CN202482419U

CN202482419U - 基板镀膜设备

Info

Publication number: CN202482419U
Application number: CN2012200162163U
Authority: CN
Inventors: 叶宗锋; 范继良; 刘惠森
Original assignee: Dongguan Anwell Digital Machinery Co Ltd
Current assignee: Dongguan Anwell Digital Machinery Co Ltd
Priority date: 2012-01-13
Filing date: 2012-01-13
Publication date: 2012-10-10
Anticipated expiration: 2022-01-13

Abstract

本实用新型公开了一种基板镀膜设备，包括腔体、抽真空装置、基板输送装置、蒸发源装置、膜厚监测装置及控制器。腔体内开有与抽真空装置连通的真空腔；基板输送装置承担基板于外界和真空腔之间输送；蒸发源装置内于真空腔内并位于真空腔内的基板正下方且包括装置本体、电子枪、偏转电极和蒸发源承装器；电子枪和蒸发源承装器分别设于装置本体内，偏转电极位于电子枪和蒸发源承装器之间，装置本体的顶端分别开设有电子枪射出口和溅镀开口；膜厚监测装置包括设于真空腔内且位于蒸发源装置和基板之间的膜厚监测仪；控制器分别与抽真空装置、电子枪、偏传电极、基板输送装置及厚膜监测仪电性连接。本实用新型能提高蒸发效率和材料利用率。

Description

基板镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及一种适用于对有机发光二极管中的基板进行镀膜的镀膜设备，尤其涉及一种对有机发光二极管中的基板进行镀膜的基板镀膜设备。

背景技术

玻璃基材等薄板已广泛用于制造LCD-TFT显示屏、有机发光显示器件(OLED)面板、太阳能面板及其他类似者。于此类应用中大多在洁净玻璃上镀覆薄膜，这类大型玻璃基材的制程通常包含实施多个连续步骤，包括如化学气相沉积制程(CVD)、物理气相沉积制程(PVD)、有机物质蒸镀、磁控溅射沉积或蚀刻制程。

由于上述制程的工艺要求均比较严格，尤其是有机物质蒸镀制程，不但需要在完全洁净的空间环境中进行，而且对于玻璃基板的镀膜厚度的要求也相当严格，需要工作人员可以在镀膜过程中做到全程监控，随时了解镀膜层的厚度以使得镀膜后的玻璃基板的镀膜层厚度达到工艺所需要的均匀性要求。其中，在玻璃基板镀膜的过程中，会使用到镀膜设备的蒸发源装置对有机物质进行蒸发，且镀膜设备的蒸发源装置性能的好坏直接影响到玻璃基板镀膜层厚度的均匀性，因此，选择好的镀膜设备的蒸发源装置是确保玻璃基板镀膜层具有均匀性的重要条件之一。但是，现有的镀膜设备的蒸发源装置却存在如下的不足：

现有的镀膜设备的蒸发源装置是把所有的有机物质集中的置于蒸发源装置的加热腔内，然后对蒸发源装置的加热板施加电流以使加热板发热进而把加热腔内的有机物质进行加热蒸发形成蒸发物质，蒸发物质通过蒸发源装置的蒸发源喷嘴后向四周扩散，扩散的蒸发物质贴附于玻璃基板以实现玻璃基板的镀膜。

然而，由于现有镀膜设备的蒸发源装置是通过对加热板施加电流以使加热板发热进而把加热腔内的有机物质进行加热蒸发形成蒸发物质对基板进行蒸镀的，一方面使得热传导和热辐射损失大，降低了蒸发效率低；另一方面蒸发材料的加热较分散，相应地增加了蒸发材料的使用量，从而降低了蒸发材料的利用率；再者，蒸发材料被蒸发时的原子能较小，故使得成膜在基板上的膜层附着力较差，故影响到基板的镀膜质量；另，没法对一些难容的金属和非金属材料(如金、钨及二氧化硅等”进行蒸镀，故缩了现有镀膜设备的适应范围。

