CN202921182U - 一种洁净溶镍装置 - Google Patents

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刘焕利
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Abstract

本实用新型涉及一种溶解装置,具体来说是一种洁净溶镍装置。它包括原料添加反应池、沉淀反应池、溶镍槽和储液罐,所述原料添加反应池、沉淀反应池、溶镍槽和储液罐通过管道顺序连接,所述储液罐与所述原料添加反应池通过管道相连,所述储液罐和所述原料添加反应池之间的管道上连接有泵,所述溶镍槽内置有过滤板。它将所有部件通过管道顺序连接后首尾连接,形成类似环形的回路,让整个溶解过程循环往复,使溶质更好的溶解于溶液,能进一步提高反应速率,可以边反应边过滤,起到了反应过滤的双重作用,大大降低了生产设备的制造成本,且特别适合于各种盐类的溶解反应。

Description

一种洁净溶镍装置
技术领域
本实用新型涉及一种溶解装置,具体来说是一种洁净溶镍装置,它不仅可以应用于电子镍箔系统及电镀镍系统中,还可以作为电镀行业中各种盐类溶解反应的添加系统和过滤装置。
背景技术
在电子镍箔系统及电镀镍系统中,碳酸镍(Nico3)是主要的溶质,溶解碳酸镍并过滤的装置是必不可少的一部分,目前市面上的溶解过滤装置仍存在一些溶解不充分的问题,为了使溶质更好的溶解,我们需要一种新的装置来完成。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种溶解装置,更好的完成溶解过程。
本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:一种洁净溶镍装置,包括原料添加反应池、沉淀反应池、溶镍槽和储液罐,所述原料添加反应池、沉淀反应池、溶镍槽和储液罐通过管道顺序连接,所述储液罐与所述原料添加反应池通过管道相连,所述储液罐和所述原料添加反应池之间的管道上连接有泵,所述溶镍槽内置有过滤板。
本实用新型的有益效果是:将所有部件通过管道顺序连接后首尾连接,形成类似环形的回路,让整个溶解过程循环往复,使溶质更好的溶解于溶液。
在上述技术方案的基础上,本实用新型还可以做如下改进。
进一步,所述储液罐与所述原料添加反应池之间相连的管道伸入到所述原料添加反应池内,构成所述原料添加反应池的进液管,所述原料添加反应池与所述沉淀反应池之间的管道深入到所述沉淀反应池内,构成沉淀反应池的进液管,所述原料添加反应池和沉淀反应池均设有出液管,所述原料添加反应池的出液管与所述沉淀反应池的进液管相连,所述沉淀反应池的出液管与所述溶镍槽相连,所述原料添加反应池的进液管的位置低于所述原料添加反应池的出液管的位置,所述沉淀反应池的进液管的位置低于所述沉淀反应池的出液管的位置。
进一步,所述原料添加反应池的进液管和所述沉淀反应池的进液管均采用十字形分流管。
进一步,所述过滤板内嵌有滤布。
进一步,所述原料添加反应池内装有搅拌器。
进一步,所述管道与管道之间通过法兰连接,所述法兰是使管子与管子相互连接的零件,所述法兰连接是指由法兰、垫片及螺栓三者相互连接作为一组组合密封结构的可拆连接。
采用上述进一步方案的有益效果是能进一步提高反应速率,可以边反应边过滤,起到了反应过滤的双重作用,大大降低了生产设备的制造成本,且特别适合于各种盐类的溶解反应。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
1、原料添加反应池,2、沉淀反应池,3、溶镍槽,4、储液罐,5、法兰,6、十字形分流管,7、泵,8、过滤板,9、搅拌器。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。
