CN202846375U

CN202846375U - 喷砂机

Info

Publication number: CN202846375U
Application number: CN 201220449788
Authority: CN
Inventors: 阳威; 张迅; 彭顺明
Original assignee: JIANGXI WOGE OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Current assignee: WG Tech Jiangxi Co Ltd
Priority date: 2012-09-05
Filing date: 2012-09-05
Publication date: 2013-04-03
Anticipated expiration: 2022-09-05

Abstract

一种喷砂机，用于对待喷砂基片架进行喷砂，包括箱体、多个导轮和防护罩。箱体具有一供待喷砂基片架进入的开口，箱体的侧壁上开设有多个喷砂口，砂料从喷砂口喷向待喷砂基片架的表面；多个导轮设置于箱体与开设有喷砂口的侧壁相对的侧壁上，待喷砂基片架滑动设置于多个导轮上；防护罩设置于箱体的顶部，并与多个导轮相对，待喷砂基片架装有磁导向装置的一端位于防护罩内。使用上述喷砂机对待喷砂基片架进行喷砂时，待喷砂基片架装有磁导向装置的一端位于防护罩内，由于防护罩的遮挡，基片架的磁导向装置免受砂料和粉尘的击打，且砂料和粉尘难以进入磁导向装置内部。因此，使用上述喷砂机对基片架进行喷砂时，能够很好地保护基片架的磁导向装置。

Description

喷砂机

技术领域

本实用新型涉及一种喷砂机。

背景技术

基片架是磁控溅射镀膜系统中用于支撑和固定待镀膜基片的工件。新基片架首次使用之前和在使用一段时间过后，均需要进行喷砂表面处理以在镀膜过程中保证镀膜室的洁净度，以达到基片的镀膜工艺要求和质量的保证。

然而，因工作需要，基片架的一端设置有磁导向装置，而喷砂所用的砂料含有少量铁元素，这种砂料会吸附在带有磁性的物品上，使得在喷砂过程中，砂料快速的喷向基片架时会有部分砂料和粉尘溅射到磁导向装置上，砂料和粉尘会击打磁导向装置而造成磁导向装置的损伤，并且砂料和粉尘会进入磁导向装置内部，进入磁导向装置内部的砂料和粉尘很难清理，直接影响基片架在后续镀膜工序中的使用，严重会导致产品不良和报废。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种能够在喷砂过程中保护基片架的磁导向装置的喷砂机。

一种喷砂机，用于对待喷砂基片架进行喷砂，包括：

箱体，具有一供所述待喷砂基片架进入的开口，所述箱体的侧壁上开设有多个喷砂口，砂料从所述喷砂口喷向所述待喷砂基片架的表面；

多个导轮，设置于所述箱体与开设有所述喷砂口的侧壁相对的侧壁上，所述待喷砂基片架滑动设置于所述多个导轮上；

防护罩，设置于所述箱体的顶部，并与所述多个导轮相对，所述待喷砂基片架装有磁导向装置的一端位于所述防护罩内。

在其中的一个实施例中，所述防护罩为条形的不锈钢槽，所述不锈钢槽的开口端与所述导轮相对。

在其中的一个实施例中，所述不锈钢槽的横截面为方形。

在其中的一个实施例中，所述不锈钢槽的横截面为梯形，且从槽底至开口的方向，所述不锈钢槽的宽度逐渐减小。

在其中的一个实施例中，所述箱体的底面开设有回砂孔，喷砂处理后的脱落物从所述回砂孔流出。

在其中的一个实施例中，所述箱体的底面设置有与所述回砂孔连通的回砂料斗、及与所述回砂料斗连通的回砂管，喷砂处理后的脱落物从所述回砂孔流向所述回砂料斗，再从所述回砂料斗流向所述回砂管。

在其中的一个实施例中，所述箱体的底面设置有与所述回砂孔相对的滤网，喷砂处理后的脱落物经所述滤网过滤后从所述回砂孔流出。

在其中的一个实施例中，所述箱体的侧壁上设置有可视窗口，所述可视窗口用于监控喷砂处理的情况。

在其中的一个实施例中，所述箱体的顶壁上设置有照明灯。

在其中的一个实施例中，所述箱体上设置有操作门，所述操作门可活动地设置于所述箱体的开口以密封或打开所述开口。

使用上述喷砂机对待喷砂基片架进行喷砂处理时，待喷砂基片架装有磁导向装置的一端位于防护罩内，另一端滑动设置于导轮上，砂料从喷砂口喷向待喷砂基片架的表面时，由于防护罩的遮挡，基片架的磁导向装置免受砂料和粉尘的击打，且砂料和粉尘难以进入磁导向装置的内部。因此，使用上述喷砂机对基片架进行喷砂处理时，能够很好地保护基片架的磁导向装置。