因此，急需一种基板镀膜设备来克服上述的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基板镀膜设备，该基板镀膜设备一方面能提高蒸发效率和蒸发材料利用率；另一方面使基板上的膜层附着力较好以提高基板的镀膜质量，还能扩大适用范围。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种基板镀膜设备，适用于对基板蒸镀薄膜层，其中，所述基板镀膜设备包括腔体、抽真空装置、基板输送装置、蒸发源装置、膜厚监测装置及控制器。所述腔体内开设有提供真空环境的真空腔，所述抽真空装置与所述真空腔连通。所述基板输送装置设置于所述腔体上，所述基板输送装置承担基板于外界和所述真空腔之间的输送。所述蒸发源装置内置于所述真空腔内并位于所述真空腔内的基板正下方，所述蒸发源装置包括装置本体及内置于所述装置本体的电子枪、偏转电极和蒸发源承装器；所述电子枪位于所述装置本体内的左端，所述蒸发源承装器位于所述装置本体内的右端，所述偏转电极位于所述电子枪和蒸发源承装器之间，且所述装置本体的顶端分别开设有与所述电子枪对应的电子枪射出口、与蒸发源承装器对应的溅镀开口，所述偏转电极使所述电子枪发出的电子束穿出电子枪射出口并射入所述溅镀开口进而使该电子束蒸发所述蒸发源承装器内的蒸发材料。所述膜厚监测装置包括膜厚监测仪，所述膜厚监测仪设置于所述真空腔内，且所述膜厚监测仪位于所述蒸发源装置和所述真空腔内的基板之间。所述控制器分别与所述抽真空装置、电子枪、偏传电极、基板输送装置及厚膜监测仪电性连接。

较佳地，所述腔体包括相连通的副腔体和主腔体，所述主腔体位于所述副腔体的正上方，所述蒸发源装置设置于所述副腔体的真空腔内，所述基板输送装置承担基板于外界与所述主腔体的真空腔之间的输送，所述膜厚监测仪设置于所述副腔体的真空腔内并位于所述蒸发源装置的上方，且所述膜厚监测装置还设置有与所述膜厚监测仪连接的第一穿通装置，所述第一穿通装置与所述控制器电性连接并设置于所述副腔体上。其中，借助上述的副腔体及主腔体形成的腔体，一方面便于腔体的加工并能降低其制造成本，还便于对蒸发源装置的安装维护和基板输送装置对基板的输送；借助上述的第一穿通装置以确保膜厚监测仪能更可靠地工作。

较佳地，所述基板镀膜设备还包括加热装置，所述加热装置包括与所述控制器电性连接的加热板、热电偶及第二穿通装置，所述加热板设置于所述主腔体的真空腔内并位于所述主腔体的真空腔内的基板正上方，所述热电偶的底端与所述加热板相对应，所述热电偶的顶端伸出所述主腔体外，所述第二穿通装置呈密封的设置于所述热电偶与所述主腔体的连接处。其中，借助上述的加热装置，能对主腔体的真空腔内的基板进行均匀的加热，从而更有效的提高成膜速度及膜层附着力；借助上述的热电偶及第二穿通装置，能实时地将主腔体内的温度反馈于控制器，使控制器根据反馈的温度进行修正加热板的电流，从而使得加热装置能维持一个较优的加热温度上。

较佳地，所述主腔体和副腔体的真空腔内均设置有可拆卸的防污板，且所述主腔体和副腔体上还均设置有观察窗及与外界冷却装置相连接的冷却管，所述主腔体的冷却管位于所述主腔体的与所述加热板相对应的侧壁外，所述主腔体的观察窗位于所述主腔体的侧壁外，且所述主腔体的观察窗与所述主腔体的真空腔内的基板相对应，所述主腔体的冷却管位于所述主腔体的观察窗的上方，所述副腔体的冷却管和观察窗均位于所述副腔体的与所述蒸发源装置相对应的侧壁外，且所述副腔体的观察窗位于所述副腔体的冷却管的上方。其中，借助上述的防污板，防止主腔体和副腔体被污染，从而便于对主腔体及副腔体的维护；同时，副腔体的防污板还能避免电子枪发生的有害电子对副腔体的伤害；借助上述的冷却管，迅速将主腔体和副腔体的热辐射的热量带走，从而使得腔体维护在较优的温度下工作；借助上述主腔体的观察窗，便于操作人员对主腔体的真空腔内的基板镀膜情况的把握；借助上述副腔体的观察窗，便于操作人员对蒸发源装置的蒸发情况的把握。

