CN202563243U - 玻璃基板曝光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种玻璃基板曝光机，属于显示技术领域。其中，玻璃基板曝光机，包括玻璃基板搭载台、玻璃基板承接杆和位于玻璃基板搭载台之上的垫板，所述曝光机还包括：设置在所述垫板内两个相对侧的线性导轨；跨设在所述线性导轨上、能够沿着所述线性导轨位移的遮蔽组件，所述遮蔽组件表面的反射率与所述垫板表面的反射率的差值不大于预设阈值；以及与所述遮蔽组件相连、用于带动所述遮蔽组件沿着所述线性导轨位移的驱动组件。本实用新型的技术方案能够解决在高世代线生产大尺寸TFT面板时，玻璃基板上会形成Lift Bar Mura的问题。

Description

玻璃基板曝光机

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是指一种玻璃基板曝光机。

背景技术

在进行大尺寸TFT(Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管)面板的制作过程中，因考虑玻璃基板进入曝光机发生Glass Broken(玻璃基板破碎)，高世代曝光机(G6及以上)将之前承接小尺寸Glass(玻璃基板)的Lift Pin(承接针)改成了Lift Bar(承接杆)，与玻璃基板由点接触变成面接触。

图1为现有技术中的曝光机的结构示意图，如图1所示，在基底上依次设置有油压水平调节器和玻璃基板搭载台，玻璃基板搭载台上设置有用以放置玻璃基板的玻璃基板搭载台垫板，在玻璃基板进行曝光之前，由玻璃基板承接杆支撑玻璃基板，将玻璃基板放置在垫板上，在玻璃基板进行曝光时，玻璃基板承接杆落下至垫板下方，曝光机开始对玻璃基板进行曝光。但由于玻璃基板承接杆表面及其边缘区域的反射率与玻璃基板搭载台以及垫板表面的反射率不同，而且玻璃基板承接杆所占面积较Lift Pin大很多，这样会导致曝光不均匀，如图2所示，会在玻璃基板上形成Lift Bar Mura(玻璃基板承接杆斑)，影响产品良率。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种玻璃基板曝光机，能够解决在高世代线生产大尺寸TFT面板时，玻璃基板上会形成Lift Bar Mura的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种玻璃基板曝光机，包括玻璃基板搭载台、玻璃基板承接杆和位于玻璃基板搭载台之上的垫板，所述曝光机还包括：

设置在所述垫板内两个相对侧的线性导轨；

跨设在所述线性导轨上、能够沿着所述线性导轨位移的遮蔽组件，所述遮蔽组件表面的反射率与所述垫板表面的反射率的差值不大于预设阈值；以及

与所述遮蔽组件相连、用于带动所述遮蔽组件沿着所述线性导轨位移的驱动组件，其中，在玻璃基板曝光前，所述玻璃基板承接杆落下后，所述驱动组件带动所述遮蔽组件位移至所述玻璃基板承接杆与所述玻璃基板之间以遮挡住所述玻璃基板承接杆；并能够在玻璃基板曝光后，所述玻璃基板承接杆上升前，带动所述遮蔽组件离开所述玻璃基板承接杆上方使所述玻璃基板承接杆自由上升。

