CN202717854U - 微蚀铜液涡流电解装置 - Google Patents

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刘惠明
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Shenzhen Sunshine Circuit Technology Co ltd
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Bright Positive Electricity Road Shenzhen Science And Technology Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种微蚀铜液涡流电解装置，其下部为循环药水缸，上部为溢流缸，所述循环药水缸的底部设泵浦入口，循环药水缸中设电解池，所述电解池包括阴阳极固定管以及安装在阴阳极固定管中的阴阳极，溢流缸上设有接驳电解池的整流器，在阴阳极固定管的底部设有涡流发生器。与现有技术相比，本实用新型在阴阳极固定管底部设涡流发生器，微蚀铜液经过涡流发生器的作用后形成急速旋转的流体，与电解池的阴阳极表面充分接触，大大提高了电解效率，解决了大流量时大电解电流密度烧坏阴极的问题以及因阴极上部产生针状电解物而容易发生阴阳极短路的问题。

Description

微蚀铜液涡流电解装置
技术领域
本实用新型涉及PCB微蚀铜液回收技术领域，具体涉及一种微蚀铜液涡流电解装置。
背景技术
在线路板的制作过程中，微蚀是利用弱蚀剂从铜机体表面上蚀刻掉1～2微米的铜，从而得到一个化学清洁的粗糙表面，使得化学镀铜层和底铜结合良好。因而，线路板经过微蚀处理后会产生大量含有Cu2+的废液。由于Cu2+含量较高的废液直接排放至环境中会对环境产生严重的污染，行业均已经采用电解回收系统对废液进行回收处理，使得废液符合排放标准。在电解回收系统中核心装置便是电解槽，电解槽的下部为循环药水缸，循环药水缸内装置有由阴极和阳极组成的电解池，微蚀铜液由循环药水缸底部的泵浦泵入，经过电解池的电解作用后，微蚀铜液中的铜离子被电解到电解池的阴极上，达到回收铜离子的目的。电解的效率与液体的流动速率以及液体与电解池的阴阳极的接触面积相关。现有的电解槽中，微蚀铜液从循环药水缸底部的泵浦入口进入后通过垂直孔向上流动，这种设计可以令到微蚀铜液在电解槽中的行程最短，但存在如下弊端：1、微蚀铜液是由下至上直线型流动，与阴阳极表面接触不完全，容易造成阴极上部电解铜产生针状电解物，从而造成电解时间短、易发生阴阳极短路；2、微蚀铜液由下至上直线型流动，与阴阳极表面接触时间短，实际使用中电解之电流密度较低，仅为6～8安培，电解效率较低下；3、微蚀铜液由下至上直线型流动，当流量大于40L/min时，因为向上的冲击力，使得药液不能顺利从阴极极固定铜上部的溢流孔溢出，从而会对阴阳极上部无效区产生药水冲击从而产生腐蚀，当流量小于40L/min时，会造成电解电流密度更加低下（低于4安培），达不到电解回收微蚀铜液的铜离子的效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺陷，提供一种微蚀铜液涡流电解装置，其能使微蚀铜液与电解池的阴阳极表面充分接触，提高电解效率。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
微蚀铜液涡流电解装置，其下部为循环药水缸，上部为溢流缸，所述循环药水缸的底部设泵浦入口，循环药水缸中设电解池，所述电解池包括阴阳极固定管以及安装在阴阳极固定管中的阴阳极，溢流缸上设有接驳电解池的整流器，在阴阳极固定管的底部设有涡流发生器。微蚀铜液在泵浦的作用由循环药水缸底部的泵浦入口进入，并进入阴阳极固定管底部的涡流发生器的入口，在涡流发生器的作用下，形成急速旋转的流体，从阴阳极固定管底部快速向上涡旋流动，在涡旋流动过程中穿过阴极外壁和阳极内壁，形成大面积接触的涡旋液柱，与电解池的阴阳极表面充分接触，提高电解效率。
优选地，所述涡流发生器设有6个均匀分布的涡流出孔。
优选地，所述涡流出孔与涡流发生器的中心轴形成的夹角为30°-45°。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
在阴阳极固定管底部设涡流发生器，微蚀铜液经过涡流发生器的作用后形成急速旋转的流体，与电解池的阴阳极表面充分接解，大大提高了电解效率，解决了大流量时大电解电流密度烧坏阴极的问题以及因阴极上部产生针状电解物而容易发生短路的问题。
附图说明
图1为本实用新型的使用状态示意图；
图2为微蚀铜液在本实用新型的电解池内涡旋流动的示意图；
图3为本实用新型的涡流发生器的结构示意图；
图4为图3的B-B剖视图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例子对本实用新型作进一步详细说明。