较佳地，所述基板镀膜设备还包括观察窗遮挡装置，所述观察窗遮挡板装置包括一遮挡板及驱使所述遮挡板旋转的旋转驱动件，所述旋转驱动件安装在所述副腔体的侧壁上，且所述旋转驱动件的一端呈密封的伸入所述副腔体的真空腔内并与所述遮挡板连接，所述遮挡板遮挡所述副腔体的观察窗，从而有效地防止副腔体上的观察窗被污染而影响监控效果。具体地，所述副腔体还设有一维护门，所述膜厚监测仪、第一穿通装置、观察窗遮挡装置及所述副腔体的观察窗均设置于所述维护门上，以便于操作人员对副腔体内的部件进行维护。

较佳地，所述基板输送装置包括磁流体密封件、传送轮及与所述控制器电性连接的基板驱动器，所述主腔体沿该主腔体的前后方向设置有两轨道，所述轨道分别位于所述主腔体内的真空腔的左右两端，所述传送轮沿所述主腔体的前后方向呈排状的设置于每一所述轨道上，两所述轨道上的传送轮之间形成供输送基板用的输送区，所述基板驱动器安装在所述主腔体上，且所述基板驱动器的输出轴沿水平方向伸入所述主腔体的真空腔内并与所述传送轮连接，所述磁流体密封件安装在所述主腔体上并密封所述基板驱动器的输出轴与主腔体的连接处。其中，借助上述的磁流体密封件、传送轮及与控制器电性连接的基板驱动器组成的基板输送装置，使得基板输送装置能更可靠地承担基板于外界与主腔体的真空腔之间输送，并能简化基板输送装置的结构。具体地，所述基板输送装置还包括承载于所述输送区内的小车支架，所述小车支架上设置有数个基板夹持爪，所述基板夹持爪呈分布于基板四周的设置形成基板夹持区，使得基板能可靠地夹紧于小车支架上，并借助小车支架使得基板能更可靠地于外界与主腔体的真空腔内之间输送。同时，所述轨道内开设有置与外界冷却装置相连通的冷却回路，以便将轨道上被热辐射产生的热量带走，从而维护主腔体内的处于较优的温度中。

较佳地，所述基板镀膜设备还包括挡板装置，所述挡板装置包括蒸发挡板及与所述控制器电性连接的挡板驱动器，所述挡板驱动器的输出轴呈密封的伸入所述副腔体的真空腔内并与所述蒸发挡板连接，所述蒸发挡板设置于所述蒸发源装置与所述主腔体内的真空腔的基板之间，且所述蒸发挡板开启或隔开所述主腔体的真空腔内的基板与所述蒸发源承装器的空间连通。其中，借助上述的挡板装置，能严格的控制基板的蒸镀时间，从而提高了基板的镀膜质量。

较佳地，所述抽真空装置包括真空管道及与所述控制器电性连接的真空泵，所述真空管道上设置有粗抽真空阀、高抽真空阀、充气阀及真空规。其中，借助粗抽真空阀和高抽真空阀的配合，一方面缩短腔体内形成真空环境的时间，另一方面使得腔体内形成的真空环境的质量更高；借助上述的真空规，便于操作人员对腔体内的真空环境的把握；借助上述的充气阀，便于操作人员对腔体内的部件维护。具体地，如下：

所述抽真空装置还包括设置于所述真空管道上的冷凝泵，所述冷凝泵与所述真空管道之间减震组件，所述减震组件包括减震气弹簧及减震波纹管，所述减震波纹管的上端与所述真空管道连接，所述减震波纹管的下端与所述冷凝泵连接，所述减震气弹簧分布于所述波震波纹管的四周，且所述减震气弹簧的两端分别与所述真空管道及冷凝泵连接。其中，借助波震波纹管和减震气弹簧，有效地削弱工作的冷凝泵对腔体的震动；借助上述的冷凝泵，为腔体能创造更优的真空环境。