进一步地，所述垫板的侧面设有凹槽，所述线性导轨设置在所述垫板的凹槽中。

进一步地，所述曝光机还包括：

设置在所述线性导轨上的联动模块，所述线性导轨和所述遮蔽组件之间通过所述联动模块衔接。

进一步地，所述遮蔽组件包括：

遮蔽主体和覆盖在所述遮蔽主体上的遮蔽表层，所述遮蔽表层的反射率与所述垫板表面的反射率的差值不大于预设阈值。

进一步地，所述遮蔽表层采用碳素纤维制作。

进一步地，所述遮蔽主体采用乙烯辛烯共聚物-聚烯烃弹性体制作。

进一步地，所述驱动组件包括：

设置在所述遮蔽组件下、用于检测所述玻璃基板承接杆的位置的传感器单元；

与所述传感器单元相连接，用于根据传感器单元传递的玻璃基板承接杆的位置信息控制脉冲马达的开关状态的遮蔽开关控制单元；

与所述遮蔽开关控制单元相连接的所述脉冲马达；

与所述脉冲马达相连接、用于利用所述脉冲马达的动力带动所述遮蔽组件位移的传动单元。

进一步地，所述传动单元包括：

与所述遮蔽组件相连接的齿轮与齿条传动模块；

连接在所述齿轮与齿条传动模块和所述脉冲马达之间的轴承。

进一步地，所述传感器单元包括至少三个传感器。

进一步地，所述传感器为激光传感器。

本实用新型的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，在玻璃基板曝光前，玻璃基板承接杆落下后，驱动组件带动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆与玻璃基板之间，遮挡住玻璃基板承接杆，由于遮蔽组件表面的反射率与垫板表面的反射率相近，因此在玻璃基板曝光时不会造成曝光不均匀，从而避免在玻璃基板上形成Lift Bar Mura。

附图说明

图1为现有技术中的曝光机的结构示意图；

图2玻璃基板上形成玻璃基板承接杆斑的示意图；

图3为本实用新型的玻璃基板曝光机的正面剖面示意图；

图4为本实用新型的玻璃基板曝光机的侧面剖面示意图；

图5为本实用新型的玻璃基板曝光机的俯视示意图；

图6为本实用新型的玻璃基板曝光机的遮蔽组件的排布示意图。

附图标记

1 玻璃基板承接杆

2 传感器单元

3 齿轮与齿条传动模块

4 脉冲马达

5 遮蔽开关控制单元

6 遮蔽表层

7 遮蔽主体

8 轴承

9 联动模块

10 线性导轨

11 垫板

12 玻璃基板搭载台

13 传感器线

具体实施方式

为使本实用新型的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本实用新型的实施例针对现有技术中由于玻璃基板承接杆表面及其边缘区域的反射率与玻璃基板搭载台以及垫板表面的反射率不同，而且玻璃基板承接杆所占面积较Lift Pin大很多，导致曝光不均匀，在玻璃基板上形成Lift BarMura，影响产品良率的问题，提供一种玻璃基板曝光机，能够解决在高世代线生产大尺寸TFT面板时，玻璃基板上会形成Lift Bar Mura的问题，提高产品良率。

现有技术中一般从更换Lift Bar材质及架构这方面去解决玻璃基板上形成Lift Bar Mura的问题，却仍无法保证在各种不同的工艺条件下均无Lift BarMura发生。

本实用新型针对高世代线制造更大尺寸TFT基板容易出现Lift Bar Mura的问题，提供一种玻璃基板曝光机，其包括玻璃基板搭载台、玻璃基板承接杆和位于玻璃基板搭载台之上的垫板，该曝光机还包括：

设置在所述垫板内两个相对侧的线性导轨；

跨设在线性导轨上、能够沿着线性导轨位移的遮蔽组件，遮蔽组件表面的反射率与垫板表面的反射率的差值不大于预设阈值；以及

与遮蔽组件相连、用于带动遮蔽组件沿着线性导轨位移的驱动组件，其中，在玻璃基板曝光前，玻璃基板承接杆落下后，驱动组件带动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆与玻璃基板之间遮挡住玻璃基板承接杆；并能够在玻璃基板曝光后，玻璃基板承接杆上升前，带动遮蔽组件离开玻璃基板承接杆上方使玻璃基板承接杆自由上升。

本实用新型的玻璃基板曝光机，在玻璃基板进行曝光前，玻璃基板承接杆落下至垫板之下后，驱动组件带动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆与玻璃基板之间，遮挡住玻璃基板承接杆，由于遮蔽组件表面的反射率与垫板表面的反射率相近，因此在玻璃基板曝光时不会造成曝光不均匀，从而避免在玻璃基板上形成Lift Bar Mura。在玻璃基板完成曝光之后，玻璃基板承接杆需要上升去支撑玻璃基板时，驱动组件带动遮蔽组件离开玻璃基板承接杆上方，使得玻璃基板承接杆可以自由上升。本实用新型的玻璃基板曝光机可以适应任何工艺条件变更，以及Lift Bar相关架构的设计变更，从而有效节省后期追加投资成本。