请参照附图，本实用新型的微蚀铜液涡流电解装置下部为循环药水缸1，上部为溢流缸2。所述循环药水缸1的底部设泵浦入口11，用于连接泵浦5。循环药水缸1中还设电解池，所述电解池包括阴阳极固定管3以及安装在阴阳极固定管中的阴阳极32、31。溢流缸2上设有接驳电解池的整流器4，整流器4的“—”极与阴极32接驳，整流器4的“+”极与阳极31接驳。在阴阳极固定管3的底部设有涡流发生器33。所述涡流发生器33设有6个均匀分布的涡流出孔33a。所述涡流出孔33a与涡流发生器的中心轴形成的夹角为30°-45°。
本实用新型的工作原理如下：
微蚀铜液在泵浦5的作用由循环药水缸1底部的泵浦入口11进入，并进入阴阳极固定管3底部的涡流发生器33的入口，以60～100L/min的流量在涡流发生器33的作用下，形成6股急速旋转、与底部平面形成30°-45°的流体，从阴阳极固定管底部快速向上涡旋流动，在涡旋流动过程中穿过阴极32内壁和阳极31外壁，形成大面积接触的涡旋液柱，当微蚀铜液穿透阴极32外壁和阳极31内壁时，在整流器4的作用下将微蚀铜液中的铜离子电解到阴极32的表面，从而在阴极32表面形成一层致密的铜，达到对微蚀铜液回收铜的效果。
上述实施例仅为本实用新型的优选实施方式，不能以此来限定本实用新型的保护范围，本领域的技术人员在本实用新型的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.微蚀铜液涡流电解装置，其下部为循环药水缸，上部为溢流缸，所述循环药水缸的底部设泵浦入口，循环药水缸中设电解池，所述电解池包括阴阳极固定管以及安装在阴阳极固定管中的阴阳极，溢流缸上设有接驳电解池的整流器，其特征在于：在阴阳极固定管的底部设有涡流发生器。
2.如权利要求1所述的微蚀铜液涡流电解装置，其特征在于：所述涡流发生器设有6个均匀分布的涡流出孔。
3.如权利要求2所述的微蚀铜液涡流电解装置，其特征在于：所述涡流出孔与涡流发生器的中心轴形成的夹角为30°-45°。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104726901A (zh) * 2015-03-31 2015-06-24 浙江科菲科技股份有限公司 一种隔膜旋流电解装置
CN106702434A (zh) * 2015-07-13 2017-05-24 有研稀土新材料股份有限公司 电解装置及电解方法

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Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Assignee: JIUYANG SUNSHINE PCB TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Assignor: Shenzhen Sunshine Circuits Technology Co.,Ltd.

Contract record no.: 2014440000287

Denomination of utility model: Micro-corrosion copper liquid vortex electrolysis device

Granted publication date: 20130206

License type: Exclusive License

Record date: 20140616

LICC Enforcement, change and cancellation of record of contracts on the licence for exploitation of a patent or utility model
C56 Change in the name or address of the patentee
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 518000, B, building 32, South Ring Road, Second Star Industrial Zone, manhole street, Baoan District, Shenzhen, Guangdong

Patentee after: SHENZHEN SUNSHINE CIRCUIT TECHNOLOGY CO.,LTD.

Address before: 518000, B, building 32, South Ring Road, Second Star Industrial Zone, manhole street, Baoan District, Shenzhen, Guangdong

Patentee before: Shenzhen Sunshine Circuits Technology Co.,Ltd.

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Granted publication date: 20130206

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