与现有技术相比，由于本实用新型的电子枪位于装置本体内的左端，蒸发源承装器位于装置本体内的右端，偏转电极位于电子枪和蒸发源承装器之间，且装置本体的顶端分别开设有与电子枪对应的电子枪射出口、与蒸发源承装器对应的溅镀开口，故借助偏转电极使电子枪发出的电子束穿出电子枪射出口并射入溅镀开口进而使该电子束蒸发蒸发源承装器内的蒸发材料，一方面使得电子枪对蒸发材料进行蒸发时的热效率高，热传导和热辐射损失少，从而提高了蒸发效率；另一方面对蒸发材料的加热集中，相应地减少蒸发材料的浪费，从而提高了蒸发材料的利用率；同时，以电子束对蒸发材料进行蒸发，使得蒸发时的原子动能较大，相应地提高了基板上成膜后膜层的附着力，从而提高了基板的镀膜质量，并结合膜厚监测仪，因而使得基板镀膜的一致性极好。再者，以电子束对蒸发材料进行蒸发，使得本实用新型的基板镀膜设备能对一些难容的金属和非金属材料的进行蒸发镀膜(如金、钨或二氧化硅等)，从而扩大了本实用新型的基板镀膜设备的使用范围。另，本实用新型的基板镀膜设备在控制器的控制下能适应于自动化控制的场合中。

附图说明

图1是本实用新型基板镀膜设备的结构示意图。

图2是图1所示的加热装置和基板输送装置安装在主腔体上的结构示意图。

图3是图1所示的膜厚监测装置、蒸发源装置、挡板装置及观察窗遮挡装置安装在副腔体上的结构示意图。

图4是本实用新型基板镀膜设备的基板输送装置的小车支架的结构示意图。

图5是本实用新型基板镀膜设备的蒸发源装置的结构示意图。

图6是本实用新型基板镀膜设备的抽真空装置的结构示意图。

具体实施方式

为了详细说明本实用新型的技术内容、构造特征，以下结合实施方式并配合附图作进一步说明。

请参阅图1至图5，本实用新型基板镀膜设备100用于对基板200蒸镀薄膜层，其中，本实用新型的基板镀膜设备100包括腔体10、抽真空装置20、基板输送装置30、蒸发源装置40、膜厚监测装置50及控制器。所述腔体10内开设有提供真空环境的真空腔11，为基板200的镀膜创造真空环境，所述抽真空装置20与所述真空腔11连通。所述基板输送装置30设置于所述腔体10上，所述基板输送装置30承担基板200于外界和所述真空腔11之间的输送。所述蒸发源装置40内置于所述真空腔11内并位于所述真空腔11内的基板200正下方，所述蒸发源装置40包括装置本体41及内置于所述装置本体41的电子枪42、偏转电极43和蒸发源承装器44。所述电子枪42位于所述装置本体41内的左端，所述蒸发源承装器44较优选择为坩埚以简化蒸发源承装器44的结构，该蒸发源承装器44位于所述装置本体41内的右端，所述偏转电极43位于所述电子枪42和蒸发源承装器44之间，且所述装置本体41的顶端分别开设有与所述电子枪42对应的电子枪射出口41a、与蒸发源承装器44对应的溅镀开口41b，所述偏转电极43使所述电子枪42发出的电子束穿出电子枪射出口41a并射入所述溅镀开口41b进而使该电子束蒸发所述蒸发源承装器44内的蒸发材料300，而电子束的射向如图5中的箭头A所示的方向，蒸发材料300被蒸发后的蒸发物质溅射方向如图5中的箭头B所示的方向。所述膜厚监测装置50包括膜厚监测仪51，所述膜厚监测仪51设置于所述真空腔11内，且所述膜厚监测仪51位于所述蒸发源装置40和所述真空腔11内的基板200之间。所述控制器分别与所述抽真空装置20、电子枪42、偏传电极43、基板输送装置30及厚膜监测仪51电性连接。