附图说明

图1为一实施方式的喷砂机的立体示意图；

图2为图1所示的喷砂机的主视图；

图3为图1所示的喷砂机的左视图；

图4为喷砂过程中，待喷砂基片架伸入一实施方式的喷砂机的防护罩中的状态示意图；

图5为喷砂过程中，待喷砂基片架伸入另一实施方式的喷砂机的防护罩中的状态示意图。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对上述喷砂机进一步阐述。

请参阅图1，一实施方式的喷砂机100，包括箱体10、多个导轮20和防护罩30。

箱体10包括形状为长方体的箱体主体11和用于支撑箱体主体11的四个支脚12。

箱体主体11的侧壁上具有一开口（图未标）。该开口用于供待喷砂基片架进入箱体主体11内部。箱体主体11上设置有操作门13，操作门13可活动地设置于箱体主体11的侧壁，用于密封或打开箱体主体11的开口。

请同时参阅图2，箱体主体11的另一个侧壁上开设有多个喷砂口14。本实施方式中喷砂口14的数量为12，6个为一组，每一组成三行两列开设于箱体主体11的与开口所在的侧壁垂直的一个侧壁上。两组喷砂口14之间的距离大于每一组喷砂口14的列间距。

箱体主体11上设置有可视窗口15。本实施方式中，可视窗口15的数量为4，2个为一组，一上一下分布于每一组喷砂口14的两列喷砂孔14之间。

箱体主体11的底面开设有回砂孔（图未示）。进一步地，箱体主体11的底面上设置有滤网16，滤网16与回砂孔相对。本实施方式中，回砂孔的数量为3，滤网16的数量也为3，一个滤网16与一个回砂孔相对。

请同时参阅图2和图3，优选地，箱体主体11的底面还设置有回砂料斗17，回砂料斗17与回砂孔连通。本实施方式中，回砂料斗17的数量为3，3个回砂料斗17分别与3个回砂孔连通。

优选地，箱体主体11的底面还设置有与回砂料斗17连通的回砂管18。

进一步地，箱体主体11的顶壁上还设置有照明灯19，以提高箱体主体11内部的可视度，利于对喷砂过程的监控。

多个导轮20成一排设置于箱体主体11与开设有多个喷砂口14的侧壁相对的侧壁上。导轮20用于支撑待喷砂基片架（图未示）并驱动待喷砂基片架移动。

本实施方式中，导轮20可以正转和反转，以驱动待喷砂基片架正反向移动。可以理解，导轮20可以与外部的电机连接，以能够正转和反转。

防护罩30设置于箱体主体11的顶部，并与多个导轮20相对。本实施方式中，防护罩30为条形的不锈钢槽，不锈钢槽从箱体主体11的一端延伸至另一端，且其开口端与导轮20相对。

本实施方式中，条形的不锈钢槽的横截面为方形。在优选的实施方式中，条形的不锈钢槽的横截面为梯形，且从槽底至开口的方向，该不锈钢槽的宽度逐渐减小。

请同时参阅图1和参阅图4，当要对待喷砂基片架200进行喷砂处理时，首先打开操作门13，将待喷砂基片架200从箱体主体11的开口进入箱体主体11的内部，并使待喷砂基片架200装有磁导向装置220的一端伸入防护罩30内，与磁导向装置220相对的另一端位于导轮20上并沿导轮20滑动。关上操作门13，然后用喷枪（图未示）将砂料从喷砂口14喷向待喷砂基片架200的表面。喷砂处理完成后，导轮20反转，并打开操作门13，以将经过喷砂处理的待喷砂基片架200从箱体主体11的开口移出至下一道工序。

由于待喷砂基片架200装有磁导向装置220的一端伸入防护罩30内，在喷砂处理的过程中，防护罩30遮挡了磁导向装置220，使磁导向装置220免受砂料和粉尘的击打，且砂料和粉尘难以进入磁导向装置220的内部。因此，使用喷砂机100对待喷砂基片架200进行喷砂处理时，不会对磁导向装置220造成损坏，能够很好地保护磁导向装置200。