如图1所示,图中箭头的方向表示溶液的流向。一种洁净溶镍装置,包括原料添加反应池1、沉淀反应池2、溶镍槽3和储液罐4,所述原料添加反应池1、沉淀反应池2、溶镍槽3和储液罐4通过管道顺序连接,所述储液罐4与所述原料添加反应池1通过管道相连,所述储液罐和所述原料添加反应池之间的管道上连接有泵7,所述溶镍槽3内置有过滤板8,所述过滤板8内嵌有滤布,能过滤掉直径大于等于10um的碳酸镍颗粒以及杂质。所述储液罐4与所述原料添加反应池1之间的管道伸入到所述原料添加反应池1,形成进液管,所述原料添加反应池1与所述沉淀反应池2之间的管道深入到所述沉淀反应池2,形成进液管,所述原料添加反应池1和沉淀反应池2均设有出液管,所述原料添加反应池1的出液管与所述沉淀反应池2的进液管相连,所述沉淀反应池2的出液管与所述溶镍槽3相连,所述原料添加反应池的进液管的位置低于所述原料添加反应池的出液管的位置,所述沉淀反应池的进液管的位置低于所述沉淀反应池的出液管的位置。所述原料添加反应池1的进液管和所述沉淀反应池2的进液管均采用十字形分流管5。所述原料添加反应池内装有搅拌器9,搅拌器9采用机械搅拌。所述管道与管道之间通过法兰5连接。
将Nico3添加到原料添加反应池1中,通过原料添加反应池1中的搅拌杆进行搅拌溶解。循环流量采用下进上出的方式,原料添加反应池1和沉淀反应池2底部都设有十字形分流管,即循环供入,十字形分流管再通过搅拌,所加的Nico3伴随流量上升循环循环并充分反应,流入沉淀反应池2,沉淀反应池2再进行上述反应,直径为200-500um的碳酸镍颗粒以及杂质进行沉淀,所述沉淀反应池中的溶液流至溶镍槽,再通过溶镍槽中的滤布进行过滤,使直径小于10um的颗粒随溶液从溶镍槽的底部流出,最终流入储液罐。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种洁净溶镍装置,包括原料添加反应池、沉淀反应池、溶镍槽和储液罐,所述原料添加反应池、沉淀反应池、溶镍槽和储液罐通过管道顺序连接,所述储液罐与所述原料添加反应池通过管道相连,其特征在于,所述储液罐和所述原料添加反应池之间的管道上连接有泵,所述溶镍槽内置有过滤板。
2.根据权利要求1所述的一种洁净溶镍装置,其特征在于,所述储液罐与所述原料添加反应池之间相连的管道伸入到所述原料添加反应池内,构成所述原料添加反应池的进液管,所述原料添加反应池与所述沉淀反应池之间的管道深入到所述沉淀反应池内,构成沉淀反应池的进液管,所述原料添加反应池和所述沉淀反应池均设有出液管,所述原料添加反应池的出液管与所述沉淀反应池的进液管相连,所述沉淀反应池的出液管与所述溶镍槽相连,所述原料添加反应池的进液管的位置低于所述原料添加反应池的出液管的位置,所述沉淀反应池的进液管的位置低于所述沉淀反应池的出液管的位置。
3.根据权利要求2所述的一种洁净溶镍装置,其特征在于,所述原料添加反应池的进液管和所述沉淀反应池的进液管均采用十字形分流管。
4.根据权利要求1至3任一所述的一种洁净溶镍装置,其特征在于,所述过滤板内嵌有滤布。
5.根据权利要求1至3任一所述的一种洁净溶镍装置,其特征在于,所述原料添加反应池内装有搅拌器。
6.根据权利要求1至3任一所述的一种洁净溶镍装置,其特征在于,所述管道与管道之间通过法兰连接。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103551063A (zh) * 2013-11-01 2014-02-05 山东科芯电子有限公司 一种镀镍液配制装置
CN106861513A (zh) * 2017-03-20 2017-06-20 常州银河电器有限公司 一种镀镍液调配装置及调配方法
CN110820019A (zh) * 2019-10-10 2020-02-21 湖南龙智新材料科技有限公司 一种电解铜箔的溶铜系统及溶铜工艺

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