其中，为了便于腔体10稳定的置放于地面上，故在腔体10上连接一支承架15；为了便于腔体10的加工并能降低其制造成本，还便于对蒸发源装置40的安装维护和基板输送装置30对基板200的输送，故所述腔体10包括相连通的副腔体10b和主腔体10a，所述主腔体10a位于所述副腔体10b的正上方，所述蒸发源装置40设置于所述副腔体10b的真空腔11b内，所述基板输送装置30承担基板200于外界与所述主腔体10a的真空腔11a之间的输送，所述膜厚监测仪51设置于所述副腔体10b的真空腔11b内并位于所述蒸发源装置40的上方，且所述膜厚监测装置50还设置有与所述膜厚监测仪51连接的第一穿通装置52，所述第一穿通装置52与所述控制器电性连接并设置于所述副腔体10b上，并借助第一穿通装置52能以确保膜厚监测仪51能做更可靠的工作；为了能严格的控制基板200的蒸镀时间以提高基板200的镀膜质量，故本实用新型的基板镀膜设备100还设置有挡板装置90，所述挡板装置90包括蒸发挡板91及与所述控制器电性连接的挡板驱动器92，该挡板驱动器92较优选择为一电机以简化提供旋转动力的挡板驱动器92的结构，且所述挡板驱动器92的输出轴92a呈密封的伸入所述副腔体10b的真空腔11b内并与所述蒸发挡板91连接，所述蒸发挡板91设置于所述蒸发源装置40与所述主腔体10a内的真空腔11a的基板200之间，且所述蒸发挡板91开启或隔开所述主腔体10a的真空腔11a内的基板200与所述蒸发源承装器44的空间连通；为了能对主腔体10a的真空腔11a内的基板200进行均匀的加热，从而更有效的提高成膜速度及膜层附着力，还能实时地将主腔体10a内的温度反馈于控制器，使控制器根据反馈的温度进行电流的修正，从而使得主腔体10a维持一个较优的加热温度上，故本实用新型的基板镀膜设备100还设置有加热装置60，该加热装置60包括与所述控制器电性连接的加热板61、热电偶62及第二穿通装置63。所述加热板61通过固定件64安装在所述主腔体10a的真空腔11a内，且加热板61并位于所述主腔体10a的真空腔11a内的基板200正上方，以便对基板200的一面进行均匀的加热；所述热电偶62的底端与所述加热板61相对应，所述热电偶62的顶端伸出所述主腔体10a外，所述第二穿通装置63呈密封的设置于所述热电偶62与所述主腔体10a的连接处。更具体地，如下：

较优者，所述主腔体10a的真空腔11a和副腔体10b的真空腔11b内均设置有可拆卸的防污板71，且所述主腔体10a和副腔体10b上还均设置有观察窗73及与外界冷却装置相连接的冷却管72。所述主腔体10a的冷却管72位于所述主腔体10a的与所述加热板61相对应的侧壁外，所述主腔体10a的观察窗73位于所述主腔体10a的侧壁外，且所述主腔体10a的观察窗73与所述主腔体10a的真空腔11a内的基板200相对应，所述主腔体10a的冷却管72位于所述主腔体10a的观察窗73的上方；所述副腔体10b的冷却管72和观察窗73均位于所述副腔体10b的与所述蒸发源装置40相对应的侧壁外，且所述副腔体10b的观察窗73位于所述副腔体10b的冷却管72的上方。其中，借助上述的防污板71，防止主腔体10a和副腔体10b被污染，从而便于对主腔体10a及副腔体10b的维护；同时，副腔体10b的防污板71还能避免电子枪42发生的有害电子对副腔体10b的伤害；借助上述的冷却管72，迅速将主腔体10a和副腔体10b的热辐射的热量带走，从而使得腔体10维护在较优的温度下工作；借助上述主腔体10a的观察窗73，便于操作人员对主腔体10a的真空腔11b内的基板200镀膜情况的把握；借助上述副腔体10b的观察窗73，便于操作人员对蒸发源装置40的蒸发情况的把握。

同时，本实用新型基板镀膜设备100还设置有观察窗遮挡装置80，该观察窗遮挡板装置80包括一遮挡板81及驱使所述遮挡板81旋转的旋转驱动件82，该旋转驱动件82可以为手动的，也可以是机械驱动的，且所述旋转驱动件82安装在所述副腔体10b的侧壁上，所述旋转驱动件82的一端呈密封的伸入所述副腔体10b的真空腔11b内并与所述遮挡板81连接，所述遮挡板81遮挡所述副腔体10b的观察窗73，从而有效地防止副腔体10b上的观察窗73被污染而影响监控效果。其中，为了便于操作人员对副腔体10b内的部件进行维护，故在所述副腔体10b还设有一维护门12，该维护门12通过门锁12a连接于副腔体10b上，并通过该门锁12a将维护门12锁定于副腔体10b上，又或者使维护门12打开，而上述的膜厚监测仪51、第一穿通装置52、观察窗遮挡装置80及所述副腔体10b的观察窗73均设置于所述维护门12上。