下面结合图3-图6对本实用新型的玻璃基板曝光机进行进一步介绍：

如图3所示，本实用新型的玻璃基板曝光机，包括玻璃基板搭载台12、玻璃基板承接杆1和位于玻璃基板搭载台12之上的垫板11，如图3和图4所示，该曝光机还包括：设置在玻璃基板搭载台12上垫板11内两个相对侧的线性导轨10；跨设在线性导轨10上、能够沿着线性导轨10位移的遮蔽组件；以及与遮蔽组件相连、能够带动遮蔽组件沿着线性导轨位移的驱动组件，其中，在玻璃基板进行曝光前，玻璃基板承接杆1落下后，驱动组件带动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆1与玻璃基板之间、遮挡住玻璃基板承接杆1；驱动组件还能够在玻璃基板承接杆1上升前，带动遮蔽组件离开玻璃基板承接杆1上方，使玻璃基板承接杆1自由上升。其中，遮蔽组件表面的反射率与垫板11表面的反射率的差值不大于预设阈值。

进一步地，如图4所示，垫板11的侧面设有凹槽，线性导轨10设置在垫板11的凹槽中。将垫板11的侧面开设凹槽，并将线性导轨10设于凹槽中，这样能够减轻垫板的重量，从而减轻了玻璃基板搭载台的整体重量，有利于提高玻璃基板搭载台上加载玻璃基板时的运动加速度，使得曝光机的控制精度更高。其中，线性导轨10和遮蔽组件之间通过设置在线性导轨10上的联动模块9衔接。

如图3和图4所示，遮蔽组件包括：遮蔽主体7和覆盖在遮蔽主体7上的遮蔽表层6，其中，遮蔽表层6的反射率与垫板11表面的反射率的差值不大于预设阈值。在玻璃基板进行曝光前，玻璃基板承接杆1落下至垫板11之下后，驱动组件带动遮蔽主体7和遮蔽表层6位移至玻璃基板承接杆1与玻璃基板之间，遮挡住玻璃基板承接杆1，由于遮蔽表层6的反射率与垫板11表面的反射率相近，因此在玻璃基板曝光时不会造成曝光不均匀，从而避免在玻璃基板上形成Lift Bar Mura。进一步地，遮蔽主体7的材料可选择一些质量轻、耐热耐老化的材料，如POE(乙烯辛烯共聚物)-聚烯烃弹性体，这样可以进一步减轻玻璃基板搭载台的整体质量，提高设备控制的精度。遮蔽表层6必须是反射率特别低的材料，具体地，可以选择反射率在6％～8％之间的一些材料，如和垫板11一样的经过特殊表面处理过的碳素纤维等。

进一步地，如图3-图5所示，驱动组件包括：

设置在遮蔽组件下、用于检测玻璃基板承接杆1的位置的传感器单元2；

与传感器单元2相连接，用于根据传感器单元2传递的玻璃基板承接杆1的位置信息控制脉冲马达4的开关状态的遮蔽开关控制单元5；

与遮蔽开关控制单元5相连接的脉冲马达4；

与脉冲马达4相连接、用于利用脉冲马达4的动力带动遮蔽组件位移的传动单元。

其中，传动单元包括：与遮蔽组件相连接的齿轮与齿条传动模块3；连接在齿轮与齿条传动模块3和脉冲马达4之间的轴承8。

其中，传感器单元2设置在遮蔽主体7下方，检测玻璃基板承接杆1的位置。在传感器单元2检测到玻璃基板承接杆1完全下降至垫板11之下时，通过传感器线13将该位置信息传递给遮蔽开关控制单元5，遮蔽开关控制单元5控制脉冲马达4开始工作，脉动马达4提供的动力依次通过轴承8和齿轮与齿条传动模块3传至遮蔽主体7，带动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆1上方；在玻璃基板曝光完成后，传感器单元2检测到玻璃基板承接杆1仍在之前垫板11下的位置时，通过传感器线13将该位置信息传递给遮蔽开关控制单元5，遮蔽开关控制单元5控制脉冲马达4开始工作，脉动马达4提供的动力依次通过轴承8和齿轮与齿条传动模块3传至遮蔽主体7，带动遮蔽组件离开玻璃基板承接杆1上方，以使玻璃基板承接杆1自由上升。

