CN202678289U - 一种用来处理hmds的真空烘箱 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种用来处理HMDS的真空烘箱，包括机箱，固定在机箱外侧的药瓶，固定在机箱上方的电器箱，通过连接管道与电器箱连接的真空泵箱；所述电器箱上设有控制表盘；其特征在于，所述机箱为一面开口，中空的矩形箱体；所述机箱开口的一面通过铰链连接有一密封箱门；所述箱门包括中间层的门板，包裹在门板外面的石棉层以及门外壳。本实用新型提供的一种用来处理HMDS的真空烘箱，整个操作过程处于真空状态，使HMDS药液与硅片表面的二氧化硅充分作用，提高光刻胶与硅表面的粘附力。箱门与机箱有一定的浮动性，可以吸收多余部分挤压力，避免了氟橡胶密封圈的破裂而引起的漏气现象，降低了设备的故障率，也节约了设备维护的成本。
Description
技术领域
本实用新型属于干燥设备领域，特别涉及一种用来处理HMDS的真空烘箱。
背景技术
HMDS作为一种增粘剂，可有效增加光刻胶与硅片之间的吸附力，在硅片的光刻工艺中逐渐开始应用，但其本身具有毒性且易挥发，因此使用HMDS的工序需要在真空的状态下进行，否则会对操作人员造成伤害；国内现有的厂商在硅片上涂光刻胶很少有使用HMDS作为增粘剂，由于吸附力不够，这样涂胶就不均匀，更严重的会导致光刻胶脱落。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供了一种用来处理HMDS的真空烘箱，整个操作过程处于真空状态，使HMDS药液与硅片表面的二氧化硅充分作用，提高光刻胶与硅表面的粘附力。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
一种用来处理HMDS的真空烘箱，包括机箱，固定在机箱外侧的药瓶，固定在机箱上方的电器箱，通过连接管道与电器箱连接的真空泵箱；所述电器箱上设有控制表盘；其特征在于，所述机箱为一面开口，中空的矩形箱体；所述机箱开口的一面通过铰链连接有一密封箱门；所述箱门包括中间层的门板，包裹在门板外面的石棉层以及门外壳。
进一步地，所述密封箱门内侧靠近铰链的一边设有一密封用的加强筋。
进一步地，所述密封箱门通过沉头螺钉固定有一开关用的把手装置。
进一步地，所述密封箱门四个角的内侧安装有减振弹簧。
本实用新型提供的一种用来处理HMDS的真空烘箱，整个操作过程处于真空状态，使HMDS药液与硅片表面的二氧化硅充分作用，提高光刻胶与硅表面的粘附力。箱门与机箱有一定的浮动性，可以吸收多余部分挤压力，避免了氟橡胶密封圈的破裂而引起的漏气现象，降低了设备的故障率，也节约了设备维护的成本。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型一种用来处理HMDS的真空烘箱的侧视结构示意图；
图2是本实用新型一种用来处理HMDS的真空烘箱的主视结构示意图；
图3是本实用新型一种用来处理HMDS的真空烘箱的箱门主视结构示意图；
图4是本实用新型一种用来处理HMDS的真空烘箱的箱门侧视视结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1、2所示，本实用新型一种用来处理HMDS的真空烘箱，包括机箱1，固定在机箱外侧的药瓶2，固定在机箱上方的电器箱3，通过连接管道6与电器箱3连接的真空泵箱5；所述电器箱3上设有控制表盘7；其特征在于，所述机箱1为一面开口，中空的矩形箱体；所述机箱1开口的一面通过铰链13连接有一密封箱门4。
如图3、4所示，所述密封箱门4包括中间层的门板9，包裹在门板外面的石棉层14以及门外壳10；所述密封箱门4内侧靠近铰链13的一边设有一密封用的加强筋11；所述密封箱门4通过沉头螺钉15固定有一开关用的把手装置8；所述密封箱门4四个角的内侧安装有减振弹簧12。
通过抽真空，使药液沸点降低，汽化后喷撒到圆片表面。冲氮的作用是清洁腔体，排除水汽及空气中悬浮颗粒物，保证内腔纯净无杂质。高温的作用是加速汽化过程，同时将未反应完的药液蒸汽加速挥发，通过抽真空带走。
HMDS的作业流程：放入圆片电源启动，热板传导加热，通过温控器PID自整定到设定温度值，真空泵启动，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，真空管道内挡板阀关闭，氮气管道内挡板阀开启冲高纯氮，真空泵启动，氮气管道内挡板阀关闭，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，HMDS管道内挡板阀开启真空管道内挡板阀关闭药液气化后喷入腔内圆片表面，加药后药液挡板阀关闭腔体内保压，氮气阀瞬时打开通入药液容器瓶加压，真空泵启动，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，真空管道内挡板阀关闭，氮气管道内挡板阀开启冲高纯氮，真空泵启动，氮气管道内挡板阀关闭，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，HMDS管道内挡板阀开启药液气化后喷入腔内圆片表面，加药后药液挡板阀关闭腔体内保压，氮气阀瞬时打开通入药液容器瓶加压，真空泵启动，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，真空管道内挡板阀关闭，氮气管道内挡板阀开启冲高纯氮，真空泵启动，氮气管道内挡板阀关闭，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，HMDS管道内挡板阀开启药液气化后喷入腔内圆片表面，加药后挡板阀关闭腔体保压，氮气阀瞬时打开通入药液容器瓶加压，真空泵启动，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，真空管道内挡板阀关闭，氮气管道内挡板阀开启冲高纯氮，真空泵启动，氮气管道内挡板阀关闭，真空管道内挡板阀开启抽真空，真空仪表检测腔内真空值，真空管道内挡板阀关闭，氮气管道内挡板阀开启，冲高纯氮数秒后关闭腔内恢复正压，蜂鸣器声光提示，打开箱门取出圆片，工艺处理结束。
本实用新型提供的一种用来处理HMDS的真空烘箱，整个操作过程处于真空状态，使HMDS药液与硅片表面的二氧化硅充分作用，提高光刻胶与硅表面的粘附力。箱门与机箱有一定的浮动性，可以吸收多余部分挤压力，避免了氟橡胶密封圈的破裂而引起的漏气现象，降低了设备的故障率，也节约了设备维护的成本。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种用来处理HMDS的真空烘箱，包括机箱，固定在机箱外侧的药瓶，固定在机箱上方的电器箱，通过连接管道与电器箱连接的真空泵箱；
所述电器箱上设有控制表盘；其特征在于，所述机箱为一面开口，中空的矩形箱体；
所述机箱开口的一面通过铰链连接有一密封箱门；
所述箱门包括中间层的门板，包裹在门板外面的石棉层以及门外壳。
2.根据权利要求1所述的真空烘箱，其特征在于：所述密封箱门内侧靠近铰链的一边设有一密封用的加强筋。
3.根据权利要求1所述的真空烘箱，其特征在于：所述密封箱门通过沉头螺钉固定有一开关用的把手装置。
4.根据权利要求1所述的真空烘箱，其特征在于：所述密封箱门四个角的内侧安装有减振弹簧。
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Legal Events
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Assignee: WUXI RADAR SEMICONDUCTOR EQUIPMENT CO., LTD. Assignor: Wuxi Ruida Electronics Co.,Ltd. Contract record no.: 2015320010038 Denomination of utility model: Vacuum drying oven for processing HMDS (Hexamethyl Disilazane) Granted publication date: 20130116 License type: Exclusive License Record date: 20150414 |
|
| LICC | Enforcement, change and cancellation of record of contracts on the licence for exploitation of a patent or utility model | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130116 Termination date: 20160605 |