再者，上述提到的基板输送装置30包括磁流体密封件31、传送轮32及与所述控制器电性连接的基板驱动器33。所述主腔体10a沿该主腔体10a的前后方向设置有两轨道13，该轨道13分别位于所述主腔体10a内的真空腔11a的左右两端，所述传送轮32沿所述主腔体10a的前后方向呈排状的设置于每一所述轨道13上，两所述轨道13上的传送轮32之间形成供输送基板200用的输送区(图中未注)，所述基板驱动器33较优选择为一电机以简化提供旋转动力的基板驱动器33的结构，且基板驱动器33安装在所述主腔体10a上，所述基板驱动器33的输出轴33a沿水平方向伸入所述主腔体10a的真空腔11a内并与所述传送轮32连接，所述磁流体密封件31安装在所述主腔体10a上并密封所述基板驱动器33的输出轴33a与主腔体10a的连接处。具体地，所述基板输送装置30还包括承载于所述输送区内的小车支架34，该小车支架34上设置有数个基板夹持爪34a，所述基板夹持爪34a呈分布于基板200四周的设置形成基板夹持区34b，以使得基板200能可靠地夹紧于小车支架34上，并借助小车支架34使得基板200能更可靠地于外界与主腔体10a的真空腔11a内之间输送。同时，所述轨道13内开设有置与外界冷却装置相连通的冷却回路13a，以便将轨道13上被热辐射产生的热量带走，从而维护主腔体10a内的处于较优的温度中。其中，借助上述的磁流体密封件31、传送轮32及与控制器电性连接的基板驱动器33组成的基板输送装置30，使得基板输送装置30能更可靠地承担基板200于外界与主腔体10a的真空腔11a之间输送，并能简化基板输送装置30的结构。

最后结合图6，上述提到的抽真空装置20包括真空管道21及与所述控制器电性连接的真空泵(图中未示)，所述真空管道21均与主腔体10a的真空腔11a和副腔体10b的真空腔11b连通，且真空管道21上设置有粗抽真空阀21a、高抽真空阀21b、充气阀21c及真空规21d。同时，上述提到的抽真空装置20还设置有冷凝泵23，该冷凝泵23设置于所述真空管道21上，且冷凝泵23与所述真空管道21之间减震组件24，该减震组件24包括减震气弹簧24a及减震波纹管24b，所述减震波纹管24b的上端与所述真空管道21连接，所述减震波纹管24b的下端与所述冷凝泵23连接，所述减震气弹簧24a分布于所述波震波纹管24b的四周，且所述减震气弹簧24a的两端分别与所述真空管道21及冷凝泵23连接。目的是借助波震波纹管24b和减震气弹簧24a，有效地削弱工作的冷凝泵23对腔体10的震动，同时还可以借助冷凝泵23，为腔体10能创造更优的真空环境。其中，通过粗抽真空阀21a和高抽真空阀21b的配合，一方面缩短腔体10内形成真空环境的时间，另一方面使得腔体10内形成的真空环境的质量更高；通过上述的真空规21d，便于操作人员对腔体10内的真空环境的把握；通过上述的充气阀21c，便于操作人员对腔体10内部分的维护。

结合附图，对本实用新型的基板镀膜设备的工作原理进行说明：工作时，基板输送装置30使承载有基板200的小车支架34由外界输入到主腔体10a的真空腔11a时，此时的抽真空装置20的粗真空阀21a在大气状态下打开，并在真空泵的工作下，使腔体10的真空抽至10^-2毫帕以下后，再关闭粗真空阀21a；接着打开高抽真空阀21b并启动冷凝泵23，使腔体10的真空被抽至10^-7毫帕，从而达到蒸发材料300蒸发的工艺环境，并借助真空规21d对腔体10的真空度进行实时的监测；然后，控制器使蒸发源装置40和加热装置60工作，工作的电子枪42在偏传电极43的引导下，使得电子枪42发出的电子束穿出电子枪射出口41a并射入所述溅镀开口41b，进而使该电子束蒸发所述蒸发源承装器44内的蒸发材料300，该蒸发材料300被蒸发的物质沿着图5中箭头B所指蒸发，而工作的加热装置60使得主腔体10a的真空腔11a内的基板200受热更均均，且加热装置60还通过热电偶62对加热板61的电流进行修正，从而使加热装置60为主腔体10a的真空腔11a创造一个较优的温度环境；此时，控制器控制挡板驱动器92工作，使工作的挡板驱动器92驱使蒸发挡板91开启蒸发源装置40与主腔体10a的真空腔11a内的基板200之间的空间连通，此时的镀膜物质便镀于主腔体10a的真空腔11a内的基板200上，从而完成基板200的镀膜过程。其中，在基板200镀膜过程中，控制器还控制膜厚监测装置50工作，使膜厚监测仪51实时监测镀膜物质的浓度以确保基板200镀膜的可靠性；同时，控制器还根据实际情况使冷却管72及冷却回路13a与外界冷却装置相连通而带走热辐射产生的热量以确保腔体10所要的合适温度。再者，操作人员还可以根据观察窗73对腔体10内基板200的镀膜及蒸发源装置40的蒸发情况的把握。

