CN202631948U - 一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版 - Google Patents
一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，包括至少两组对位标记，所述每组对位标记包括两个对位图形，所述对位图形的图案不同且设置于掩膜版相对的两侧。本实用新型通过采用该掩膜版，实现了一张掩膜版在阵列基板和/或彩膜基板上形成多种对位标记的效果，极大的降低成本，显著提升企业的经济效益和核心竞争力。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版。
背景技术
掩膜版作为转移微细图形的工具，用于阵列基板工艺的批量复制生产，在TFT-LCD生产中具有承上启下的关键作用，是TFT-LCD产业链中不可或缺的重要环节。生产过程中有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩膜版，掩膜版的数量代表了制造过程中采用的光刻工艺子流程的数目，减少掩膜版的数量和光刻的次数是提高成品率、缩短制作周期、降低能耗的关键，也是TFT技术发展的动力。
但是掩膜版价格昂贵，若在掩膜版设计、制作、运输、保存等过程中有任何差错，掩膜版就无法使用，给设计者和生产者均带来了很大困扰。另外，目前掩膜版使用数量的减少，往往是从TFT-LCD阵列基板的结构和工艺简化来考虑，但忽略了从掩膜版设计本身来考虑问题。
在液晶显示装置的生产过程中，需要在阵列基板和彩膜基板上制备多种对位标记，如对盒标记、取向膜标记、封框胶标记、层对位标记，以及设备对位标记等，从而实现生产过程中对基板位置的准确控制。目前，对位标记的制备是采用掩膜工艺实现的，每制备一种对位标记，都需要一张与之相对应的掩膜版，特别是在阵列基板和彩膜基板对盒工艺中，需要采用两张掩膜版分别在阵列基板和彩膜基板上形成对位标记，生产成本比较高。现有技术中，对盒的具体操作过程如下：
1)利用图1所示的掩膜版在阵列基板上形成对位标记，该对位标记包括第一空心对位图形1、第二空心对位图形2、第三空心对位图形3、第四空心对位图形4；
2)利用图2所示的掩膜版在彩膜基板上形成对位标记，该对位标记包括：第一实心对位图形1’、第二实心对位图形2’、第三实心对位图形3’、第四实心对位图形4’；
3)将彩膜基板翻转，利用形成的对位标记使阵列基板和彩膜基板对盒。
为了降低成本，急需一种掩膜版来实现一张掩膜版可制备多种对位标记。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是提供一种掩膜版来实现一张掩膜版可制备多种对位标记。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，包括至少两组对位标记，所述每组对位标记包括两个对位图形，所述对位图形的图案不同且设置于掩膜版相对的两侧。
优选地，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个对位图形设置于掩膜版的左侧，另一个设置于掩膜版的右侧。
优选地，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个设置于掩膜版的上侧，另一个设置于掩膜版的下侧。
优选地，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个对位图形设置于掩膜版的左上角，另一个设置于掩膜版的右下角。
优选地，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个对位图形设 置于掩膜版的右上角，另一个设置于掩膜版的左下角。
优选地，所述每组对位标记由大小和/或形状不同的两个对位标记组成。
优选地，所述每组对位标记中的两个对位图形，其中一个对位图形为空心图形，另一个对位图形为实心图形。
(三)有益效果
上述技术方案所提供的掩膜版，通过在掩膜版上设置有至少两套对位标记，实现了一张掩膜版在阵列基板和/或彩膜基板上形成多种对位标记的效果，极大的降低成本，显著提升企业的经济效益和核心竞争力。
附图说明
图1是利用现有技术中在彩膜基板上形成的对位标记的掩膜版示意图；
图2是利用现有技术中在阵列基板上形成的对位标记的掩膜版示意图；
图3是图1和图2中所示的彩膜基板和阵列基板对位的示意图；
图4是本实用新型实施例1的掩膜版的示意图；
图5是本实用新型提供的另一种掩膜版的示意图；
图6是利用本实用新型实施例2得到的阵列基板和彩膜基板对位后的示意图。
其中，1：第一空心对位图形；2：第二空心对位图形；3：第三空心对位图形；4：第四空心对位图形；1’：第一实心对位图形；2’：第二实心对位图形；3’：第三实心对位图形；4’：第四实心对位图形。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步 详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
实施例1
