CN202877206U - 一种硅片清洗机及其洗槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗机的洗槽，包括洗槽箱体，还包括设置在洗槽箱体内的缓冲装置，且缓冲装置相对于洗槽箱体的侧壁倾斜预设角度布置。通过在洗槽箱体内放置缓冲装置，并将硅片放置在缓冲装置上，使硅片的一个表面与缓冲装置接触，一个侧边与洗槽箱体的底面接触，因此，增大了硅片与洗槽的接触面积，从而降低了碎片和隐裂的现象，提高了产品的合格率。

Description

一种硅片清洗机及其洗槽

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域，特别涉及一种硅片清洗机及其洗槽。

背景技术

硅片生产环节，通常分为破锭（破方）、滚圆（倒角）抛光、粘接、线锯、清洗五个工序。其中，清洗工序的目的是对线锯完成的半成品硅片进行清洗，该工序具体包括预清洗和深清洗。当预清洗脱胶完成后，取出从托盘上脱离的硅片，并将硅片转送至下一阶段进行深清洗，在这个过程中，要经过一个人工参与的过程，即从预清洗机中的转运车中取出硅片放入洗槽中进行插片。在取出硅片的过程中并不是一片一片的取出，而是一摞一摞的取出，然后放入洗槽。

如图1所示，现有技术的洗槽为不锈钢材质的长方体的箱体01，在箱体01上方设有一个进水管02，箱体01的一个侧边靠下有一个出水管03。工作人员在操作过程中，将预清洗机中的硅片通过小车运输到清洗机水槽处，再将一摞一摞的硅片取出放入洗槽的箱体01中。放置后硅片的一组相对边中的一边接触洗槽的箱体01的槽底，另一边接触箱体01的侧面，硅片与侧面的倾斜角度大约为15°-20°，以便于操作人员对硅片的取放过程。

但是，从上述工作过程可知，倾斜放置后的硅片与洗槽通过侧边分别与箱体01的槽底和箱体01的侧边接触，即接触方式为线接触，由于多个硅片叠放在一起，其之间具有很大的压力，因此，很容易造成碎片和隐裂的现象。

因此，如何提供一种硅片清洗机的洗槽，增大硅片与洗槽的接触面积，以提高产品的合格率，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种硅片清洗机的洗槽，增大硅片与洗槽的接触面积，以提高产品的合格率。

为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：

优选地，上述的洗槽中，还包括：设置在所述洗槽箱体内的缓冲装置，所述缓冲装置相对于所述洗槽箱体的侧壁倾斜预设角度布置。

优选地，上述的洗槽中，所述缓冲装置为支撑板。

优选地，上述的洗槽中，所述支撑板的宽度小于硅片的宽度和/或其长度小于硅片的长度。

优选地，上述的洗槽中，所述支撑板包括两个重叠布置的支撑分板，且两个所述支撑分板之间设置有弹性件。

优选地，上述的洗槽中，所述弹性件为弹簧。

优选地，上述的洗槽中，所述支撑板的用于支撑硅片的表面还设置有弹性层。

优选地，上述的洗槽中，所述弹性层为硅胶层。

优选地，上述的洗槽中，所述预设角度为15°-20°。

优选地，上述的洗槽中，所述缓冲装置的一组对边中的一者与所述洗槽箱体的槽底相连，另一者与所述洗槽箱体的侧边相连。

一种硅片清洗机，包括洗槽，其中，所述洗槽为上述任一项所述的洗槽。

从上述的技术方案可以看出，本实用新型提供了一种硅片清洗机的洗槽，包括洗槽箱体，还包括设置在洗槽箱体内的缓冲装置，且缓冲装置相对于洗槽箱体的侧壁倾斜预设角度布置。通过在洗槽箱体内放置缓冲装置，并将硅片放置在缓冲装置上，使硅片的一个表面与缓冲装置接触，一个侧边与洗槽箱体的底面接触，因此，增大了硅片与洗槽的接触面积，从而降低了碎片和隐裂的现象，提高了产品的合格率。

附图说明

图1为现有技术提供的硅片清洗机的洗槽的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的硅片清洗机的洗槽的结构示意图；

图3为图2中A的局部放大图。

具体实施方式

本实用新型核心是提供一种硅片清洗机的洗槽，增大硅片与洗槽的接触面积，以提高产品的合格率。

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面结合附图和实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。

请参考图2-图3，本实用新型公开了一种硅片清洗机的洗槽，包括洗槽箱体1，还包括设置在洗槽箱体1内的缓冲装置2，该缓冲装置2相对于洗槽箱体1的侧壁倾斜预设角度布置。