进一步地，本实施例的传感器单元2包括设置在遮蔽主体7下方的至少三个激光传感器，一方面多个激光传感器分布在遮蔽主体7的不同角度，能够提高检测的精度；另一方面玻璃基板承接杆升降主要靠三个支架传动，这三个激光传感器可正好与这三个支架的相应位置相对。以上可保证遮蔽组件位移时的安全性，不至于与玻璃基板承接杆1发生碰撞，阻碍玻璃基板承接杆1的自由升降。

本实用新型通过在玻璃基板搭载台垫板11内部增置线性导轨、遮蔽组件以及驱动组件，可有效消除Lift Bar Mura，从而解决了高世代线生产大尺寸TFT基板存在Lift Bar Mura的隐患。相比现有技术，本实用新型的技术方案可适应任何工艺条件变更，以及玻璃基板承接杆相关架构的设计变更，能有效节省后期追加投资成本。

为了保证遮蔽组件和驱动组件的正常工作，需要在遮蔽开关控制单元5中设定工作流程，在遮蔽开关控制单元5中增加传感器参数判断程序，在传感器单元2检测到玻璃基板承接杆1上升-玻璃基板加载-玻璃基板承接杆1下降后，遮蔽开关控制单元5根据传感器单元2传递过来的参数进行判断，驱动遮蔽组件关闭，即驱动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆1上方，曝光机开始进行曝光；在玻璃基板曝光结束之后，传感器单元2检测到玻璃基板承接杆1仍在之前垫板下方的位置，遮蔽开关控制单元5根据传感器单元2传递过来的参数进行判断，驱动遮蔽组件开启，即驱动遮蔽组件离开玻璃基板承接杆1上方，使得玻璃基板承接杆1自由上升以加载玻璃基板。

其中，遮蔽组件具有两个定点位置，分别是Job执行Home位置与机械Home位置，其中Job执行Home位置即是遮蔽组件离开玻璃基板承接杆1上方后，停止位移时所处的位置；机械Home位置是方便设备维护而设置的一个定点位置，尽可能地与玻璃基板搭载台垫板边缘相近即可。在设计遮蔽组件的Job执行Home位置时，尽量使得遮蔽组件开启和关闭的移动范围小，定位精度高；在设计遮蔽组件的机械Home位置时，尽量设计距玻璃基板搭载台垫板边缘较近的位置，这样可以方便更换遮蔽组件的表层以及导轨注油和相关的清洁工作。另外，还可以方便对遮蔽主体底部的激光传感器状态作微调，解决一些传感器感应类的报警。

另外，在布置脉冲马达4、齿轮与齿条传动模块3及遮蔽开关控制单元5在玻璃基板搭载台12上的位置时，需要使这些部件的排布需尽可能地远离玻璃基板搭载台12两侧的线性马达，以防信号干扰。

玻璃基板曝光机上可设置有一个以上的玻璃基板搭载台，根据各世代线的曝光机上玻璃基板搭载台数量的不同，遮蔽组件的结构可根据Lift Bar的数量与排布作灵活变动，只要能够满足在玻璃基板进行曝光时遮挡住Lift Bar，在传输玻璃基板时能够使得Lift Bar自由升降即可。图6为一具体实施例中，玻璃基板曝光机的遮蔽组件的排布示意图，如图6所示，该玻璃基板曝光机具有四个玻璃基板搭载台，在每一个玻璃基板搭载台垫板内的两个相对侧均设置有线性导轨10，遮蔽组件通过联动模块9跨设在线性导轨10上，能够在玻璃基板曝光时遮挡住Lift Bar。