本实用新型的电子枪42位于装置本体41内的左端，蒸发源承装器44位于装置本体41内的右端，偏转电极43位于电子枪2和蒸发源承装器44之间，且装置本体41的顶端分别开设有与电子枪42对应的电子枪射出口41a、与蒸发源承装器44对应的溅镀开口41b，故借助偏转电极43使电子枪42发出的电子束穿出电子枪射出口41a并射入溅镀开口41b进而使该电子束蒸发蒸发源承装器44内的蒸发材料300，一方面使得电子枪42对蒸发材料300进行蒸发时的热效率高，热传导和热辐射损失少，从而提高了蒸发效率；另一方面对蒸发材料300的加热集中，相应地减少蒸发材料300的浪费，从而提高了蒸发材料300的利用率；同时，以电子束对蒸发材料300进行蒸发，使得蒸发时的原子动能较大，相应地提高了基板200上成膜后膜层的附着力，从而提高了基板200的镀膜质量，并结合膜厚监测仪51，因而使得基板200镀膜的一致性极好。再者，以电子束对蒸发材料300进行蒸发，使得本实用新型的基板镀膜设备100能对一些难容的金属和非金属材料的进行蒸发镀膜(如金、钨或二氧化硅等)，从而扩大了本实用新型的基板镀膜设备100的使用范围。另，本实用新型的基板镀膜设备100在控制器的控制下能适应于自动化控制的场合中。

值得注意者，上述提到的第一穿通装置52和第二穿通装置63的结构及工作原理均为本领域普通技术人员所熟知的，故在此不再对他们的结构进行详细描述。

以上所揭露的仅为本实用新型的较佳实例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属于本实用新型所涵盖的范围。

Claims

1.一种基板镀膜设备，适用于对基板蒸镀薄膜层，其特征在于，所述基板镀膜设备包括：

腔体，所述腔体内开设有提供真空环境的真空腔；

抽真空装置，所述抽真空装置与所述真空腔连通；

基板输送装置，所述基板输送装置设置于所述腔体上，所述基板输送装置承担基板于外界和所述真空腔之间的输送；

蒸发源装置，所述蒸发源装置内置于所述真空腔内并位于所述真空腔内的基板正下方，所述蒸发源装置包括装置本体及内置于所述装置本体的电子枪、偏转电极和蒸发源承装器，所述电子枪位于所述装置本体内的左端，所述蒸发源承装器位于所述装置本体内的右端，所述偏转电极位于所述电子枪和蒸发源承装器之间，且所述装置本体的顶端分别开设有与所述电子枪对应的电子枪射出口、与蒸发源承装器对应的溅镀开口，所述偏转电极使所述电子枪发出的电子束穿出电子枪射出口并射入所述溅镀开口进而使该电子束蒸发所述蒸发源承装器内的蒸发材料；

膜厚监测装置，所述膜厚监测装置包括膜厚监测仪，所述膜厚监测仪设置于所述真空腔内，且所述膜厚监测仪位于所述蒸发源装置和所述真空腔内的基板之间；以及

控制器，所述控制器分别与所述抽真空装置、电子枪、偏传电极、基板输送装置及厚膜监测仪电性连接。

2.根据权利要求1所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述腔体包括相连通的副腔体和主腔体，所述主腔体位于所述副腔体的正上方，所述蒸发源装置设置于所述副腔体的真空腔内，所述基板输送装置承担基板于外界与所述主腔体的真空腔之间的输送，所述膜厚监测仪设置于所述副腔体的真空腔内并位于所述蒸发源装置的上方，且所述膜厚监测装置还设置有与所述膜厚监测仪连接的第一穿通装置，所述第一穿通装置与所述控制器电性连接并设置于所述副腔体上。