通过在洗槽箱体1内放置缓冲装置2，并将硅片放置在缓冲装置2上，使硅片的一个表面与缓冲装置2接触，一个侧边与洗槽箱体1的底面接触，因此，增大了硅片与洗槽的接触面积，从而降低了碎片和隐裂的现象，提高了产品的合格率。

具体的实施例中将缓冲装置2设置为支撑板，由于支撑板结构简单，且能实现增大硅片与洗槽的接触面积的目的。由于本实施的核心的是增大硅片与洗槽的接触面积，因此，在实际生产中其他可增大硅片与洗槽的接触面积的结构也在保护范围内。本实施例中提供的支撑板的形状和材质可根据不同的需要进行设定，优选地，缓冲装置的材质为PVC板，且为长方型。

为了便于操作者对硅片的取放，本实施例中提供的支撑板的宽度小于硅片的宽度或其长度小于硅片的长度，以保证支撑板与硅片之间预留有操作者着力的位置。在实际设置时，还可将支撑板的宽度设置为小于硅片的宽度同时支撑板的长度也设置为小于硅片的长度。但是，本实施例不对硅片和支撑板的差值做限定。

本实施例中将支撑板设置为两个重叠布置的支撑分板201，且两个支撑分板201之间设置有弹性件203。由于操作人员在放置硅片时，硅片之间存在较大的挤压力，为了缓冲在放置硅片过程中硅片对支撑分板203的挤压力，本实施例中优选的设置了弹性件203，以保证硅片的质量，降低碎片率。

优选的实施例中，将弹性件203设置为弹簧。为了使硅片与支撑分板201的接触面受力平衡，更优选地，设置4个弹簧，且平均分布在支撑分板201的两个对角线上，并保证在同一对角线上的两个弹簧关于支撑分板201的中心对称。在放置硅片时，可保证硅片与支撑分板201之间为弹性接触，有效降低了硅片与支撑分板201硬性接触时造成的碎片问题，提高了硅片的质量。本领域技术人员可以理解的是，在实际生产中，还可将弹性件203设置为橡胶垫，即两个支撑分板201之间通过弹性的橡胶垫连接。

进一步的实施中，为了保证硅片与支撑板之间的接触为弹性接触，还可在支撑板的用于支撑硅片的表面设置弹性层202。本实施例中将弹性层202设置为硅胶板。为了保证硅胶板表面的平整性，具体地，通过粘胶的方式使硅胶层粘接在支撑板上。

更进一步的实施例中，将缓冲装置2与洗槽箱体1的侧壁之间的预设角度设置为15°-20°，在实际操作中，若倾斜角度较大时，会影响工作人员的操作，不便于取片；若倾斜角度较小时，硅片放置的稳定性会下降，因此，优选的设置15°-20°。

在上述方案的基础上，本实施例中将缓冲装置2的一组对边中一者与洗槽箱体1的槽底相连，另一者与洗槽箱体1的侧边相连，从而实现对缓冲装置2的固定。本实施例不对缓冲装置2的固定方式进行限定，可通过螺钉连接也可通过粘胶的方式连接，只要能实现缓冲装置2的固定方式均在本实施例保护范围内。

本实施例还公开了一种硅片清洗机，包括洗槽，其中，该洗槽为上述实施例中所公开的洗槽，因此，具有该洗槽的硅片清洗机也具有上述所有技术效果，在此不再一一赘述。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种硅片清洗机的洗槽，包括洗槽箱体，其特征在于，还包括：设置在所述洗槽箱体内的缓冲装置，所述缓冲装置相对于所述洗槽箱体的侧壁倾斜预设角度布置。

2.根据权利要求1所述的洗槽，其特征在于，所述缓冲装置为支撑板。

3.根据权利要求2所述的洗槽，其特征在于，所述支撑板的宽度小于硅片的宽度和/或其长度小于硅片的长度。

4.根据权利要求2所述的洗槽，其特征在于，所述支撑板包括两个重叠布置的支撑分板，且两个所述支撑分板之间设置有弹性件。

5.根据权利要求4所述的洗槽，其特征在于，所述弹性件为弹簧。

6.根据权利要求2所述的洗槽，其特征在于，所述支撑板的用于支撑硅片的表面还设置有弹性层。

7.根据权利要求6所述的洗槽，其特征在于，所述弹性层为硅胶层。

8.根据权利要求1所述的洗槽，其特征在于，所述预设角度为15°-20°。

9.根据权利要求1-8任一项所述的洗槽，其特征在于，所述缓冲装置的一组对边中的一者与所述洗槽箱体的槽底相连，另一者与所述洗槽箱体的侧边相连。

10.一种硅片清洗机，包括洗槽，其特征在于，所述洗槽为权利要求1-9任一项所述的洗槽。

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