本实用新型的玻璃基板曝光机，在玻璃基板进行曝光前，玻璃基板承接杆落下至垫板之下后，驱动组件带动遮蔽组件位移至玻璃基板承接杆与玻璃基板之间，遮挡住玻璃基板承接杆，由于遮蔽组件表面的反射率与垫板表面的反射率相近，因此在玻璃基板曝光时不会造成曝光不均匀，从而避免在玻璃基板上形成Lift Bar Mura。在玻璃基板完成曝光之后，玻璃基板承接杆需要上升去支撑玻璃基板时，驱动组件带动遮蔽组件离开玻璃基板承接杆上方、使得玻璃基板承接杆可以自由升降。本实用新型的玻璃基板曝光机可以适应任何工艺条件变更，以及Lift Bar相关架构的设计变更，从而有效节省后期追加投资成本。

此外，在玻璃基板进行曝光时，遮蔽组件遮挡住玻璃基板承接杆，减轻了曝光时高能量的紫外光线对玻璃基板承接杆表面的损害，能够延长Lift Bar表层的更换周期，节约耗材更换成本。另外，相较于现有技术，本实用新型的玻璃基板搭载台的整体重量有所减轻，有利于提高玻璃基板搭载台上加载玻璃基板时的运动加速度，使得曝光机的控制精度更高。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种玻璃基板曝光机，包括玻璃基板搭载台、玻璃基板承接杆和位于玻璃基板搭载台之上的垫板，其特征在于，所述曝光机还包括：

设置在所述垫板内两个相对侧的线性导轨；

跨设在所述线性导轨上、能够沿着所述线性导轨位移的遮蔽组件，所述遮蔽组件表面的反射率与所述垫板表面的反射率的差值不大于预设阈值；以及

与所述遮蔽组件相连、用于带动所述遮蔽组件沿着所述线性导轨位移的驱动组件，其中，在玻璃基板曝光前，所述玻璃基板承接杆落下后，所述驱动组件带动所述遮蔽组件位移至所述玻璃基板承接杆与所述玻璃基板之间以遮挡住所述玻璃基板承接杆；并能够在玻璃基板曝光后，所述玻璃基板承接杆上升前，带动所述遮蔽组件离开所述玻璃基板承接杆上方使所述玻璃基板承接杆自由上升。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述垫板的侧面设有凹槽，所述线性导轨设置在所述垫板的凹槽中。

3.根据权利要求1所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述曝光机还包括：

设置在所述线性导轨上的联动模块，所述线性导轨和所述遮蔽组件之间通过所述联动模块衔接。

4.根据权利要求1所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述遮蔽组件包括：

遮蔽主体和覆盖在所述遮蔽主体上的遮蔽表层，所述遮蔽表层的反射率与所述垫板表面的反射率的差值不大于预设阈值。

5.根据权利要求4所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述遮蔽表层采用碳素纤维制作。

6.根据权利要求4所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述遮蔽主体采用乙烯辛烯共聚物-聚烯烃弹性体制作。

7.根据权利要求1所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述驱动组件包括：

设置在所述遮蔽组件下、用于检测所述玻璃基板承接杆的位置的传感器单元；

与所述传感器单元相连接，用于根据传感器单元传递的玻璃基板承接杆的位置信息控制脉冲马达的开关状态的遮蔽开关控制单元；

与所述遮蔽开关控制单元相连接的所述脉冲马达；

与所述脉冲马达相连接、用于利用所述脉冲马达的动力带动所述遮蔽组件位移的传动单元。

8.根据权利要求7所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述传动单元包括：

与所述遮蔽组件相连接的齿轮与齿条传动模块；

连接在所述齿轮与齿条传动模块和所述脉冲马达之间的轴承。

9.根据权利要求7所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述传感器单元包括至少三个传感器。

10.根据权利要求9所述的玻璃基板曝光机，其特征在于，所述传感器为激光传感器。

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