图4示出了本实施例的掩膜版的示意图，图示的掩膜版上设置有两组对位标记，每组对位标记包括两个对位图形，两个对位图形的图案不同，每组的对位标记中的两个对位图形设置于掩膜版的左右两侧。下面以掩膜版在阵列基板和彩膜基板上形成对盒用的对位标记的过程为例对掩膜版的使用方法进行说明。
采用如图4所示的掩膜版进行对盒工艺的过程如下：
1)采用如图4所示的掩膜版通过掩膜工艺在阵列基板上形成对盒用的第一空心对位图形1、第二空心对位图形2；
2)继续采用该掩膜版通过掩膜工艺在彩膜基板上形成对盒用的对位标记第一实心对位图形1′、第二实心对位图形2′；
3)将形成对盒用的第一实心对位图形1′、第二实心对位图形2′的彩膜基板翻转；
4)通过CCD(图像传感器)对应对位标记来实现阵列基板和彩膜基板的对盒，具体为阵列基板上的第一空心对位图形1与彩膜基板上的第一实心对位图形1′进行对位，阵列基板上的第二空心对位图形2与彩膜基板上的第二实心对位图形2′进行对位，使彩膜基板上的第一实心对位图形1′位于第一空心对位图形1的中心位置，第二实心对位图形2′位于第二空心对位图形2的中心位置。
通过上述操作过程，实现了仅使用一张掩膜版即可完成阵列基板和彩膜基板的对位过程，节省了一张掩膜版，降低了生产成本。
实施例2
图5示出了实施例2提供的另一种掩膜版的示意图，为了更精确的进行对位操作，本实施提供的掩膜版包括四组对位标记，每组对位标 记包括两个图案不同的对位图形，每组的对位标记中的两个对位图形设置于掩膜版的左右两侧。使用该掩膜版的方法与实施例1中基本相同，区别在于在通过CCD对位时，首先需要使彩膜基板上的第一实心对位图形1′位于第一空心对位图形1的中心位置，第二实心对位图形2′位于第二空心对位图形2的中心位置，还需要使彩膜基板上的第三实心对位图形3′位于阵列基板上的第三空心对位图形3的中心位置，且各边平行，彩膜基板上的第四实心对位图形4′位于阵列基板上的第四空心对位图形4的中心位置，且各边平行，即完成对盒工艺中的对位操作，对位操作完成后的示意图如图6所示。本实施例中的第三、第四组空心、实心对位图形主要是作为精对位图形使用。
在需要实现其他对位操作时，仅需在掩膜版上增加相应的对位图形，即可实现一张掩膜版制备多种对位标记的效果。
上述两个实施例中提供的掩膜版，将对位标记设置于掩膜版的角上，但对位标记所设置的位置不仅限于此，只要是在阵列基板和彩膜基板上形成对位标记后，不影响阵列基板和彩膜基板的后续工艺制作的位置都是可以的。同时，对位图形的选择也不仅限于如图4、5所示的空心、实心的圆形和方形，其他形状也可以实现本方案的效果。本实施例中掩膜版上的对位图形设置为圆形是为了对位能够快速简单，精对位图形设置为长方形是为了对位的精度高，精对位图形也可设置为五边形、六边形等，但是增加了摄像头识别对位的复杂度，不及长方形既能保证对位的精度，又能尽可能的简化摄像头识别的过程。
本实施例的掩膜版设计采用Right Read方式进行，此时形成的曝光图形在掩膜版的上表面；也可以采用Wrong Read方式，形成的曝光图形在掩膜版的下表面。本实施例中的掩膜版不包括切割标记曝光图案，切割标记可最后由电极ITO设计完成，设备可以识别。另外，为保护本实施例中所形成的工艺用标记和设备用标记在工艺过程中 不被刻蚀破环，可在制作电极ITO层时，顺便在所形成标记上铺盖一层ITO层，此ITO层应完全包含所形成标记，形状可为常规的方形或圆形或其它适当形状。
由以上实施例可以看出，本实用新型实施例通过在掩膜版上设置按照一定规律排列的对位标记，可采用一张掩膜版形成多种对位标记，特别可以应有于阵列基板和彩膜基板的对盒工艺中，极大的降低了成本，显著提升企业的经济效益和核心竞争力。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，包括至少两组对位标记，所述每组对位标记包括两个对位图形，所述对位图形的图案不同且设置于掩膜版相对的两侧。
2.如权利要求1所述的在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个对位图形设置于掩膜版的左侧，另一个设置于掩膜版的右侧。
3.如权利要求1所述的在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个设置于掩膜版的上侧，另一个设置于掩膜版的下侧。
4.如权利要求1所述的在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个对位图形设置于掩膜版的左上角，另一个设置于掩膜版的右下角。
5.如权利要求1所述的在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，所述每组对位标记的两个对位图形中，一个对位图形设置于掩膜版的右上角，另一个设置于掩膜版的左下角。
6.如权利要求1所述的在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，所述每组对位标记由大小和/或形状不同的两个对位标记组成。
7.如权利要求6所述的在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，所述每组对位标记中的两个对位图形，其中一个对位图形为空心图形，另一个对位图形为实心图形。
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