3.根据权利要求2所述的基板镀膜设备，其特征在于，还包括加热装置，所述加热装置包括与所述控制器电性连接的加热板、热电偶及第二穿通装置，所述加热板设置于所述主腔体的真空腔内并位于所述主腔体的真空腔内的基板正上方，所述热电偶的底端与所述加热板相对应，所述热电偶的顶端伸出所述主腔体外，所述第二穿通装置呈密封的设置于所述热电偶与所述主腔体的连接处。

4.根据权利要求2或3所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述主腔体和副腔体的真空腔内均设置有可拆卸的防污板，且所述主腔体和副腔体上还均设置有观察窗及与外界冷却装置相连接的冷却管，所述主腔体的冷却管位于所述主腔体的与所述加热板相对应的侧壁外，所述主腔体的观察窗位于所述主腔体的侧壁外，且所述主腔体的观察窗与所述主腔体的真空腔内的基板相对应，所述主腔体的冷却管位于所述主腔体的观察窗的上方，所述副腔体的冷却管和观察窗均位于所述副腔体的与所述蒸发源装置相对应的侧壁外，且所述副腔体的观察窗位于所述副腔体的冷却管的上方。

5.根据权利要求4所述的基板镀膜设备，其特征在于，还包括观察窗遮挡装置，所述观察窗遮挡板装置包括一遮挡板及驱使所述遮挡板旋转的旋转驱动件，所述旋转驱动件安装在所述副腔体的侧壁上，且所述旋转驱动件的一端呈密封的伸入所述副腔体的真空腔内并与所述遮挡板连接，所述遮挡板遮挡所述副腔体的观察窗。

6.根据权利要求5所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述副腔体还设有一维护门，所述膜厚监测仪、第一穿通装置、观察窗遮挡装置及所述副腔体的观察窗均设置于所述维护门上。

7.根据权利要求2所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述基板输送装置包括磁流体密封件、传送轮及与所述控制器电性连接的基板驱动器，所述主腔体沿该主腔体的前后方向设置有两轨道，所述轨道分别位于所述主腔体内的真空腔的左右两端，所述传送轮沿所述主腔体的前后方向呈排状的设置于每一所述轨道上，两所述轨道上的传送轮之间形成供输送基板用的输送区，所述基板驱动器安装在所述主腔体上，且所述基板驱动器的输出轴沿水平方向伸入所述主腔体的真空腔内并与所述传送轮连接，所述磁流体密封件安装在所述主腔体上并密封所述基板驱动器的输出轴与主腔体的连接处。

8.根据权利要求7所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述基板输送装置还包括承载于所述输送区内的小车支架，所述小车支架上设置有数个基板夹持爪，所述基板夹持爪呈分布于基板四周的设置形成基板夹持区。

9.根据权利要求7所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述轨道内开设有置与外界冷却装置相连通的冷却回路。

10.根据权利要求2所述的基板镀膜设备，其特征在于，还包括挡板装置，所述挡板装置包括蒸发挡板及与所述控制器电性连接的挡板驱动器，所述挡板驱动器的输出轴呈密封的伸入所述副腔体的真空腔内并与所述蒸发挡板连接，所述蒸发挡板设置于所述蒸发源装置与所述主腔体内的真空腔的基板之间，且所述蒸发挡板开启或隔开所述主腔体的真空腔内的基板与所述蒸发源承装器的空间连通。

11.根据权利要求1所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述抽真空装置包括真空管道及与所述控制器电性连接的真空泵，所述真空管道上设置有粗抽真空阀、高抽真空阀、充气阀及真空规。

12.根据权利要求11所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述抽真空装置还包括设置于所述真空管道上的冷凝泵，所述冷凝泵与所述真空管道之间减震组件。

13.根据权利要求12所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述减震组件包括减震气弹簧及减震波纹管，所述减震波纹管的上端与所述真空管道连接，所述减震波纹管的下端与所述冷凝泵连接，所述减震气弹簧分布于所述波震波纹管的四周，且所述减震气弹簧的两端分别与所述真空管道及冷凝泵连接。