由于在喷砂处理过程中，砂料和粉尘难以进入磁导向装置220的内部，使得在喷砂处理结束后，经过喷砂处理的待喷砂基片架200可以直接使用，而无需先清理磁导向装置220内部的砂料和粉尘后再用于下一道工序，提高了生产效率。

防护罩30优选为不锈钢槽，不锈钢不会与磁铁相吸，因此，不会对待喷砂基片架200的磁导向装置220产生任何不良影响。并且，不锈钢形成的槽具有光滑的内壁，当待喷砂基片架200在箱体本体11内滑动时，不锈钢槽对磁导向装置220的的摩擦力非常小，不会对磁导向装置220造成损伤。进一步地，不锈钢的耐腐蚀性能高，能够避免砂料的腐蚀，使用寿命高。

可以理解，在其他实施方中，防护罩30也可以由其他不与磁铁相吸的材料形成。

不锈钢槽优选为横截面为梯形，且从槽底至开口的方向，槽的宽度逐渐减小的条形槽。请参阅图5，这种形状的槽的两个侧壁向内倾斜，能够更有效地防止喷砂击打磁导向装置220，防护效果较好。

喷砂处理后的脱落物（即砂料）经过滤网16的过滤后，从箱体主体11底部的回砂孔进入回砂料斗17，经回砂料斗17流向回砂管18。

由于开设了回砂孔，并设置了滤网16、回砂料斗17和回砂管18，使得在喷砂处理过程中，能够同时处理和回收脱落物，以回收循环利用，提高生产效率，降低生成成本。

可以理解，可将外部的泵与回砂管18相连，以将回砂管18内砂料抽向喷砂枪中，循环使用。

可以理解，在其他实施方式中，回砂孔、滤网16、回砂料斗17和回砂管18可以省略，喷砂过程中的脱落物落在箱体主体11的底面上，喷砂结束后再进行回收处理即可。

本实施方式中，12个喷砂口14的排布方式有利于提高喷砂处理的均匀度。在其他实施中，喷砂口14的排布方式可以根据实际需要排布，例如根据待喷砂基片架200的大小及待喷砂的部位进行排布。

喷砂机100的导轮20和防护罩30相对，喷砂处理过程中，待喷砂基片架200的一端位于防护罩30内部，另一端位于导轮20上，待喷砂基片架200可以处于直立状态。而在背靠滚轮式的喷砂机中，待喷砂基片架200必须倾斜一个角度才能稳固，从而使得背靠滚轮式的喷砂机的体积较大。与背靠滚轮式的喷砂机相比，喷砂机100的体积大大减小，大大节省了空间。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种喷砂机，用于对待喷砂基片架进行喷砂，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的喷砂机，其特征在于，所述防护罩为条形的不锈钢槽，所述不锈钢槽的开口端与所述导轮相对。

3.根据权利要求2所述的喷砂机，其特征在于，所述不锈钢槽的横截面为方形。

4.根据权利要求2所述的喷砂机，其特征在于，所述不锈钢槽的横截面为梯形，且从槽底至开口的方向，所述不锈钢槽的宽度逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的喷砂机，其特征在于，所述箱体的底面开设有回砂孔，喷砂处理后的脱落物从所述回砂孔流出。

6.根据权利要求5所述的喷砂机，其特征在于，所述箱体的底面设置有与所述回砂孔连通的回砂料斗、及与所述回砂料斗连通的回砂管，喷砂处理后的脱落物从所述回砂孔流向所述回砂料斗，再从所述回砂料斗流向所述回砂管。

7.根据权利要求5或6所述的喷砂机，其特征在于，所述箱体的底面设置有与所述回砂孔相对的滤网，喷砂处理后的脱落物经所述滤网过滤后从所述回砂孔流出。

8.根据权利要求1所述的喷砂机，其特征在于，所述箱体的侧壁上设置有可视窗口，所述可视窗口用于监控喷砂处理的情况。

9.根据权利要求1所述的喷砂机，其特征在于，所述箱体的顶壁上设置有照明灯。

10.根据权利要求1所述的喷砂机，其特征在于，所述箱体上设置有操作门，所述操作门可活动地设置于所述箱体的开口以密封或打开所述开口。