的区域做圆弧处理，在剖视图中，点c为圆弧处理的起点，位于所述假想线12上，点c处的切线，即图4中的点划线与APR板平面平行。点d为圆弧处理的终点与取向膜末端的交界处，位于APR板活性区域的边缘，点d处的切线，即图4中的点划线与APR板平面的夹角为Φ，根据APR板不同的尺寸，Φ的大小可设置为30°≤Φ≤60°。APR板的尺寸越大，所设置的Φ则越小；APR板的尺寸越小，所设置的Φ则越大，原因为：如果APR板的尺寸较大，其边缘余量（edge margin）也相应较大，因此APR板活性区域的圆弧设置得比较平滑，所以Φ较小；如果APR板的尺寸较小，其边缘余量（edge margin）也相应较小，因此APR板活性区域的圆弧设置得比较陡，所以Φ较大。

图5为本实用新型APR板转印PI液时的剖视图和玻璃基板的平面图，结合图4和图5可以看出，本实用新型的APR板在转印PI液时，挤压到APR板边缘位置的，即挤压到APR板圆弧处理区的，过饱和的PI液被吸附在APR板的凹槽16内，而这些凹槽与玻璃基板的距离较现有技术来说较大，所以APR板末端与玻璃基板之间的涂布压力较现有技术来说较小，过饱和的PI液基本不会涂覆到玻璃基板上，而是停留在APR板的圆弧处理区。因此，本实用新型的APR板在转印PI液时，在玻璃基板上几乎不会形成光晕区域（Haro area），所以，不管在玻璃基板活性区域（Active area）的内侧还是外侧，PI膜的厚度都是均匀一致的，如图5所示。

进一步地，本实用新型还对APR板圆弧处理区中的网点排列进行如下设置：如图4所示，与APR板假想线12内侧的网点相比，所述圆弧处理区中的网点排列相对稀疏些，这样，圆弧处理区中的凹槽16与假想线12内侧的凹槽相比，容积更大一些，可吸附更多的PI液，同样可降低光晕区域（Haro area）形成的可能性。

此外，因APR板末端与玻璃基板之间的涂布压力变小，所以APR板转印时，在玻璃基板上所形成的边缘余量（Edge Margin）比现有的边缘余量（Edge Margin）小，即图5中所示的b小于图3中所示的a，也就是说，在玻璃基板上涂覆的PI液相对现有技术有所减少，因此本实用新型可在一定程度上节省PI液的用量。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。

Claims

1.一种新型转印板，包括转印层（9）和基膜（10）；其特征在于，所述转印板活性区域（11）的边缘设置为圆弧形。

2.根据权利要求1所述的新型转印板，其特征在于，所述圆弧的终点d位于转印板活性区域的边缘，终点d处的切线与转印板平面之间成一夹角Φ。

3.根据权利要求2所述的新型转印板，其特征在于，所述夹角Φ设置为：30°≤Φ≤60°。

4.根据权利要求1、2或3所述的新型转印板，其特征在于，所述圆弧区域中的网点比非圆弧处理区域中的网点排列稀疏。